Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Скачиваний:
392
Добавлен:
11.03.2016
Размер:
11.85 Mб
Скачать

nm

Рис. 4.16. Распределение плотности электронов в КП при нулевом напряжении на затворе [39]. Цифры в скобках – номера контактов. Области травления выделены темными прямоугольниками

электронных мод поперечного квантования, участвующих в проводимости.

Для определения эффективной ширины и длины канала и пробников, а также числа проходящих через них мод в [39] проводилось численное моделирование распределения электростатического потенциала и энергетического спектра электронов в проволоке с учетом реальных технологических параметров: структуры исходного гетероперехода, глубины травления, наличия верхнего металлического слоя (затвора) и т.д.

Один из результатов моделирования при нулевом напряжении на затворе Vg приведен на рис. 4.16. Из рисунка видно, что при Vg = 0 в проволоке уже имеются электроны. Также видно, что проволока не является однородной по длине, а представляет собой последовательное соединение трех сужений и двух потенциальных ям – треугольных квантовых точек, расположенных в местах соединения пробников с проволокой. Расчет показывает, что при нулевом напряжении на затворе прохождение через проволоку сразу открыто уже по двум модам, в то время как потенциометрические пробники представляют собой непроницаемые барьеры. Только когда в проволоке открывается проводимость и по третьей моде (изменением потенциала затвора), барье-

151

ры в области ответвлений понижаются настолько, что позволяют одной моде пройти в потенциометрический контакт. Это значит, что потенциометрические контакты (3) и (4) становятся пригодными для многоконтактных измерений кондактанса лишь, когда через проволоку идут три и более мод.

Измерения двух- (R1212 = V12/I12), трех- (R1213 = V13/I12 и R1242 = V42/I12)

и четырехконтактных (R1234 = V34/I12) сопротивлений проводились при T = 0.2 K в линейном режиме при затворных напряжениях, соответствующих прохождению через проволоку от 3 до 6 мод.

На рис. 4.17 приведены зависимости двухконтактных сопротивле-

ний канала R1212 и пробников R1313, R4242 от величины затворного напряжения. Видно, что зависимость R1212(Vg) демонстрирует слабые осо-

бенности, соответствующие прохождению первых двух мод, и отсутствие этих особенностей для мод с более высокими номерами. Отличительные особенности поведения сопротивления R1212 лучше за-

метны на зависимости производной R dR1212 / dVg от Vg. В свою очередь, по положению первой ступени на зависимостях R1313(Vg) и

R4242(Vg) видно, что пробники открываются при Vg 60 мВ, т. е. когда согласно расчетам [39] через проволоку идет уже три моды. В резуль-

тате при Vg < 40 мВ нельзя провести корректное измерение трех- и четырехконтактного сопротивления.

R (кОм), R (относ. единицы)

T = 0.2 K

R h/2q2

R

h/4q2

h/6q2

а

R (кОм)

Vg, мВ

T = 0.2 K

R1313

R4242

б

Рис. 4.17. Зависимость двухконтактного сопротивления КП (а) и пробников (б) от затворного напряжения [39]

152

На рис. 4.18 приведены зависимости двух-, трех- и четырехконтактных сопротивлений от затворного напряжения в диапазоне Vg = 40…200 мВ. Видно, что исследуемая проволока демонстрирует слабую ступеньку квантования двухконтактного кондактанса при прохождении через нее основной моды и едва заметные особенности, когда через проволоку проходят две или более мод. Следует отметить также заметную величину четырехконтактного сопротивления, всего лишь в 1.7 раза меньшую, чем в случае диффузионной проволоки (когда длина свободного пробега электрона в проволоке lp << L).

(относ. единицы)

R

R 1212

R1212

1212

 

 

 

 

 

 

 

 

 

R1213

R

 

 

 

 

 

 

 

 

 

),кОм

 

R1242

 

 

(

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

R1234

 

R

 

 

 

 

 

 

 

 

Vg, мВ

Рис. 4.18. Двух- (R1212), трех- (R1213, R1242) и четырехконтактные (R1234) сопротивления КП в зави-

симости от затворного напряжения; R =-dR1212/dVg;

R = R1213 + R1242 + R1234 [39]

Вероятнее всего такое поведение кондактанса связано с тем, что пролет через проволоку не является баллистическим, а имеет место заметное рассеяние. По мнению авторов [39], источниками такого рассеяния в данном случае являются не только отдельные примеси внутри проволоки (существующие из-за недостаточно высокой подвижности электронов в исходной гетероструктуре), но и квантовые полости, расположенные в местах соединения проволоки с потенциометрическими пробниками (см. рис. 4.16). Согласно расчетам [42] эти квантовые полости (треугольные квантовые точки) могут являться источником сильного межмодового смешивания (источником неадиабатичности),

153

рассеяния и неупругих процессов, подавляющих квантование двухконтактного кондактанса. В результате потенциометрические контакты к внутренней части проволоки могут существенно нарушать картину баллистического транспорта, характерную для двухконтактных проволок. Именно следствием когерентного резонансного рассеяния в треугольных квантовых точках [43], скорее всего, и являются мезоскопические осцилляции многоконтактных сопротивлений в интервале Vg = = 40…60 мВ (рис. 4.18). Проявлением когерентности также является нелокальность сопротивления, т. е. большое отличие R= R1213 + R1242 + + R1234 от R1212, которое означает, что суммарное падение напряжения на проволоке не равно сумме напряжений на трех последовательных элементах проволоки (двух треугольных точках и разделяющем их барьере). При Vg > 70 мВ мезоскопические флуктуации исчезают, а равенство R= R1212 соблюдается с высокой точностью, т. е. флуктуации существуют только тогда, когда пробники и проволока слабо связаны между собой (сопротивление пробника Rp >> h/2q2). Как только между проволокой и пробником возникает сильная связь (Rp < h/2q2), эти флуктуации практически исчезают. Это означает, что вскрытие пробников приводит к сильной релаксации фазы волновой функции и к подавлению мезоскопических флуктуаций, т.е. появление квантовых полостей в местах зондовых отводов существенно меняет картину транспорта электронов.

4.6. Электропроводность квантовых проволок в диффузионном режиме

Задача расчета температурной зависимости электропроводности КП (с учетом квантово-размерных ограничений на поперечное движение электронов и дырок) возникает во многих областях физики конденсированных систем и важна в наноэлектронике для приложений. При этом, как правило, КП формируется в трехмерной матрице. В результате ее электропроводность зависит от свойств этой матрицы, в том числе и от взаимодействия электронов проводимости с акустическими фононами матрицы.

Рассмотрим предельно тонкую квантовую проволоку (когда можно ограничиться вкладом в электропроводность только от наинизшей подзоны размерного квантования), находящуюся в трехмерной диэлек-

154

трической матрице [44]. Анализ проведем в приближении времени релаксации и отсутствии вырождения. Электрон проводимости будем

характеризовать продольным квазиимпульсом px kx и волновой

функцией

x

L 12 exp(ik

x

x) для

y, z 0 , где L – длина КП вдоль

 

 

 

 

оси 0x ; kx – квазиволновой вектор электрона, движущегося вдоль

проволоки.

В этом приближении мы полностью пренебрегаем размытием волновой функции электрона в поперечном направлении, что справедливо, когда длина волны фононов, эффективно взаимодействующих с электронами проводимости, больше диаметра КП. Приближение строгой поперечной локализации электронов в КП означает полную неопределенность их поперечного импульса. При этом закон сохранения импульса для поперечных компонент не выполняется, что увеличивает фазовый объем, доступный в процессе электрон-фононного рассеяния, и соответственно вероятность рассеяния по сравнению с трехмерным случаем.

Выражение для электропроводности на постоянном токе прямолинейной КП, ориентированной вдоль оси 0x , в диффузионном режиме можно привести к виду [45]

 

 

 

 

2q2

2

df

x dpx ,

 

(4.6.1)

 

 

x

 

 

 

px

 

 

 

 

 

m2S 0

dEx

 

где S – площадь поперечного сечения КП;

E

x

( k

x

)2 / 2m – кинетиче-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ская

энергия

движения

электрона

с

массой m

 

вдоль проволоки;

f 1

exp (Ex

EF ) / kT

 

1 – функция

 

распределения Ферми–

Дирака; EF – уровень Ферми, отсчитанный от первого уровня попе-

речного размерного квантования КП; x

(kx ) – время релаксации

квазиимпульса электронов проводимости вдоль проволоки.

Как показано в [44], в невырожденной КП с учетом взаимодействия электронов с продольными акустическими фононами матрицы в первом порядке теории возмущений, электропроводность КП есть

 

36q2

(

l

)4

 

E

F

 

exp(

)

 

 

x

l

 

 

exp

 

 

 

 

dpx ,

(4.6.2)

C2SkT

kT

0 px3

( )

 

 

 

 

 

 

 

 

 

155

 

 

 

 

 

 

 

2.5 .

где l и l – плотность и продольная скорость звука материала матри-

цы; C – константа деформационного потенциала;

px2 / 2mkT ;

1

 

( 2

1)2 d

( 2

1)2 d

 

;

( )

 

 

 

 

 

 

 

 

 

( 2 1)

 

 

2 1)

 

0 1

exp

1 exp (

1

px / px ; px – квазиимпульс электрона после взаимодействия с фо-

ноном.

Интегрирование в (4.6.2) с учетом того, что в невырожденном 1D-

электронном газе со средней тепловой

энергией

 

kT / 2

 

параметр

0.5 и ( ) 0.89

 

5 2 , дает, что

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

9q2

4

3

 

E

F

 

 

q 2

l

(

l

)4

 

 

n

 

 

x

l

l

 

exp

 

11.2

 

 

 

 

 

 

 

,

(4.6.3)

mSC2 (kT )2

kT

C

m3 2 (kT )5

2 S

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где n / S – трехмерная концентрация электронов проводимости. Таким образом, получили, что при постоянной концентрации носителей заряда электропроводность КП в условиях рассеяния только на продольных акустических фононах (LA-фононах) матрицы, согласно (4.6.3),

должна уменьшаться с ростом температуры пропорционально T Заметим, что для этих же условий в объемном (3D) невырожден-

ном ковалентном полупроводнике

T 1.5 [45]. Такое различие в

температурной зависимости

x

и

является следствием проявления

 

 

 

строгой локализации электронов проводимости поперек КП.

4.7.Влияние флуктуаций толщины полупроводниковой квантовой проволоки на ее статическую электропроводность

Реальные КП скорее относятся к квазиодномерным системам, так как имеют конечные поперечные размеры. Более того, современные технологии не исключают появления флуктуаций толщины КП и возможности существования связанного с ними случайного поля.

156

Рассмотрим влияние таких флуктуаций на электропроводность полупроводниковых КП [46]. Будем полагать, что размеры КП ограничены по толщине d (в направлении оси z) одномерной потенциальной ямой U(z) с бесконечно высокими стенками (модель жесткой стенки), а по ширине (в направлении y) параболическим удерживающим потен-

циалом y2 ( 0 ).

Предположим также, что вдоль КП (вдоль оси x) приложено внеш-

нее магнитное поле H , а составляющие векторного потенциала маг-

нитного поля Ax

Ay

0 ,

Az

Hy .

 

 

 

 

 

 

 

Тогда [45] в одномерном приближении гамильтониан системы

примет вид

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

1

 

 

 

 

q

 

 

2

 

 

 

H

 

 

 

i

 

 

A

 

U (z) y2

V (r ) ,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2m

 

2mz

 

 

z

c

 

z

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где

 

2 x2

2

y2 ;

m

 

mx

my

m и mz – эффективные мас-

сы электрона проводимости вдоль соответствующих направлений;

 

 

 

 

U (z)

0,

 

 

d / 2

 

z

d / 2,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

,

 

z

d / 2, z

d / 2;

 

 

 

 

 

 

V (r

)

 

1(r )

 

2 (r

)

(4.7.1)

– потенциальная энергия электрона в случайном потенциале, обуслов-

ленном флуктуациями толщины проволоки;

Ec

d – сила интер-

фейсного рассеяния; Ec – дно зоны проводимости;

1,2 (r ) – случай-

ные функции, определяющие амплитуды отклонений на разных поверхностях проволоки, перпендикулярных оси z. Флуктуации на разных поверхностях проволоки будем считать статистически независимыми, а на каждой поверхности – гауссовыми:

 

(r

 

)

 

(r

 

)

 

2

exp

(r 1

r 2 )2

,

i

1

j

2

ij

i

2

i2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

i (r

)

0,

 

i, j

1, 2 ,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

157

 

 

 

 

где двойные скобки ... означают усреднение по случайному полю; i – корреляционный радиус флуктуаций (характерная протяженность шероховатостей в направлении, параллельном границе); i – средняя

высота шероховатостей гетерограницы.

Взаимодействие (4.7.1) электронов со случайным полем будем полагать возмущением, вызывающим квантовые переходы в трансляционном движении вдоль проволоки.

Ограничимся учетом вклада в электропроводность только от нижнего квантово-размерного уровня энергии поперечного движения электрона. При этом волновая функция невозмущенной задачи может быть представлена в виде

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

y2

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

exp

ikx x

cos

 

z ,

(4.7.2)

kx

 

1 2dLy0

 

2y02

d

где L – длина проволоки (причем L >> d);

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

q2 H 2

 

14

 

 

 

y0

 

2m

,

 

 

 

 

 

2c2mz

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

c – скорость света.

Энергия электрона в состоянии (4.7.2)

 

2k 2

 

2 2

 

2

E(kx )

x

 

 

 

 

2m

 

2mz d 2

 

2m

 

 

 

q2 H 2 12

.

2mzc2

 

 

Как показано в [46], с учетом сделанных допущений и (4.7.2), выражение для времени релаксации при рассеянии флуктуационным полем (4.7.1) имеет вид

 

 

2

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

1

m 2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

i

 

i

 

 

 

i2kx2 .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

exp

2

(4.7.3)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(kx )

 

 

3

 

kx

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

i 1 y0

 

i

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

2

 

 

 

 

 

 

 

При этом для невырожденного случая

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

q2

 

3n

 

 

 

 

 

,2, a(T )

 

,

(4.7.4)

 

x

 

m2kT 2 mkT 1 2

 

 

2

2

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

4A1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

158

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где

 

A / A ;

n

 

N / L – число электронов на единицу длины КП;

 

 

2

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ai

 

2m 2

 

 

i

i

,

(i = 1, 2);

(4.7.5)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

y0

 

 

 

 

i

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(T )

2

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

a(T )

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

;

 

 

 

 

 

 

(T )

 

 

 

 

 

 

;

(4.7.6)

 

 

 

 

 

2

2

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2mkT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

, 2, a

 

(

 

 

1)s

s

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

,

 

 

 

(4.7.7)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

s

0 s

a 2

 

 

 

причем a

0 и

 

1 [47].

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

При

1

 

2

 

и произвольных

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

x

 

 

 

q2

 

3n

 

 

 

 

 

 

 

A1

 

A2

 

1

.

(4.7.8)

 

 

 

 

 

 

m2kT 2 mkT

1 2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(T )

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Отсюда

в

случае низких

температур,

 

когда (T )

2 2 или

kT

2 / 4m

2 , подвижность электронов вдоль проволоки

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

q

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

u

 

 

 

2

2

 

 

 

 

 

 

(kT )

2 ,

 

 

 

(4.7.9)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

( A

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

A )

 

m

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

т. е. рассеяние на флуктуациях толщины для невырожденной КП становится все более существенным с понижением температуры. Отметим, что невырожденный случай реализуется при температурах

T ( n)2 / 2mk . Например, для GaAs при одномерной концентрации

электронов n = 1.6 105 см-1 и эффективной массе m = 0.067m0 эта температура T > 5.5 К.

 

На рис. 4.19 приведены зависимости подвижности электронов

u

/ qn при рассеянии на LA-фононах – кривая 1 и на флуктуациях

толщины – кривые 2 и 3, рассчитанные при H = 0 с использованием соответственно (4.6.3) и (4.7.8) для невырожденной полупроводнико-

вой GaAs КП с параметрами:

l

5.3 103

кг/м3;

l

5.2 103

м/с;

 

 

 

 

 

 

159

 

 

 

 

 

C

2.2 10 18

Дж [48];

2 2 / md3 [49];

1

2

3 10 10

м;

 

 

 

 

 

 

y

10 8

м. Видно,

что рассеяние на случайных неровностях гра-

0

 

 

 

 

 

 

 

ниц может быть существенным в сравнении с рассеянием на акустических фононах в области низких температур при толщинах d 7 10 9 м.

При повышении температуры, когда kT станет больше 2 / 4m 2 , или достаточно больших радиусах флуктуаций , механизм рассеяния на флуктуациях толщины становится неэффективным по сравнению с рассеянием на LA-фононах. Отметим, что в данном случае оптические фононы дают вклад, сравнимый с акустическими фононами, лишь при

T > 50 К.

u, м2/В с

1

3

2

T, K

Рис. 4.19. Подвижность электронов в невырожденной GaAs КП:

1 – при рассеянии на LA-фононах; 2, 3 – при рассеянии на флуктуациях потенциала КП толщиной d = 5 (2) и 7 нм (3) [46]

Для вырожденного электронного газа при низких температурах, когда kT ( – химический потенциал), электропроводность вдоль

оси КП описывается выражением [46]

 

4q2

A exp

2k 2

2

A exp

2k 2

2

1

 

 

,

x

 

1

2

2

1

F

2

F

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

160

 

 

 

 

Соседние файлы в папке Наноэлектроника лит-ра