Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

МЭИ(ТУ) Физика

.pdf
Скачиваний:
1234
Добавлен:
31.03.2015
Размер:
40.05 Mб
Скачать

а) Проводники

Есть два варианта – либо зона проводимости частично заполнена, либо она пуста, но перекрывается с валентной зоной, т.

 

 

 

ε

 

е. εg = 0.

 

 

 

 

 

2s

Зона

 

 

 

Первый вариант реализуется у элемен-

 

 

F

 

 

 

 

 

 

 

проводимости

ε

тов I группы таблицы Менделеева. На-

 

 

 

Li

 

 

 

 

пример, у лития два электрона на ниж-

 

 

 

 

 

1s

 

 

 

 

нем уровне 1s и один на верхнем уров-

 

ε

 

 

 

не 2s. В результате валентная зона (зона

 

f

1

 

 

 

 

 

 

проводимости) заполнена наполовину.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Есть вакантные места выше уровня

 

 

 

 

ε

 

Ферми. Можно создать электриче-

 

 

 

 

 

 

 

Зона

 

 

 

ский ток.

2p

проводимости

 

 

 

 

F

У бериллия (II группа таблицы Мен-

 

 

 

 

ε

 

 

 

 

 

 

 

2s

Валентная

 

 

 

 

делеева) реализуется другой вариант.

 

 

 

 

 

Здесь зона проводимости 2p пуста, но

 

зона

 

 

 

 

 

 

 

 

 

она перекрывается с полностью за-

Be

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

полненной валентной зоной 2s. В ре-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

зультате электроны под действием

1s

 

 

 

 

 

электрического поля могут свободно

 

 

 

 

 

переходить на вакантные места выше

 

 

 

 

 

 

 

ε

 

 

 

 

уровня Ферми. Можно создать элек-

 

f

1

 

 

 

трический ток.

Зонная теория объясняет также, почему трёхвалентный алюминий проводит хуже, чем одновалентная медь. Электропроводность зависит не от числа свободных электронов, а от соотношения между числом этих электронов в зоне проводимости и числом

вакантных мест.

 

 

Cu

Al

Не все электроны могут создавать ток, так

Зона

 

как мало вакантных мест.

 

 

проводимости

 

 

1) Собственная проводимость
Валентная зона полупроводников полностью заполнена, а зона проводимости при
T = 0 пуста. Ширина запрещённой зоны εg (1 ÷ 2) эВ, что меньше, чем у диэлектриков.

Зона

проводимости

εg ≈ 5 эВ εg/2

Валентная

зона

ε

1

f

 

б) Диэлектрики

ε

Здесь валентная зона заполнена полно-

 

стью. Зона проводимости пуста. Ширина

 

запрещённой зоны εg ≈ 5 эВ, что много

F

больше энергии теплового воздействия.

 

ε

Ток создать нельзя. (Уровень Ферми

 

 

расположен посередине запрещённой

 

зоны.)

в) Полупроводники

Ктаким веществам относится кремний (Si), германий (Ge), теллур (Te) и т. д. и ряд химических соединений, например, арсенид галлия (GaAs). Химически чистые полу-

проводники называются собственными полупроводниками.

 

 

 

ε

При повышении темпе-

 

 

 

 

ратуры

электроны

из

 

Зона

 

 

валентной

зоны

могут

 

проводимости

ε

переходить в зону про-

 

 

 

 

эВ

 

 

ε εF εg/2

водимости и принимать

÷ 2)

 

 

 

участие в создании то-

≈ (1

 

 

F

 

 

 

 

 

εg/2

 

ε

ка. Но в валентной зоне

g

 

 

 

образуются

вакантные

ε

 

 

 

 

Валентная

 

 

 

 

 

места,

на которые

мо-

 

зона

 

 

 

ε

 

 

 

 

 

 

 

 

f

1

гут переходить

элек-

 

 

 

 

 

 

 

троны из валентной зоны и тем самым также вносить свой вклад в создание тока. Эти вакантные места называются дырками. Они несут положительный заряд, так как ушедший в зону проводимости электрон оставляет на своём месте положительный ион. В результате собственная проводимость полупроводника складывается из двух частей –

электронной проводимости (носители – электроны) и дырочной проводимости (носи-

тели – дырки).

С ростом температуры проводимость растёт. Подсчитаем число электронов, переброшенных в зону проводимости тепловым воздействием. На рисунке, приведённом выше, площадь заштрихованной части функции распределения Ферми-Дирака («хвост распределения») определяет вероятность переброса электронов в зону проводимости. Число электронов с энергией от ε до ε + определяется формулой

 

V

3 2

εdε

 

Nε =

 

3

(2m)

 

.

h

εεF

 

 

 

 

e kT +1

 

 

 

 

 

 

Проведём численные оценки. Разность ε εF εg/2 ≈ 0,5 эВ, а kT ≈ 0,025 эВ. Тогда

ε εF

ε εF

 

 

 

 

 

 

εF + εg

 

const , которая слабо зависит от

e kT

+1 >>1 и e kT >>1 . Кроме того

ε

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

T. Тогда для концентрации n =

N

электронов, попавших в зону проводимости, можно

V

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

записать приближённую формулу

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

V

 

 

3 2

 

εg

 

εg

εg

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n =

 

(2m)

εF +

 

ε e

 

2kT = n0e

 

2kT ,

 

h3

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где n0 – константа, слабо зависящая от температуры. Зная концентрацию свободных носителей тока 2n (электроны + дырки), можно найти удельную проводимость полупроводника

 

e

2

LF 2n = 2n

e

2

LF e

εg

 

e

εg

σ =

 

 

 

2kT

=σ

 

2kT

.

 

m*

uF

0 m*

 

 

uF

σ0

0

 

 

 

Итак,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

σ = σ0e

εg

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2kT

.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Эта формула позволяет экспериментально найти ширину запрещённой зоны энергии полупроводника. Действительно,

lnσ = lnσ0 2εkTg .

ln σ ln σ0

 

Построив график зависимости ln σ от обратной

 

 

 

 

температуры

1

, получим линейную зависимость.

 

 

 

 

 

 

T

α

 

Тангенс угла наклона этой прямой tgα =

εg

.

1/T

 

 

 

 

 

2k

Очевидно, что с ростом температуры проводимость σ растёт.

2) Примесная проводимость

Полупроводники n-типа (электронная проводимость)

Если в четырёхвалентный кремний (Si) в процессе изготовления полупроводника ввести пятивалентный фосфор (P), то при образовании ковалентной связи один элек-

трон атома P оказывается «не у дел». С квантовой точки

 

Si

 

 

зрения это означает, что независимо от того, где про-

 

 

 

 

странственно расположены атомы фосфора в кристалле,

Si

P

 

Si

на

энергетической

схеме возникают

дополнительные

 

 

e

свободный

энергетические уровни, которые расположены вблизи дна

 

Si

электрон

 

 

 

 

зоны проводимости. Эти уровни называют донор-

Зона

 

 

 

ными уровнями. Они заселены и электроны с них

 

 

 

проводимости

 

 

 

могут легко переходить в зону проводимости и

 

 

 

 

εдон

участвовать в создании тока. Энергетическая

 

 

 

 

 

 

 

 

 

щель ∆εд ≈ 0,1 эВ. Проводимость

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

σ =σ0e

εд

Валентная

 

 

 

 

 

 

 

 

2kT

.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

зона

 

 

 

 

 

Носителями тока в таких полупроводниках являются электроны. Если эксперимен-

тально замерить зависимость проводимости σ от температуры T и построить график за-

висимости ln σ от обратной температуры

ln σ

 

 

 

 

 

1

, то он будет иметь вид ломаной кри-

 

d

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

T

 

 

 

 

b

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

вой. На участке a-b происходит переход

 

 

 

c

 

 

 

a

 

электронов с донорных уровней в зону

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1/T

 

 

 

 

εд

 

 

 

 

 

 

 

 

проводимости; tgα

=

. На участке b-c

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2k

 

 

 

 

 

 

 

 

происходит опустошение донорных уровней. Собственные носители ещё не включились в игру. С ростом температуры σ немного уменьшается из-за колебаний кристалли-

Валентная
зона
εакц
Зона
проводимости

ческой решётки. На участке c-d происходит переброс носителей из валентной зоны в зону проводимости, т. е. это область собственной проводимости полупроводника, tg β = ε2kg .

Полупроводники p-типа (дырочная проводимость)

Если в четырёхвалентный кремний (Si) ввести примесь трехвалентного бора (B), то при образовании ковалентной связи примесь может захватить четвёртый электрон, став отрицательным ионом. С квантовой точки зрения это означает, что у вершины валентной зоны появляются энергетические уровни, не занятые электронами. Их называют

акцепторными уровнями.

Так как ширина щели ∆εакц невелика, электроны могут переходить из зоны проводимости на акцепторные уровни, оставляя на своём месте вакантные места – дырки. Дырки несут положительный заряд и могут участвовать в создании электрического тока. Носителями тока в таких полупроводниках являются дырки.

§ 8. Контактные явления

I. Работа выхода

Электроны проводимости не могут самопроизвольно покинуть металл несмотря на огромную скорость теплового движения (около 100 км/с). Уходящие электроны создают в металле избыточный положительный заряд. Кулоновское взаимодействие заставляет электроны вернуться назад. В результате вокруг поверхности металла создаётся динамическое (электроны уходят и возвращаются) электронное облако. Это облако совместно с наружным слоем ионов создаёт двойной электрический слой. Силы, действующие на электрон, направлены внутрь. Электрон внутри проводника оказывается в потенциальной яме.

Пусть энергия электрона вне металла равна нулю,

Металл

U0 – глубина потенциальной ямы. Тогда работа выхода

Aвых – это минимальная энергия, которую нужно затра- Wп = 0 тить, чтобы удалить электрон из металла:

 

 

 

 

Aвых

 

Aвых =U0 εF

.

 

Величина Aвых ≈ (1 ÷ 5)

эВ. Нанеся соответствующую

U0

 

плёнку на поверхность,

можно снизить работу выхода

εF

до (1 ÷ 2) эВ.

 

 

 

Электроны могут покинуть металл либо за счёт фотоэффекта (когда > Aвых), либо за счёт термоэмиссии (когда kT Aвых).

II. Контакт двух металлов

Если привести два разных металла в соприкосновение, то между ними возникает контактная разность потенциалов. В изолированном состоянии электронный газ этих металлов характеризуется химическими потенциалами µ1 и µ2.

 

До контакта

После контакта

Металл

Металл

Металл

Металл

A

B

A

B

Wп = 0

Wп = 0

 

εF2

µ1 = µ2

εF1

εF1

εF2

При контакте электроны из метал-

 

При контакте электроны из B переходят в A и

 

ла B будут переходить в металл A до

 

образец A заряжается отрицательно, все его

тех пор, пока не выровняются их хи-

 

энергетические уровни поднимаются вверх. Хи-

мические потенциалы. Условие равно-

 

мический потенциал

весия

 

µ1 = εF1 + eϕA .

µ1 = µ2 .

 

Образец B заряжается положительно и его уров-

 

 

ни опускаются вниз,

 

 

µ2 = εF2 + eϕB .

 

 

 

Внутренняя контактная разность потенциалов

Условие равновесия µ1 = µ2. Отсюда

εF1 + eϕA = εF2 + eϕB .

Врезультате в области контакта возникает внутренняя разность потенциалов

 

 

 

 

ϕA ϕB =

εF2 εF1 .

φA φB

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

e

 

 

h2

 

3n

2 3

 

Двойной

Так как εF =

 

 

 

, где n– концентрация электронов, то

электрический

 

 

2m

 

 

слой

 

 

 

 

 

 

 

h2

3

2 3

2 3

 

2 3

 

ϕA ϕB =

 

 

 

 

 

(n2

n1

),

 

 

 

 

2m

 

 

 

 

 

где n1 и n2 – концентрации электронов по

разные

стороны контакта. φA φB =

= (0,01 ÷ 1) В. Обычно φA φB = 0,1 В. Эта разность потенциалов локализуется в пределах тонкого двойного электрического слоя.

Внешняя контактная разность потенциалов

Как только химические потенциалы выравниваются, прекращается перетекание электронов из одного металла в другой и между ними устанавливается динамическое равновесие, которому отвечает постоянная разность потенциалов между их поверхно-

стями.

 

 

 

 

 

 

Если электрон выйдет из первого образца A, то

 

1

A

B

2

в точке 1 он будет обладать потенциальной энерги-

 

 

1

 

φA

φB

 

ей

 

 

 

 

 

 

Wп

 

 

W1

= A1 .

A1

 

Wп = 0

2

 

 

 

 

 

 

 

 

A2

Аналогично для металла B

 

 

 

 

 

 

 

 

 

W2

= A2 .

 

 

 

 

 

Тогда внешняя контактная разность потенциалов

ϕ1 ϕ2

=

W1 W2

=

A1 A2

, т. е.

ϕ1 ϕ2 =

A1 A2

 

.

 

e

e

e

 

 

 

 

 

 

Обычно эта величина порядка 1 эВ.

III. Контакт двух полупроводников

Рассмотрим контакт полупроводников p- и n-типа.

После контакта

До контакта

p

n

p

n

 

 

 

Зона про-

 

Зона про-

Зона про-

 

водимости

Зона про-

 

 

водимости

водимости

εn

 

водимости

 

Донорные

 

 

 

µp

 

µn

 

уровни

 

εp

Акцепторные уровни

 

 

 

 

 

 

Валентная

 

 

 

Валентная

 

 

 

зона

 

 

 

зона

Валентная

Валентная

 

 

 

 

 

зона

зона

 

 

 

В полупроводнике n-типа много свободных электронов, а в полупроводнике p-типа их нет – там дырки. В результате этого электроны из n-полупроводника диффундируют в p-полупроводник. Процесс продолжается до тех пор, пока не выровняются химические потенциалы. На p-n-переходе дырки и электроны рекомбинируют друг с другом, образуя слой, обеднённый носителями заряда и обладающий большим сопротивлением. После выравнивания химических потенциалов полупроводник p-типа заряжается отрицательно, а полупроводник n-типа – положительно. На p-n-переходе для электронов и дырок образуется потенциальный барьер, который в равновесном состоянии они не могут преодолеть. Если подключить внешнее поле, то оно может либо уменьшить высоту барьера, либо увеличить её.

 

p-n-переход

 

 

φ

 

 

 

 

 

 

 

 

φB

p

 

n

 

x

 

 

x

 

φA

 

Wп (для электрона, у кото-

 

Wп

 

рого заряд меньше 0)

 

 

 

 

 

 

 

 

(для дырки, у которой

 

 

 

 

заряд больше 0)

 

 

x

 

x

 

Прямое включение p-n-перехода

 

µА

 

 

Wп

 

φ

 

(для электрона)

 

Eвнеш

 

x

e

p

n

 

 

 

 

 

Eвнутр

 

 

 

x

Высота потенциального барьера уменьшается (как для электронов, так и для дырок) и в цепи идёт электрический ток.

Обратное включение p-n-перехода

 

 

 

Wп

 

µА

φ

(для электрона)

 

 

 

 

 

Eвнеш

 

 

x

p

n

 

 

e

Eвнутр

 

 

x

Высота потенциального барьера увеличивается (как для электронов, так и для дырок). Ток не идёт.

Таким образом, p-n-переход обладает односторонней проводимостью и может выполнять роль диода в электронных схемах.