- •Зиновьев в. Г., Карпов в. В., Фиалковский о, п. Процессы полупроводниковых производств
- •Часть I
- •Содержание
- •1. Общие вопросы полупроводникового производства
- •1.1. Области применения полупроводниковых материалов
- •Классификация полупроводниковых приборов
- •Преобразователи внешних воздействий:
- •1.2. Общие задачи, решаемые в технологии полупроводниковых материалов
- •Соблюдение производственной чистоты
- •Обеспечение микроклимата
- •Подготовка основных и вспомогательных материалов, используемых в полупроводниковом производстве. Требования к материалам
- •Параметры воды
- •2. Процессы кристаллизации
- •2.1. Гомогенная кристаллизация
- •2.2. Гетерогенная кристаллизация
- •3. Методы выращивания полупроводниковых монокристаллов
- •3.1. Методы выращивания объемных монокристаллов из расплава
- •3.1.1. Тигельные методы
- •Метод горизонтальной зонной плавки.
- •Метод вертикальной зонной плавки.
- •3.1.2. Форма кристаллов. Псевдограни.
- •3.1.3. Бестигельные методы получения монокристаллов
- •Метод Вернейля.
- •Метод гарниссажной плавки.
- •Метод вытягивания с пьедестала.
- •Бестигельная зонная плавка.
- •Метод плавки в холодном тигле.
- •3.2. Методы получения монокристаллов из растворов-расплавов
- •Метод зонной плавки в температурном градиенте.
- •3.3. Методы получения монокристаллов из газовой фазы
- •Метод сублимации - конденсации
- •Метод газового транспорта
- •Метод кристаллизации вещества, синтезированного в газовой фазе
- •3.4. Методы получения профилированных кристаллов
- •4. Распределение примесей в процессах кристаллизации
- •4.1. Равновесный коэффициент распределения
- •4.2. Эффективный коэффициент распределения
- •4.3. Особенности распределения примеси по длине кристалла, получаемого из расплава
- •4.3.1. Направленная кристаллизация
- •Равновесная кристаллизация (рис. 40,а).
- •Неравновесная кристаллизация (рис. 40,б).
- •Зонная плавка.
- •Список литературы
- •Часть I
-
Горизонтальная направленная кристаллизация (ГНК). Осуществляется в двухзонной печи, в холодной зоне которой помещается избыток летучего компонента BV, аналогичной, изображенной на рис. 20. Отличие заключается в том, что в контейнер загружается раствор-расплав, отвечающий по составу температуре ликвидуса. Температура холодного конца Тх.к. выбирается исходя из условия равновесного давления пара летучего компонента над раствором-расплавом. Создание необходимого переохлаждения может быть реализовано двумя способами либо механическим перемещением ампулы в градиентной печи, либо программируемом повышении температуры холодного конца печи.
-
Метод зонной плавки в температурном градиенте.
Лодочка с поликристаллом, затравкой и шихту раствора-расплава, по составу насыщенного относительно компонента BV при температуре Т1 концентрации С1, помещают в печь, имеющую градиент температур по длине (рис. 32.).
Рис. 32. Схема зонной плавки в температурном градиенте: 1 – поликристалл; 2 – раствор-расплав; 3 – затравка.
В нашем случае затравка располагается в правой части. Шихта расплавляется, однако, насыщенный раствор-расплав относительно компонента BV при температуре Т1 на правой границе оказывается ненасыщенным на левой при Т2. Поликристалл начинает растворяться для достижения равновесной концентрации С2 на левой границе раздела фаз. Образуется градиент концентрации компонента BV в расплаве и по мере его уменьшения в результате выравнивающей диффузии наступает пересыщение расплава на правой границе и на затравке начинается рост монокристалла AlllBV. В то же время, диффузия обедняет расплав по компоненту BV на левой границе, что приводит к дальнейшему растворению поликристалла. Иными словами, из-за возникающего градиента концентраций растворенного вещества в жидкой фазе возникает диффузионный массоперенос компонента BV от левой к правой границе расплавленной зоны. Это, в свою очередь, приводит к движению зоны в сторону высоких температур. Для достаточно широких расплавленных зон в предположении диффузионного переноса вещества через зону скорость перемещения зоны (f) пропорциональна потоку растворенного вещества в расплаве.
, (27)
где dC/dT – наклон линии ликвидус, dT/dx – температурный градиент в расплаве. Более общее рассмотрение кинетики процесса зонной плавки в температурном градиенте можно найти в [д.л. 14].
-
Метод Чохральского. В тигель дополнительно вводится сетка, под которой находится кристаллический материал (рис. 33.), т.е. реализуется подпитка из твердой фазы (сетка нужна для того, чтобы кристаллы не всплывали).
.
Рис. 33. Выращивание монокристаллов методом Чохральского из растворов-расплавов: 1 – затравка; 2 – монокристалл; 3 – раствор-расплав, 4 – сетка; 5 – куски поликристаллического источника.
Также подпитка из твердой фазы может осуществляться путем плавления поликристаллического AIIIBV, плавно опускаемого в расплав (подробнее об этом способе поговорим ниже).
3.3. Методы получения монокристаллов из газовой фазы
Методы можно условно подразделить на три группы:
-
Сублимация источника при высокой температуре и последующей конденсации паров полупроводникового вещества на более холодной затравке или подложке.
-
Использование газотранспортных реакций для переноса вещества от источника к затравке или подложке.
-
Кристаллизации вещества, синтезированного в газовой фазе.
Методы применяются для материалов с высокой летучестью компонентов или материалов, трудно синтезируемых в расплавах.
При кристаллизации из газовой фазы выделяют следующие стадии:
-
подвод кристаллизуемого вещества к фронту кристаллизации;
-
процессы адсорбции и десорбции на поверхности кристаллизации;
-
процессы химического взаимодействия в газовой фазе и на поверхности;
-
процессы встраивания атомов вещества в кристаллизуемую решетку.
Каждая из стадий может быть лимитирующей; условия процесса выбираются таким образом, чтобы процесс ограничивался подводом материала к фронту кристаллизации или процессами адсорбции и десорбции на поверхности кристаллизации. Скорость диффузии в газовой фазе значительно выше, чем при выращивании из растворов-расплавов, но ниже, чем при выращивании из собственного расплава.