Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Дорфман В.Ф. Газофазная микрометаллургия полупроводников [Текст] 1974. - 190 с

.pdf
Скачиваний:
15
Добавлен:
23.10.2023
Размер:
7.01 Mб
Скачать

вплоть до эпитаксиального роста алмаза при давлениях порядка 1 ат [28, с. 172] (подробнее о метастабильных фазах в 'Процессах Т М Л , см. выше, стр. 74). Очевидно, это связано с качественными особенностями механизмов упорядочения нри росте іііз тазовой фазы.

Некоторые ваоісные направления количественных исследований

До настоящего времени отсутствуют исследования, в которых бы в явном виде учитывалась роль гетерогенных химических реакций в формировании структуры и рель­ ефа кристалла при кристаллизации из газовой фазы. С другой стороны, статистическая трактовка полинуклеарной кристаллизации из пара имеет многолетнюю исто­ рию, и количество работ здесь очень велико (даже в спе­ циальных монографиях и обзорах [159— 162] они рас­ смотрены лишь частично). Ни в коей степени не претен­ дуя на полноту охвата, мы отметим некоторые исследо­ вания, которые представляются нам наиболее важными для решения задач газофазной микрометаллургии.

Как уже отмечалось, проблема упорядочения в про­ цессах 'ГМ'П имеет два основных аспекта: 4) 'конкуриру­ ющее разрастание зародышей из когерентных и дефект­ ных позиций, что обычно для всех процессов кристалли­ зации из неконденсированных фаз; 2) конкуренция ме­ жду зернами, имеющими различную ориентацию, огран­

ку, а возможно — даже различное

фазовое состояние,

что специфично для процессов гетероэпитаксии.

этого

В числе методов, позволяющих

дать

анализ

круга явлений, следует назвать прежде

всего

теорию

Уолтона и Родина [163]. Используя метод статистичес­ ких сумм, эти авторы вывели уравнение скорости обра­ зования критических зародышей, содержащих всего не­ сколько атомов. Если возможны две или более различ­ ные ориентации, размеры соответствующих им критиче­ ских зародышей будут неодинаковы; например, для ори­ ентаций (100) и (111) гранецентрированной решетки критические размеры зародышей при достаточно высо­ ком пересыщении будут составлять соответственно 4 и 3 атома. Таким образом, в рамках модели Уолтона и Ро­ дина удается определить характеристические темпера­ туры перехода от одной ориентации к другой. С другой стороны, при очень высоких пересыщениях стабильным становится уже одноатомный зародыш, и преобладаю-

4* Зак. 496

Ѳ9

щая ориентация полностью исчезает. Это происходит при переходе через так называемую «эпитаксиальную темпе­ ратуру», которая также предсказывается теорией Уолто­ на и Родина. Весьма перспективным для анализа пере­ ходных процессов при гетероэпитаксии представляется метод «сохранения вероятностей» А. А. Чернова [164]. Последовательный кинетико-статический анализ полннуіклеаіріной кристаллизации с учетом конкуренции ме­ жду «.правильными» и дефектными зародышами, а также между флуктуациоино возникающими и локализованны­ ми центрами проведен в работах [165, 166], причем в первой из ціііх анализ распространен также на двухфаз­ ный случай.

Другой отмеченный выше вопрос — конкурирующее разрастание зерен, обладающих различной ориентацией,

огранкой и свойствами (двумерные

и трехмерные

слу­

чаи), рассмотрен автором [167]. Предложенный

здесь

метод базируется на двух основных положениях.

между

1. Развитие отдельных зерен и

конкуренция

ними определяется взаимодействием граней зерен через пар или «двухмерный газ» или при непосредственном столкновении. Поэтому грани различной ориентации и каждого типа зерен, образующие компоненты сложной границы (в двумерном случае — контура), должны быть основными параметрами при статистическом анализе.

2. Динамика такой сложной границы может быть рассмотрена на основе анализа плотности «узловых» ли­ ний и точек этой границы — ребер и вершин зерен, линий и точек пересечения, образующихся при их слиянии. Дей­ ствительно, непосредственное взаимодействие между компонентами границы происходит через узловые точки.

ЭтоNприводит к уравнениям вида

F

 

(oc/ßp =

G

+ 2

{ ф 11нач/кон 11+

 

(нач/кон) j ,

 

 

фазы

векторы

где Л7(сс//ß/") — плотность узловых точек, образованных сторонами a-фазы, ориентированными в направлении і, и ß-фазы — в направлении /, параметр G описывает .про­ цессы зарождения новых центров, функции Ф и F описы­ вают взаимодействия между узловыми точками и узло­ вых точек с границами зерен и характеризуются индек­ сами начальных и конечных продуктов взаимодействия. В свою очередь узловые элементы легко позволяют оп­

100

ределить скорости разрастания каждой из фаз и плотно­ сти их центров, а также протяженность границ зерен различных фаз и средний размер заполненных участков поверхности в произвольно выбранном направлении (т. е. с учетом анизотропии). Значение этих параметров при эпитаксии принципиально, поскольку структура . и _ свойства эпитаксиальных слоев определяются конкуриру­ ющими процессами между зародышами и зернами с раз­ личной ориентацией, структурой и составом.

Вопросы морфологической стабильности при росте из газовой фазы и, в частности, отмеченный выше переход от правильных геометрических фигур к неограненным формам роста, в количественном отношении почти не ис­ следованы. Представляется, что здесь весьма эффектив­ ной может оказаться теория Д . В. Кана [168] (в частно­ сти, «хвостовая часть» функции распределения плотности по нормальной координате, по-впдимому, должна быть чувствительна к форме вершины зародыша).

Попытка непосредственного учета роли химической реакции при кристаллизации из газовой фазы сделана в цикле работ Джойса [28, с. 43; 169] и в работе Гретца, Джексона и Хирса [170]. Джойс исследовал кристалли­ зацию кремния при пиролизе моносилана из молекуляр­ ных лучков в глубоком вакууме [28, с. 43]. ’Состав оста­ точных газов в камере исследовался масс-'спектрометри­ чески. Изучалась зависимость плотности зародышей от плотности пучка SiH 4 и температуры подложки. Энергия активации и порядок реакции распада определялись по зависимости парциального давления водорода от темпе­ ратуры и от плотности пучка.

Экспериментальные данные обрабатывались автора­ ми в терминах формулы Льюиса и Кемпбелла [171], преобразованной ими для случая, когда рост происходит

с участиемNaKnхимических реакций.

n E d ~ n E A

ЛК

\-і/(л+і) j n q / ( n + \ ) exp En +( n

+ 1) k0T

где

Ns

— плотность зародышей;

 

No

 

 

 

— число мест сорбции на единицу поверхности;

 

Ѵо — частота колебаний адсорбированных атомов;

г"

п — число атомов в критическом заррдьіщр;

' (^^-рорядрк реакции разложения;

 

101

Ji,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Е а

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Е п— плотность пучка;

 

 

 

 

 

 

 

E d — энергия активации для реакции разложения;

— изменение энергии при образовании зародыша;

— энергия активации

поверхностной

диффузии.

Представленная в таком виде экспериментальная за­

N s

 

 

 

 

 

 

 

 

 

висимость для плоскости (111) имела вид

 

 

 

 

(ßA

 

 

q =

 

 

 

 

 

= const 4 ,25±<U exp ( — 41,5/ÄoT),

 

 

 

 

= 0,81 +

0,1 эВ ;

 

 

2).

 

п

рав­

Отсюда число атомов в критическом зародыше

 

но ~ 3; для плоскости (100)

/г 'ближе к й.

Интенсивное

образование зародышей начинается

только

после

того,

■ как пучок SiH 4 восстанавливает окисную пленку на крем­ ниевой подложке. Этим обусловлен длительный (до нескольких десятков .минут) индукционный период.

К сожалению, во многих исследованиях [28, 170] роль химической реакции весьма упрощенно сводится к изменению эффективной скорости -масеопотока к по­ верхности. Это частичку оправдано в работе [28, с. 43], поскольку в ней исследуется кристаллпзаіция при высо­ ких температурах п низких давлениях (ом. стр. 98), но не может служить основой для анализа процессов газо­ фазной металлургии в типичных условиях.

Другая сторона проблемы зародышеобразования — изменение свойств малых ансамблей атомов кристалли­ зуемого вещества («зародышей») с увеличением их раз­ меров. В приложении к эпитаксии эта проблема приобре­ тает два дополнительных аспекта: во-первых, как пре­ образуются свойства малых зерен в контакте с ориенти­ рующей подложкой, во-вторых, как влияет подложка на ориентацию зерен с учетом кинетики протекающих про­ цессов. Нет сомнения, что для анализа свойств зароды­ шей, содержащих всего несколько атомов, единственно корректным подходом является электронная теория. Од­ на из первых таких попыток была сделана в работе [172], где определен размер ансамбля атомов, допуска­ ющий выделение поверхностного и объемного вкладов в свободную энергиюЗначение такого анализа принци­ пиально, поскольку разложение свободной энергии на поверхностные и объемные компоненты прямо или ко­ свенно используется во всех работах по зародышеобразованию. Следующим этапом могли бы послужить ре­ шеточные модели,, давно и плодотворно используемые

для исследования фазовых переходов. Весьма интерес- 'ной здесь .представляется работа ['173], где описана ре­ шеточная модель с учетом границ. Заметим. что даже (Простейшая модель межатомных связей позволяет вы­ явить зависимость равновесной огранки малых зерен о г их размеров [і174]. Однако в целом ни одна из извест­ ных моделей не описывает удовлетворительным образом особенностей эпитаксиального зарождения, отмеченных выше, и решение этой актуальной проблемы еще впе­ реди.

, Вероятно, определенные результаты в этом направле­ нии могут быть получены с помощью термодинамической теории кристаллизации, на основе которой удалось объ­ яснить в последние годы ряд важных явлений эпитаксии (отметим работы, где анализируются условия существо­ вания критического многослойного покрытия на инород­ ной подложке [і175] и сделана попытка определения критической температуры эпитаксии [176], работы Л. Н. Александрова по трехмерному зародышеобразованию при эпитаксии, например [177]).

Во всех количественных исследованиях, проведенных до настоящего времени, роль химических реакций при кристаллизации из газовой фазы специально не учиты­ валась или учитывалась предельно упрощенно. Как по­ казано выше, микроизбирательность гетерогенных реак­ ций и активная роль хемосорбциоиного слоя позволяю-,, по крайней мере качественно, объяснить весь основной комплекс экспериментально наблюдаемых особенностей кристаллизации из газовой фазы. Поэтому детальное исследование механизма физико-химических микропро­ цессов на поверхности растущего кристалла представля­ ется первоочередной проблемой в данной области.

ЛИМИТИРУЮЩАЯ СТАДИЯ ПРОЦЕССОВ ГАЗОФАЗНОЙ МИКРОМЕТАЛЛУРГИИ

Представление о лимитирующей стадии используется в наиболее простых и распространенных моделях крис­ таллизации из газовой фазы. Если ввести в рассмотре­ ние «пропускную способность» отдельных стадий, 1/А,- [33], эта модель приобретает полную аналогию в элект­ рических .цепях (аналогия наиболее адэкватна, если электрическая цепь содержит элементы с пороговым включением).

103

Лимитирующая стадия и формирование кристалла

рассмотрим теперь влияние лимитирующей стадии на избирательность и анизотропию роста >в цепи

г з

------ ----------

^ 5 'і

,

 

 

4t та

4t]

U

4t V

U 3 ------- у 4"

------- ►S'

Здесь стадии /—4 соответствуют вводу исходной газо­ вой фазы в реактор, маесообмену в реакционном объе­ ме, маесообмену ів .пограничном слое и гетерогенным ре­ акциям; ветви 3^~4'-^-5' и 3-*4"-+5" отвечают различ­ ным «каналам» кристаллизации, например, росту в

различных кристаллографических

направлениях или

■ путем разрастания

различных центров (типов) зароды­

шей. Стадии

5'

и

5"

отвечают образованию зародышей

и движению

ступеней, а тз, т4,

Ts — тангенциальному

маесообмену в пограничном слое газовой фазы, в хемооорбциониом слое и в «двумерном газе». Избиратель­ ность одной из стадий приводит к селективной кристал­ лизации (соответственно анизотропность стадии — к анизотропии кристаллизации), если на этой и последу­

ющих стадиях

тангенциальный маесообмен

протекает

сравнительно

медленно. В частности, если

— > — >

 

 

<

К\

 

 

 

1I

да— , то в отсутствие тангенциального массооомена

*5 к 6

избирательность гетерогенных реакций определяет из­ бирательность и анизотропию роста кристалла:

+Л+Л > . 7 - +

Дз к . /<, Кз

Легко видеть, что интенсивный тангенциальный массообмен в пограничном слое не только не ослабит, но да­ же усилит избирательность гетерогенных стадий:

і-<4Ѵ + - 4 I> ( тг» + к-.

, I

\

.

+ - -

 

I •

±

+ _ L +

>

Кб /

 

 

 

Кз

К I

Кг

 

 

 

Этот эффект, играющий определенную положитель­ ную роль при селективной эпитаксии, может быть весьма неблагоприятным при наращивании однородных слоев,

1С4

вызывая автокаталитическое разрастание морфоло­

гических

неоднородностей за счет

микромассопото-

ков [451.

Мы видим, таким образом,

что наилучшие ус­

ловия .тля образования гладкой (в частности, безвицинальной) поверхности эпитаксиального слоя создаются в том случае, когда нормальный массообмен в погранич­ ном слое лимитирует, а тангенциальный массообмен в пограничном слое развит слабо. Это достигается, напри­ мер, при очень тонком пограничном слое и по возможно­ сти высокой температуре кристаллизации; в свою оче­ редь, тонкий пограничный слой формируется при высо­ ких скоростях потока, а также при экранировании (см. выше, стр. 31). Очень часто пользуются более простым правилом: поскольку массообмен в газовой фазе изотро­ пен, а гетерогенные стадии анизотропны и избирательны, гладкие однородные слои должны получаться в «диффу­ зионной» области режимов процесса. Это правило неред­ ко оправдывает себя, но с учетом изложенного ясно, что оно не иоспт общего характера.

В целом представление о лимитирующей стадии мо­ жет быть эффективным средством при качественном ана­ лизе кинетических и структурно-морфологических усло­ вий формирования кристалла из газовой фазы. В каж­ дом конкретном случае эта стадия устанавливается по кажущейся энергии активации процесса, микрорельефу слоев и т. п. Но однозначным такой вывод может быть лишь в том случае, если известны кинетические парамет­ ры всех стадий процесса, а это делает излишним само представление о лимитирующей стадии. Поэтому данную простую модель можно рассматривать лишь как первое приближение в анализе процессов газофазной микроме­ таллургии.

О формах роста и морфологической стабильности при кристаллизации из газовой фазы

Этот вопрос пока мало изучен, и в настоящем разде­ ле мы вынуждены ограничиться лишь краткими заме­ чаниями.

При кристаллизации из расплава анализ форм роста и морфологической стабильности основан на одном из следующих факторов: интенсивности теплоотвода от фронта кристаллизации, зависимости свободной энергии поверхности раздела от ориентации и шероховатости граней; концентрационном или конституционном пере-

105

охлажд&нип (вследствие диффузионного перераспределе­ ния примесей или основных компонентов расплава в не­ которой зоне конституционного переохлаждения перед фронтом кристаллизации равновесная линия ликвидуса оказывается выше истинной температуры). Эти принци­ пы неоднократно использовались также и для описания морфологической стабильности при росте из собственно­ го пара.

Обычно вместо величины переохлаждения» -при­

менялся параметр «пересыщение».

Но в работе [28,

с .115], например, учитывался также

фактор

теплообме­

на, причем было показано, что путем тонкого

регулиро­

вания температуры газовой фазы перед фронтом кристал­ лизации удается создать условия, благоприятные для хо­ рошей огранки кристалла.

Однако кристаллизация из газовой фазы с участием химических реакций имеет явно выраженную специфику, II непосредственное применение для анализа этих процес­ сов классической теории морфологической стабильности, по-впдимому, не может быть эффективным. Выше мы от­ мечали роль мпкропзбирателы-іостп гетерогенных про­ цессов, поверхностной активности хемосорбционного слоя и диффузионных микромассопотоков в формировании микрорельефа. С другой стороны, исходная (газовая) фаза вследствие своей малой плотности имеет очень низ­ кие значения объемной теплоемкости и теплопроводности (на 2—4 порядка ниже, чем в твердом теле), а скорость кристаллизации обычно низка. Поэтому отвод тепла че­ рез исходную фазу практически не играет роли (заме­ тим, что при внешнем обогреве кристаллизация протека­ ет в условиях, близких к изотермическим).

Вместе с тем междурезультатами эксперименталь­ ных морфологических исследований при росте из газовой фазы и из расплава имеется определенная аналогия. С ячеистой структурой границы раздела при росте из рас­ плава можно сопоставить холмики роста эпитаксиальных слоев (рис. 24), хотя последние существенно менее упо­ рядочены. При низких скоростях кристаллизации в обо­ их случаях наблюдается тенденция к образованию ли­ нейчатой структуры (рис. 25). Наконец, при росте из га­ зовой фазы, как и из расплава, нередко наблюдается слоистый рельеф (рис. 26). При кристаллизации из рас­ плава этот эффект объясняется выделением большого ко­ личества тепла при движении групп ступеней, что привр-

106

Рис. 24. Ячеистая поверхность эпитаксиального слоя фосфида гал­ лия, полученного иодидным методом '(давление 3 ат, температура кристаллизации ,1020°С, толщина слоя 430 мкм, скорость роста 860 «км/ч, -плоскость (М-1) л). ХЮО

107

дит к торможению движения. С другой стороны, в газо­ вой фазе имеются по крайней мере два типа нѳкристаллизующпхся соединений (исходные реагенты и конечные продукты). Логично предположить, что массоотвод этих продуктов от фронта кристаллизации эквивалентен теп­ лоотводу при росте из расплава. В таком случае отме­ ченные аналогии в формировании рельефа легко объяс­ няются.

Другой класс явлений, характерных для кристаллиза­

ции нз газовой фазы, можно

назвать

«ориентационной

неустойчивостью»: изменение ориентации

основной

рас­

 

 

 

 

тущей

грани

 

или

их

 

 

 

 

совокупности в процес­

 

 

 

 

се роста.

Эти

явления

 

 

 

 

характерны

как

 

для

 

 

 

 

плоских подложек (рис.

 

 

 

 

27),

так п для виекеров

 

 

 

 

(например, на плоско­

 

 

 

 

сти

(111)

кристаллов

 

 

 

 

с

алмазной

решеткой

 

 

 

 

вискеры

 

могут

растд

 

 

 

 

либо нормально к под­

 

 

 

 

ложке,

либо

 

по всем

 

 

 

 

четырем

осям

(111), и

 

 

 

 

переход от одного на­

Рис.

25

Линейчатая поверхность гер­

правления роста к дру­

гому

может произойти

мания, полученного иодндным мето­

при

незначительном из­

дом

(давление 0,5 ат, температура

менении

 

внешних

ус­

кристаллизации 600°С, скорость

ро­

ловий

[45]).

Можно

ста 20 мкм/ч, плоскость (111). Х200

выделить два основных

 

 

 

 

фактора,

вызывающих

ориентационную неустойчивость:

неточные методы ори­

ентации базовой плоскости

подложки и

чувствитель­

ность

равновеснойогранки

 

к

условиям

роста

из

газовой фазы.Первый можетбыть в значительной мере скомпенсирован сознательным выбором базовой плоско­ сти с высокими индексами Миллера (вероятно, наиболее удобны плоскости с максимальной плотностью ступеней, которые менее чувствительны к колебаниям условий

•кристаллизации). Второй фактор требует очень точного регулирования параметров процесса.

В отличие от кристаллизации из расплава, где мас­ сивный кристалл разрезается затем на заготовки, в про-

108

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ