- •Зиновьев в. Г., Карпов в. В., Фиалковский о, п. Процессы полупроводниковых производств
- •Часть I
- •Содержание
- •1. Общие вопросы полупроводникового производства
- •1.1. Области применения полупроводниковых материалов
- •Классификация полупроводниковых приборов
- •Преобразователи внешних воздействий:
- •1.2. Общие задачи, решаемые в технологии полупроводниковых материалов
- •Соблюдение производственной чистоты
- •Обеспечение микроклимата
- •Подготовка основных и вспомогательных материалов, используемых в полупроводниковом производстве. Требования к материалам
- •Параметры воды
- •2. Процессы кристаллизации
- •2.1. Гомогенная кристаллизация
- •2.2. Гетерогенная кристаллизация
- •3. Методы выращивания полупроводниковых монокристаллов
- •3.1. Методы выращивания объемных монокристаллов из расплава
- •3.1.1. Тигельные методы
- •Метод горизонтальной зонной плавки.
- •Метод вертикальной зонной плавки.
- •3.1.2. Форма кристаллов. Псевдограни.
- •3.1.3. Бестигельные методы получения монокристаллов
- •Метод Вернейля.
- •Метод гарниссажной плавки.
- •Метод вытягивания с пьедестала.
- •Бестигельная зонная плавка.
- •Метод плавки в холодном тигле.
- •3.2. Методы получения монокристаллов из растворов-расплавов
- •Метод зонной плавки в температурном градиенте.
- •3.3. Методы получения монокристаллов из газовой фазы
- •Метод сублимации - конденсации
- •Метод газового транспорта
- •Метод кристаллизации вещества, синтезированного в газовой фазе
- •3.4. Методы получения профилированных кристаллов
- •4. Распределение примесей в процессах кристаллизации
- •4.1. Равновесный коэффициент распределения
- •4.2. Эффективный коэффициент распределения
- •4.3. Особенности распределения примеси по длине кристалла, получаемого из расплава
- •4.3.1. Направленная кристаллизация
- •Равновесная кристаллизация (рис. 40,а).
- •Неравновесная кристаллизация (рис. 40,б).
- •Зонная плавка.
- •Список литературы
- •Часть I
-
Метод вытягивания с пьедестала.
Метод отличается от предыдущего тем, что с помощью индукционного нагрева, на поверхности поликристалла создается расплавленная зона, из которой происходит вытягивание монокристалла (рис. 27,б.). Метод применим только для материалов с высокой электропроводностью, что создает трудности в случае выращивания собственных полупроводников.
-
Бестигельная зонная плавка.
Метод заключается в локальном плавлении части вертикально расположенного слитка с последующим перемещением расплавленной зоны. Локальный разогрев осуществляют с помощью высокочастотного одновиткового индуктора (рис. 28.).
Плавящаяся часть подставляет собой поликристалл, а кристаллизующаяся – монокристалл. Для обеспечения монокристаллического роста первоначально зона формируется на границе раздела поликристаллического кристалла и специально ориентированной монокристаллической затравки. Обеспечение плоскостности фронта кристаллизации обеспечивается вращение в противоположных направлениях затравки и поликристалла.
Рис. 28. Метод бестигельной зонной плавки («плавающей» зоны) с диаметром индуктора меньше (а) и больше (б) диаметра слитка: 1 – слиток; 2 – расплавленная зона; 3 – индуктор.
Форма расплавленной зоны будет стабильна при условии равновесия в ней давлений создаваемых силами поверхностного натяжения и силой тяжести. Расплавленная зона удерживается за счет сил поверхностного натяжения. Максимальная длина расплавленной зоны определяется при постоянстве диаметров верхней и нижней частей слита из выражения:
, (26)
где g – ускорение свободного падения; .- плотность жидкой фазы; - поверхностное натяжение расплава.
Форма мениска зависит от направления движения зоны и соотношения диаметров плавящейся и кристаллизующейся частей слитка (рис. 29.). (В конечном итоге при постоянстве поверхностного натяжения стабильность мениска определяется массой расплава и площадью нижней поверхности расплавленной зоны).
Рис. 29. Форма мениска расплавленной зоны в зависимости от направления движения зоны при равных диаметрах поли- и монокристалла (а, б) и вне зависимости от направления движения зоны при неравенстве диаметров (в). 1 – поликристалл; 2 – монокристалл; 3 – расплавленная зона.
При диаметре индуктора больше диаметра поликристалла обычно диаметр монокристалла повторяет диаметр поликристалла. Например, этот метод применим для получения монокристаллического кремния диаметром 4045 мм (рис. 29, а и б).
Для увеличения диаметра монокристалла пытались реализовать разращивание монокристалла для реализации ситуации, показанной на рис. 29,в. Однако в этом случае необходимо обеспечить программируемую подачу поликристалла в расплавленную зону.
Другим решением является использование индуктора, с меньшим диаметром витка, чем диаметр проплавляемого слитка. В этом случае создается более равномерное тепловое поле. Мениск расплава в этом случае вогнутый (рис. 28,б). При этом движение зоны только вверх.
Такой способ выращивания позволяет получать кристаллы кремния больших размеров с диаметром до 200 мм. Метод обеспечивает высокое структурное совершенство кристаллов, позволяет гибко управлять процессом. Так получают наиболее чистые марки кремния.