
- •Содержание
- •14.2.2. Окончательная обработка исполнительных поверхностей 146
- •1. Детали оптических систем
- •1.1. Классификация оптических деталей
- •1.2. Особенности оформления чертежа
- •1.3. Требования к конструктивным параметрам деталей
- •1.4. Требования к материалу
- •1.5. Требование к изготовлению
- •1.6. Технологические свойства оптических материалов
- •1.7. Унификация и типизация технологических процессов
- •2. Контроль параметров оптических деталей
- •2.1. Контролируемые параметры
- •2.2. Методы и средства контроля формы шлифованных поверхностей
- •2.3. Контроль формы полированных плоских и сферических поверхностей
- •2.4. Пробные стекла, их типы и классы
- •2.5. Интерферометры
- •2.6. Контроль взаимного расположения поверхностей линз
- •3. Обрабатывающие материалы
- •3.1. Шлифующие абразивы
- •3.1.1. Зернистость и зерновой состав порошков алмаза
- •3.1.2. Порошки корунда, электрокорунда и других абразивов
- •3.2. Полирующие абразивы
- •4. Инструмент
- •4.1. Алмазный инструмент
- •4.1.1. Типы и характеристики алмазного инструмента
- •4.1.2. Изготовление алмазного инструмента
- •4.2. Инструмент и приспособления для шлифования и полирования
- •4.2.1. Шлифовальный инструмент
- •4.2.2. Полировальный инструмент
- •4.2.3. Приспособления
- •5. Вспомогательные материалы
- •5.1. Смазочно-охлаждающие жидкости (сож)
- •5.2. Материалы для соединения заготовок с приспособлением
- •5.3. Материалы рабочей поверхности полировальников
- •5.4. Жидкости для промывки и чистки деталей
- •5.5. Защитные лаки и эмали
- •5.6. Протирочные материалы
- •5.7. Материалы для чистки оптических деталей
- •6. Способы формообразования сферических и плоских поверхностей
- •7. Способы механической обработки оптических материалов
- •7.1. Шлифование алмазным инструментом
- •7.2. Обработка полирующими абразивами
- •8. Операции механической обработки оптических материалов
- •8.1. Распиливание стекла
- •8.2.Сверление отверстий
- •8.3. Круглое шлифование пластин
- •8.4. Центрирование линз
- •8.5. Шлифование сферических и плоских поверхностей
- •8.5.1.Предварительное шлифование алмазными кольцевыми кругами
- •8.2.2. Тонкое шлифование алмазным инструментом
- •8.6. Полирование сферических и плоских поверхностей
- •9. Механическая обработка оптических кристаллических материалов
- •9.1. Основные физико-механические и физико-химические свойства
- •9.2. Условия для обработки кристаллов и техника безопасности
- •9.3. Механическая обработка оптических кристаллических материалов с повышенной микротвердостью
- •9.4. Разделение кристаллов на заготовки
- •9.5. Грубое шлифование
- •9.6. Кругление
- •9.7. Фасетирование
- •9.8. Сборка блоков заготовок (блокирование)
- •9.9. Среднее и тонкое шлифование
- •9.10. Полирование
- •10. Установка заготовок на приспособлениях
- •10.1. Сборка блоков
- •10.2. Разборка блоков
- •11. Влияние технологических факторов на точность формообразования
- •11.1. Деформации, вызываемые остаточными напряжениями в стекле
- •11.2. Деформации, вызываемые напряжениями в нарушенном слое шлифованной поверхности
- •11.3. Температурные деформации
- •12. Расчет нормируемых параметров процесса
- •12.1. Коэффициент запуска
- •12.2. Припуски на обработку заготовок
- •13. Расчет плоских и сферических блоков
- •13.1. Плоский блок
- •13.2. Сферический блок
- •14. Технология типовых деталей
- •14.1. Технологический процесс изготовления плоскопараллельных пластин и клиньев
- •14.1.1. Предварительная обработка
- •14.1.2. Окончательная обработка исполнительных поверхностей
- •14.1.3. Изготовление точных пластин
- •14.2. Технологический процесс изготовления призм
- •14.2.1. Предварительная обработка
- •14.2.2. Окончательная обработка исполнительных поверхностей
- •14.3. Технологический процесс изготовления линз
- •15. Технология нестандартных деталей
- •15.1. Шаровидные линзы
- •15.1.1. Характеристики деталей
- •15.1.2 Технология изготовления
- •15.2. Цилиндрические и торические поверхности
- •15.3. Оптические детали лазеров
- •15.4. Основы технологии изготовления волоконно–оптических элементов (воэ)
- •15.4.1. Основные технические характеристики воэ
- •15.4.2. Основные требования к стеклам для воэ
- •15.4.3. Изготовление волоконно-оптических пластин (вол)
- •15.4.4 Изготовление микроканальных пластин (мкп)
- •15.5. Методы изготовления деталей с асферическими поверхностями
- •1 5.5.1. Методы нанесения слоя
- •15.5.2 Методы механической обработки
- •15.6. Изготовление крупногабаритных деталей
- •Окончание табл. 15.4
- •15.7. Изготовление шкал и сеток
- •15.7.1 Виды шкал и сеток, требования к ним
- •15.7.2 Основные технологические процессы и оборудование
- •1 5.8. Оптические детали из полимеров
- •15.9. Стеклометаллические зеркала
- •16. Соединение оптических деталей
- •16.1. Способы соединения
- •16.2. Материалы, применяемые для соединения
- •16.3. Технология соединения оптических деталей
- •17. Основы сборки и юстировки оптических приборов
- •17.1. Сборочные элементы приборов
- •17.2 Структура технологического процесса сборки
- •17.3. Общие принципы построения технологического процесса сборки
- •18. Фокусировка изображения в оптическом приборе
- •18.1. Параллакс в оптическом приборе
- •18.2. Способы фокусировки
- •18.2.1 Фокусировка при помощи астрономической зрительной трубы
- •18.2.2 Фокусировка при помощи плоскопараллельной пластинки
- •18.3. Контроль параллакса по бесконечно удаленному предмету
- •18.3.1 Проверка параллакса при помощи коллиматора
- •19. Сборка и юстировка типовых узлов оптических приборов
- •19.1. Сборка и юстировка объективов
- •19.1.1. Типы конструкций объективов оптических приборов. Общие требования к сборке объективов
- •19.1.2. Сборка объективов насыпной конструкции
- •19.1.3. Методы контроля и юстировки объективов. Контрольноюстировочные приборы
- •19.1.4. Сборка и юстировка узлов с призмами и зеркалами, работающими в параллельных и сходящихся пучках
- •20. Сборка и юстировка типовых оптических приборов
- •20.1. Сборка и юстировка спектральных приборов
- •20.2. Сборка и юстировка угломерных приборов
- •20.2.1. Общие требования к сборке и юстировке оптических угломерных приборов
- •20.2.2 Сборка и юстировка угломерных приборов с поворотными визирами
- •Библиографический список
9. Механическая обработка оптических кристаллических материалов
9.1. Основные физико-механические и физико-химические свойства
В оптическом приборостроении используются самые разнообразные кристаллические материалы. Относительно «мягкие» кристаллы с микротвердостью до 106 Па условно можно разделить на несколько групп, объединяющих материал по их основным физико-механическим и физико-химическим свойствам [9].
К твердым оптическим кристаллам с микротвердостью выше 106 Па относятся кварц, гранат, фианит, оптический монокорунд (лейкосапфир, рубин, сапфир)[10].
9.2. Условия для обработки кристаллов и техника безопасности
Кристаллы с микротвердостью до 6∙106 Па необходимо обрабатывать в помещениях, изолированных от участков обработки других более твердых материалов, со стабильной температурой воздуха, равной 24 ± 1°С, относительной влажностью 55 ± 5 % и чистотой воздуха по 1-му классу (ОСТ 3-5757-84). Обработку производят в спецодежде (халате, головном уборе), на руки надевают напальчники или резиновые перчатки.
До начала обработки заготовки кристаллов выдерживают от 3 до 12 ч в условиях, где ведется обработка. Заготовки проходят входной контроль на наличие скрытых трещин, посечек, вырывов материала; они должны соответствовать категориям пузырности, однородности, двойному лучепреломлению.
Коэффициент запуска деталей обычно предусматривается большим, чем у стекла, и составляет 1,5 – 2,0.
Ориентирование кристаллов. Оптически изотропные кристаллы ориентируют обычно относительно оси роста и реже – относительно кристаллографических направлений куба [100], додекаэдра [110], октаэдра [111], когда учитывают влияние анизотропии физико-механических свойств материала на чистоту и точность формы поверхности обрабатываемой детали.
Для ориентации используют установку для рентгеноструктурного анализа типа УРС-50 (для деталей диаметром не более 0,12 м; и точность измерения не более 2 угл. мин) или гониометр типа Г5М (для деталей диаметром не более 0,2 м; точность измерения ± 5 с).
Метод оценки разориентации в кристаллах CaF2, BaF2 по относительному коэффициенту зеркального отражения света (ρmах) шлифованной поверхностью обеспечивает точность свыше 10 угл. град и пригоден для любого размера кристалла. Значение ρmах измеряют рефлексометром ПКЩ-1 по различным кристаллографическим плоскостям или блокам. По аналогии с анизотропией микротвердости определяют коэффициент анизотропии II рода kанизII.
Электрооптические кристаллы типа DKDP, KDP, ADP ориентируют в двух кристаллографических направлениях (001) или z-среза перпендикулярно к главной оптической оси и (100), (010) или х, у-срезов параллельно главной оптической оси. Для ориентации применяют поляризационный микроскоп или коноскопическую установку типа ПК-809. Измерения производят с точностью 2 – 3 угл. мин по коноскопической картине, которая видна только в направлении оптической оси. При отклонении рабочих поверхностей от нужного положения оптической оси центры изображения смещаются с центра поля зрения. По углу, на который необходимо наклонить пластинку до совмещения центра симметрии коноскопической картины с оптической осью прибора, определяют имеющееся отклонение.