- •Содержание
- •14.2.2. Окончательная обработка исполнительных поверхностей 146
- •1. Детали оптических систем
- •1.1. Классификация оптических деталей
- •1.2. Особенности оформления чертежа
- •1.3. Требования к конструктивным параметрам деталей
- •1.4. Требования к материалу
- •1.5. Требование к изготовлению
- •1.6. Технологические свойства оптических материалов
- •1.7. Унификация и типизация технологических процессов
- •2. Контроль параметров оптических деталей
- •2.1. Контролируемые параметры
- •2.2. Методы и средства контроля формы шлифованных поверхностей
- •2.3. Контроль формы полированных плоских и сферических поверхностей
- •2.4. Пробные стекла, их типы и классы
- •2.5. Интерферометры
- •2.6. Контроль взаимного расположения поверхностей линз
- •3. Обрабатывающие материалы
- •3.1. Шлифующие абразивы
- •3.1.1. Зернистость и зерновой состав порошков алмаза
- •3.1.2. Порошки корунда, электрокорунда и других абразивов
- •3.2. Полирующие абразивы
- •4. Инструмент
- •4.1. Алмазный инструмент
- •4.1.1. Типы и характеристики алмазного инструмента
- •4.1.2. Изготовление алмазного инструмента
- •4.2. Инструмент и приспособления для шлифования и полирования
- •4.2.1. Шлифовальный инструмент
- •4.2.2. Полировальный инструмент
- •4.2.3. Приспособления
- •5. Вспомогательные материалы
- •5.1. Смазочно-охлаждающие жидкости (сож)
- •5.2. Материалы для соединения заготовок с приспособлением
- •5.3. Материалы рабочей поверхности полировальников
- •5.4. Жидкости для промывки и чистки деталей
- •5.5. Защитные лаки и эмали
- •5.6. Протирочные материалы
- •5.7. Материалы для чистки оптических деталей
- •6. Способы формообразования сферических и плоских поверхностей
- •7. Способы механической обработки оптических материалов
- •7.1. Шлифование алмазным инструментом
- •7.2. Обработка полирующими абразивами
- •8. Операции механической обработки оптических материалов
- •8.1. Распиливание стекла
- •8.2.Сверление отверстий
- •8.3. Круглое шлифование пластин
- •8.4. Центрирование линз
- •8.5. Шлифование сферических и плоских поверхностей
- •8.5.1.Предварительное шлифование алмазными кольцевыми кругами
- •8.2.2. Тонкое шлифование алмазным инструментом
- •8.6. Полирование сферических и плоских поверхностей
- •9. Механическая обработка оптических кристаллических материалов
- •9.1. Основные физико-механические и физико-химические свойства
- •9.2. Условия для обработки кристаллов и техника безопасности
- •9.3. Механическая обработка оптических кристаллических материалов с повышенной микротвердостью
- •9.4. Разделение кристаллов на заготовки
- •9.5. Грубое шлифование
- •9.6. Кругление
- •9.7. Фасетирование
- •9.8. Сборка блоков заготовок (блокирование)
- •9.9. Среднее и тонкое шлифование
- •9.10. Полирование
- •10. Установка заготовок на приспособлениях
- •10.1. Сборка блоков
- •10.2. Разборка блоков
- •11. Влияние технологических факторов на точность формообразования
- •11.1. Деформации, вызываемые остаточными напряжениями в стекле
- •11.2. Деформации, вызываемые напряжениями в нарушенном слое шлифованной поверхности
- •11.3. Температурные деформации
- •12. Расчет нормируемых параметров процесса
- •12.1. Коэффициент запуска
- •12.2. Припуски на обработку заготовок
- •13. Расчет плоских и сферических блоков
- •13.1. Плоский блок
- •13.2. Сферический блок
- •14. Технология типовых деталей
- •14.1. Технологический процесс изготовления плоскопараллельных пластин и клиньев
- •14.1.1. Предварительная обработка
- •14.1.2. Окончательная обработка исполнительных поверхностей
- •14.1.3. Изготовление точных пластин
- •14.2. Технологический процесс изготовления призм
- •14.2.1. Предварительная обработка
- •14.2.2. Окончательная обработка исполнительных поверхностей
- •14.3. Технологический процесс изготовления линз
- •15. Технология нестандартных деталей
- •15.1. Шаровидные линзы
- •15.1.1. Характеристики деталей
- •15.1.2 Технология изготовления
- •15.2. Цилиндрические и торические поверхности
- •15.3. Оптические детали лазеров
- •15.4. Основы технологии изготовления волоконно–оптических элементов (воэ)
- •15.4.1. Основные технические характеристики воэ
- •15.4.2. Основные требования к стеклам для воэ
- •15.4.3. Изготовление волоконно-оптических пластин (вол)
- •15.4.4 Изготовление микроканальных пластин (мкп)
- •15.5. Методы изготовления деталей с асферическими поверхностями
- •1 5.5.1. Методы нанесения слоя
- •15.5.2 Методы механической обработки
- •15.6. Изготовление крупногабаритных деталей
- •Окончание табл. 15.4
- •15.7. Изготовление шкал и сеток
- •15.7.1 Виды шкал и сеток, требования к ним
- •15.7.2 Основные технологические процессы и оборудование
- •1 5.8. Оптические детали из полимеров
- •15.9. Стеклометаллические зеркала
- •16. Соединение оптических деталей
- •16.1. Способы соединения
- •16.2. Материалы, применяемые для соединения
- •16.3. Технология соединения оптических деталей
- •17. Основы сборки и юстировки оптических приборов
- •17.1. Сборочные элементы приборов
- •17.2 Структура технологического процесса сборки
- •17.3. Общие принципы построения технологического процесса сборки
- •18. Фокусировка изображения в оптическом приборе
- •18.1. Параллакс в оптическом приборе
- •18.2. Способы фокусировки
- •18.2.1 Фокусировка при помощи астрономической зрительной трубы
- •18.2.2 Фокусировка при помощи плоскопараллельной пластинки
- •18.3. Контроль параллакса по бесконечно удаленному предмету
- •18.3.1 Проверка параллакса при помощи коллиматора
- •19. Сборка и юстировка типовых узлов оптических приборов
- •19.1. Сборка и юстировка объективов
- •19.1.1. Типы конструкций объективов оптических приборов. Общие требования к сборке объективов
- •19.1.2. Сборка объективов насыпной конструкции
- •19.1.3. Методы контроля и юстировки объективов. Контрольноюстировочные приборы
- •19.1.4. Сборка и юстировка узлов с призмами и зеркалами, работающими в параллельных и сходящихся пучках
- •20. Сборка и юстировка типовых оптических приборов
- •20.1. Сборка и юстировка спектральных приборов
- •20.2. Сборка и юстировка угломерных приборов
- •20.2.1. Общие требования к сборке и юстировке оптических угломерных приборов
- •20.2.2 Сборка и юстировка угломерных приборов с поворотными визирами
- •Библиографический список
9.3. Механическая обработка оптических кристаллических материалов с повышенной микротвердостью
Основная особенность обработки твердых кристаллов состоит в том, что в связи с их повышенной твердостью и плотностью требуется большая энергия на их диспергирование и, значит, – станки с большей жесткостью узлов системы «привод – инструмент – деталь» (СПИД) и мощностью двигателей, а также абразивные материалы большей, чем сами обрабатываемые кристаллы, твердости и прочности; алмазный инструмент с концентрацией алмаза более 50 %. При отсутствии специальных станков и использовании станков, предназначенных для обработки стекла, необходимо в два-три раза уменьшать максимальные размеры обрабатываемых деталей и блоков из твердых кристаллов, чтобы обеспечить необходимое при обработке давление.
Типичным представителем твердых кристаллов является оптический монокорунд. Поэтому в дальнейшем излагаются основные технологические приемы обработки именно корунда и только в случае принципиальных отличий описываются отдельные технологические приемы обработки других твердых кристаллов.
Кристаллы монокорунда и кварца анизотропны и при изготовлении ОД необходимо ориентировать обрабатываемые поверхности относительно кристаллографических направлений.
Условия механической обработки на операциях резки, кругления, шлифования для всех твердых кристаллов могут быть одинаковыми. Отличия между ними проявляются при тонком шлифовании и полировании свободным абразивом в скорости съема и шероховатости получаемой поверхности. Так, процессы шлифования монокорунда и граната близки, но в связи с меньшей микротвердостью и хрупкостью граната его начинают полировать алмазом меньшей зернистости – АСМ2/1, а фианит и кварц – АСМ1/0.
В основном для блокирования используют наклеенные смолы ОБ (ТУ 38.402143-87), клеи-расплавы ГИПК22-18 (ТУ 6-05-261-154—82), а также полировочные, центрировочные и воскоканифольные композиции. Применяют жесткие методы блокирования, в том числе оптический контакт. При обработке длинных деталей с малым сечением (например, мазерные активные элементы 1 х 1 х 150 мм) при создании кратных заготовок для увеличения базовых плоскостей или для обеспечения тонкого (< 5∙10-3 мм) клеящего слоя используют оптические клеи на эпоксидной основе (ОСТ 3-3159-75) (а. с. 1617808, СССР).
Кругление производят на круглошлифовальных станках алмазными кругами формы 1А1 (ГОСТ 16167-80), алмаз А, АСС 200/160-100/80, 100, Ml. В качестве СОЖ – вода с 5-7 % глицерин или 10 % кальцинированной соды. Заготовки склеивают клеем-расплавом или воскоканифольными смесями. Скорость вращение инструмента 30 м∙с-1, частота вращения заготовки 1,5 с-1; подача не более 0,1 мм∙с-1; величина врезания за проход 0,1-0,2 мм. Вместо кругления при раскрое пластин применяют высверливание алмазными сверлами (ГОСТ 26339-84*Е*), алмаз А125/100, 160/125, 100, Ml на токарных или координатно-сверлильных и фрезерных станках.
9.4. Разделение кристаллов на заготовки
Кристаллы разделяют на заготовки различными способами в зависимости от свойств материала.
Кристаллы типа КС1, NaCl, LiF, имеющие совершенную спайность, разделяют на заготовки раскалыванием с помощью зубила по плоскостям спайности. Все водорастворимые кристаллы распиливают на нитяной пиле при помощи движущейся непрерывной многожильной хлопчатобумажной нити, смачиваемой водой. Скорость движения нити около 0,6 м/с.
Нерастворимые в воде кристаллы распиливают алмазными отрезными кругами с наружной и внутренней режущими кромками (AOK и АКВР), алмазными бесконечными ленточными пилами (АБЛП) на соответствующих станках.
В качестве СОЖ используют веретенное масло, воду с добавлением эмульсолов и веществ, снижающих поверхностное натяжение воды и повышающих антикоррозионные свойства СОЖ.
Кристаллы типа CsJ, КРС-5, КРС-6 с явно выраженными пластическими свойствами могут быть распилены на заготовки вручную тонким ножовочным или лобзиковым полотном.
Для сверления отверстий в кристаллах применяют то же оборудование и инструмент, что и при сверлении стекла. В качестве СОЖ при сверлении служат вода, скипидар, при сверлении водорастворимых кристаллов – насыщенные растворы их солей.