
- •Часть II
- •1. Лазерный нагрев материалов 6
- •2. Лазерное разрушение поглощающих материалов 83
- •3. Современные представления об оптическом пробое прозрачных сред 121
- •Введение
- •1. Лазерный нагрев материалов
- •1.1. Общая характеристика нагревания лазерным излучением
- •1.1.1. Тепловые эффекты в конденсированных средах
- •1.1.2. Основные особенности температурной кинетики при лазерном воздействии
- •1.1.3. Теплопроводностные механизмы отвода тепла. Уравнение теплопроводности, начальное и граничные условия
- •1.2. Термические эффекты, сопровождающие лазерный нагрев
- •1.2.1. Термомеханические эффекты
- •1.2.2. Фазовые переходы в твердом состоянии (лазерное упрочнение)
- •1.2.3. Эмиссионные процессы
- •1.2.4. Основные особенности лазерной активации процессов аррениусовского типа
- •1.2.5. Диффузионно-химические явления
- •1.2.6. Лазерное плавление поверхности
- •1.2.6.1. Вакансионная модель плавления.
- •1.3. Линейные режимы лазерного нагрева.
- •1.3.1. Нагрев полупространства экспоненциально спадающим с глубиной тепловым источником.
- •1.3.2. Нагрев металла импульсным излучением постоянной мощности
- •1.3.3. Нагрев материала лазерным пучком с гауссовым профилем
- •1.3.4. Нагрев материала постоянным лазерным излучением, луч сфокусирован в пятно круглого сечения.
- •1.3.7. Нагрев материалов в интерференционном лазерном поле.
- •1.3.8. Особенности нагрева материала движущимся световым пятном.
- •1.4. Нелинейные режимы лазерного нагрева.
- •1.4.1. Нагрев с учетом температурной зависимости поглощательной способности.
- •1.4.2. Нагрев окисляющихся металлов лазерным излучением. Термохимическая неустойчивость
- •1.4.3. Экзотермические эффекты при импульсном лазерном воздействии на металлы
- •2. Лазерное разрушение поглощающих материалов
- •2.5. Общая характеристика механизмов лазерного разрушения
- •2.1. Механическое низкотемпературное разрушение хрупких материалов.
- •2.1.1. Разрушение упругими напряжениями.
- •2.1.2. Разрушение остаточными напряжениями.
- •2.2. Химические механизмы разрушения
- •2.3. Высокотемпературные механизмы с участием испарения
- •2.4. Поляритонный механизм формирования лазерно-индуцированного поверхностного рельефа
- •2.5. Лазерное испарение.
- •2.5.1. Кинетика испарения плоской поверхности.
- •2.5.1.1. Испарение в вакуум и среду с противодавлением
- •2.5.1.2. Температурная граница перехода от нагрева к испарению
- •2.5.2. Теплофизика перехода от нагрева к испарению
- •2.5.3. Одномерная задача о лазерном нагреве с испарением.
- •2.5.3.1. Установление стационарного режима. Определение квазистационарных параметров.
- •2.5.3.2. Зависимость температуры и скорости лазерного разрушения от плотности светового потока.
- •2.5.4. Вытеснение расплава избыточным давлением паров
- •2.6. Свойства лазерного пара и плазмы, их влияние на процесс разрушения
- •3. Современные представления об оптическом пробое прозрачных сред
- •3.1. Физические представления об оптическом пробое идеальных диэлектриков
- •3.1.1. Оптический пробой газов
- •3.1.1.1. Многофотонная ионизация
- •3.1.1.2. Лавинная ударная ионизация
- •3.1.2. Оптический пробой идеально чистых твердых тел
- •3.1.2.1. Туннельное поглощение; переход Мотта диэлектрик-металл.
- •3.1.3. Роль вынужденного рассеяния Мандельштама Бриллюэна
- •3.2. Тепловой механизм оптического пробоя реальных сред
- •3.2.1. Роль микронеоднородностей в зарождении поглощения и пробое
- •3.2.1.1. Оптические свойства реальных оптических материалов и покрытий
- •3.2.1.2. Основные экспериментальные закономерности и особенности оптического пробоя и разрушения оптически неоднородных сред
- •3.2.2. Механизмы инициирования объемного поглощения в первоначально прозрачной среде
- •3.2.3. Тепловая неустойчивость
- •3.2.4. Статистическая концепция оптического пробоя
- •3.2.5. Размерная зависимость порогов пробоя
- •Контрольные вопросы Список рекомендуемой литературы История кафедры
- •Галина Дмитриевна Шандыбина Взаимодействие лазерного излучения с веществом (силовая оптика).
2.5.4. Вытеснение расплава избыточным давлением паров
Разрушение металлов лазерным излучением обычно сопровождается выдавливанием расплава из зоны обработки (лунки), давление испаряющегося материала выталкивает жидкость по краям отверстия. Моделирование температурного поля и скорости вытеснения расплава весьма сложная задача. Однако основные закономерности этого процесса удается проследить при анализе развитого разрушения тонких металлических пленок на диэлектрических подложках.
Рассмотрим
двухфазную модель удаления пленок из
зоны воздействия излучения, в которой
учтено вытеснение расплава под действием
давления отдачи паров. При плотностях
световых потоков, характерных для
режимов лазерной обработки пленок,
Вт/см2, при
10
нс пленки толщиной около 100 нм нагреваются
до температуры плавления за времена
пренебрежимо малые по сравнению с
длительностью импульса, причем толщина
испаренного за это время слоя пренебрежимо
мала. По мере дальнейшего роста температуры
продолжается испарение пленки со все
возрастающей скоростью, однако теперь
оно уже происходит из расплава. Нетрудно
подсчитать, что давление отдачи паров
при указанных параметрах импульса может
достигать 104 - 105 Па. Этого
оказывается вполне достаточным, чтобы
привести в движение расплав пленки,
который под действием давления паров
вытесняется за пределы зоны облучения.
Отсюда понятен эффект разбрызгивания
(рис. .12), то есть наличие значительного
количества продуктов разрушения за
пределами зоны облучения, при разрушении
пленок лазерным излучением. При больших
размерах зоны воздействия вытеснение
расплава за пределы зоны играет все
меньшую роль из-за конечной скорости
его истечения и при
50
мкм (
1
мкм) становится пренебрежимо малым.
Рассмотрим упрощенную феноменологическую модель двухфазного разрушения, которая позволяет получить достаточно простые и наглядные результаты.
Пусть известны
средние по времени скорость истечения
расплава из зоны облучения
и скорость испарения
.
Тогда изменение толщины слоя расплава
можно описать уравнением
(2.31)
Рис. 2.12. Оптическая (г) и электронная (д) микрофотографии общего вида (в плане) пленок хрома (h = 100 им) на стекле К-8 после облучения лазерным пучком квадратного сечения размерами 10×10 мкм2 при плотности светового потока q — 9·107 Вт/см2: 1 – пленка; 2 – подложка; 3 – вытесненная жидкая фаза.
Интегрируя (.31) при нулевом начальном условии, получим закон изменения толщины пленки
,
(2.32)
откуда
суммарная скорость удаления пленки
равна
(2.33)
Полное время
удаления
пленки толщиной
составляет
(2.34)
Из выражений (.32) – (.34) можно определить соотношение жидкости и пара в продуктах разрушения
,
где – параметр двухфазного разрушения,
.
При
,
воспользовавшись разложением
,
получим
.
Для развитого двухфазного разрушения
,
а
.
В частности, для характерных значений
= 200 нм,
2,5·102
м/с,
10
мкм,
10
м/с имеем
0,5,
a
0,23.
Таким образом,
параметр
характеризует относительный вклад
вытеснения расплава и испарения в
разрушении пленок. Испарительному
механизму соответствует условие
,
которое выполняется обычно при больших
зонах облучения и малых толщинах пленки.
При малых же зонах облучения и больших
толщинах, при условии
,
возрастает роль разрушения вытеснением
жидкой фазы.
Некоторые зависимости основных параметров двухфазного разрушения от времени приведены на рис. .13.
Рис.
2.13. Зависимости основных параметров
процесса двухфазного разрушения от
времени для пленки серебра
= 200 нм на кварцевой подложке при
108
Вт/см2,
=
20 мкм.
– давление отдачи пара,
– давление сил поверхностного натяжения,
– давление, вытесняющее расплав пленки,
скорость испарения,
скорость вытеснения пленки.