- •Isbn 5-7629-0807-0 © cПбГэту "лэти", 2007 Введение
- •Основы физико-химического анализа многокомпонентных систем
- •2. ТриангуляциЯ и тетраэдрация. Диаграммы состояния многокомпонентных систем
- •3. Диаграммы "состав – свойство" многокомпонентных систем
- •Контрольные задания
- •4. Прогнозирование полупроводниковых свойств в многокомпонентных системах
- •5. Материалы современной оптоэлектроники и наноэлектроники
- •5.1. Расчет параметров кристаллической решетки и ширины запрещенной зоны в гетероструктурах
- •Контрольные вопросы
- •5.2. Приближение ковалентного радиуса и виртуального кристалла
- •5.3. Построение зонных диаграмм гетероструктуры
- •5.4. Расчет коэффициентов преломления и диэлектрической проницаемости твердых растворов
- •Контрольный вопрос
- •5.5. Расчет упругих напряжений и деформаций
- •Контрольный вопрос
- •5.6. Влияние пластической деформации на электрофизические и оптические свойства материалов и характеристики приборов на гетероструктурах
- •Контрольный вопрос
- •5.7. Твердые растворы на основе соединений а2в6 и а4в6
- •Заключение
- •Приложение
- •197376, С.-Петербург, ул. Проф. Попова, 5
Контрольный вопрос
5.3. Почему интерполяционное выражение для расчета диэлектрической проницаемости полупроводниковых твердых растворов имеет вид ?
Ответ. Интерполяционное выражение для диэлектрической проницаемости получено в приближении линейного характера интерполяции поляризуемости отдельных атомов (молекул) α0. Диэлектрическая проницаемость ε и поляризуемость α0 связаны соотношением Клазиуса−Мосотти:
~ α0.
Примечание. Расчет свойств многокомпонентных материалов, безусловно, должен быть привязан к приборным реализациям. Напомним основные разновидности лазерных гетероструктур: односторонние гетероструктуры, двойные гетероструктуры, лазеры с раздельным ограничением, варизонные гетероструктуры [18].
В односторонних гетероструктурах активный слой расположен между p−n-переходом и изотипным гетеропереходом, отделяющим его от более широкозонного полупроводника. Если активная область имеет проводимость р-типа, то условная запись такой структуры имеет вид: п – р* – Р, где прописная буква использована для обозначения широкозонного материала, а звездочкой обозначена активная область. Пассивные области гетероструктуры называют п- и р-эмиттерами, поставляющими в активную область электроны и дырки соответственно.
В двойных гетероструктурах оба эмиттера представляют собой материал более широкозонный по отношению к активной области. Такие структуры могут быть типа Р – р*– N и Р – п*– N. Двойные гетероструктуры обеспечивают не только электронное, но и оптическое ограничение. Значение коэффициента преломления ń у широкозонных твердых растворов, как правило, меньше, чем у узкозонной активной области.
Гетероструктуры с раздельным ограничением содержат между широкозонными Р- и N-областями не один, а несколько слоев с меньшими значениями ширины запрещенной зоны.
Простейшей из гетероструктур с раздельным ограничением является гетероструктура типа Р – Рl – n*– Nl – N или N – Nl – р*– Рl– Р, где эмиттерные слои Рl и Nl имеют промежуточные значения ширины запрещенной зоны между активным слоем и слоями Р и N. В такой структуре появляется возможность раздельно управлять толщиной активного слоя, в котором наблюдается электронное ограничение, и толщиной волноводного слоя, обеспечивающего оптическое ограничение. Толщина волноводного слоя, соответственно, равна сумме толщин активного слоя и эмиттерных слоев Рl и Nl.
В варизонных структурах гетерограницы размыты в некоторые переходные области с переменным значением ширины запрещенной зоны. В таких областях возникает так называемое квазиэлектрическое поле, связанное с градиентом ширины запрещенной зоны, что используется для повышения эффективности сбора носителей заряда в активной области.
Детальное рассмотрение особенностей волноводных свойств в перечисленных гетероструктурах относится к физике приборов и выходит за рамки материаловедческих задач, рассматриваемых в данном издании.
5.5. Расчет упругих напряжений и деформаций
Процессы эпитаксиального роста протекают по механизму псевдоморфизма в случае незначительного различия периодов решетки подложки и эпитаксиального слоя. Когерентность гетерограницы в этом случае обеспечивается процессом смещения атомов из своих положений равновесия, который компенсирует несоответствие межатомных расстояний. При когерентном сопряжении фаз не нарушается макроскопическая сплошность материала и кристаллографические плоскости непрерывно переходят из подложки в эпитаксиальный слой. Однако при этом изменяются межплоскостные расстояния в направлении, параллельном и перпендикулярном гетерогранице. В случае кубической симметрии сопрягаемых материалов когерентное срастание решеток по плоскости (100) сопровождается тетрагональным искажением кристаллической решетки, а при эпитаксии на плоскость (111) искажения носят ромбоэдрический характер. В плоскости гетерограницы появляются внешние упругие напряжения, называемые напряжениями несоответствия, и связанные с ними деформации.
В общем случае соотношения между компонентами тензора напряжений σij и деформаций εkl устанавливает закон Гука [21]: σij = cijkl εkl, где cijkl – компоненты упругих постоянных тензора 4-го ранга.
Тензор 4-го ранга в общем случае содержит 81 компоненту (34). В силу симметричности тензоров εij и Тij (εij = εji и σij = σji) число независимых компонент cijkl сокращается до 36. Из термодинамических соображений следует, что если деформирующие силы консервативны, то коэффициенты cijkl симметричны также и относительно перестановки пар индексов: cijkl и cklij (при i, j, k, l = 1, 2, 3).
Задача 5.25. Используя симметричность индексов у упругих постоянных cijkl, представить уравнение σij = cijkl εkl в матричном виде σm = cmnεn. Показать связь между σm и σij; εn и εkl; cmn и cijkl.
Решение. В соответствии с так называемым правилом "девятки" (сумма двух неодинаковых индексов и третьего, их замещающего, должна быть равна 9, т. е. (2 + 3) + 4 = 9; (3 + 1) + 5 = 9; (1 + 2) + 6 = 9, получим: σ11 → σ1; σ22 → σ2; σ33 → σ3; σ23 = σ32 → σ4; σ13 = σ31→ σ5; σ12 = σ21 → σ6. Аналогично производится перенумерация компонент деформации εkl. В этом случае матрица упругих постоянных cmn может быть представлена через cmn в виде:
εn σn |
|
|
|
|
|
|
|
с1111 |
с1122 |
с1133 |
с1123 |
с1113 |
с1112 |
с 1132 |
с1131 |
с1121 |
||||
|
с2211 |
с2222 |
с2233 |
с2223 |
с2213 |
с2212 |
с 2232 |
с2231 |
с2221 |
||||
|
с 3311 |
с3322 |
с3333 |
с 3323 |
с3313 |
с3312 |
с 3332 |
с3331 |
с3321 |
||||
|
с2311 |
с2322 |
с2333 |
с 2323 |
с2313 |
с2312 |
с 2332 |
с2331 |
с2321 |
||||
с3211 |
с3222 |
с3233 |
с 3223 |
с3213 |
с3212 |
|
с 3232 |
с3231 |
с3221 |
||||
σ5 |
с 1311 |
с1322 |
с1333 |
с 1323 |
с1313 |
с1312 |
с 1332 |
с1331 |
с1321 |
||||
с3111 |
с3122 |
с3133 |
с 3123 |
с3113 |
с3112 |
|
с 3132 |
с3131 |
с3121 |
||||
σ6 |
с1211 |
с1222 |
с1233 |
с 1223 |
с1213 |
с1212 |
с 1232 |
с1231 |
с1221 |
||||
с2111 |
с2122 |
с2133 |
с 2123 |
с2113 |
с2112 |
|
с2132 |
с2131 |
с2121 |
Таким образом, для тензоров 4-го ранга можно сформулировать дополнительные правила:
cmn = cijkl, если m и n равны 1, 2, 3;
cmn = 2cijkl, если m или n равно 4, 5, 6.
Например, с14 = c1123 + c1132 = 2c1123;
cmn = 4 cijkl, если m и n равны 4, 5, 6.
Например, с45 = c2313 + c2331 + c3213 + c3231 = 4c2313.
Необходимо подчеркнуть, что упругие постоянные cmn не являются тензором. Эти компоненты не преобразуются как компоненты тензора, при их преобразовании необходимо возвращаться к четырехиндексным обозначениям.
В тензоре упругости только для класса кристаллов, отвечающего триклинной сингонии, существует 21 независимая компонента для упругих постоянных. Для всех остальных классов часть коэффициентов обращается в нуль вследствие свойств симметрии кристалла. В кубической сингонии всего 9 компонент упругих постоянных отличны от нуля, из них только 3 являются независимыми: с11 = c22 = c33; с12 = c13 = c23; с44 = c55 = c66.
Справочные данные об упругих постоянных приведены в табл. П 1, П 3, П 4 Приложения.
Для расчета коэффициентов упругости в многокомпонентных твердых растворах используют методы линейной интерполяции. Для твердых растворов AxByC1–x–yD такая интерполяция для коэффициента упругости имеет вид cmn(х, у) = хcmn(AD) + ycmn(BD) + (1 – x – y) cmn(CD); для твердых растворов AхB1–хCуD1–y линейная интерполяция может быть записана так: cmn(х, у) =
= ху cmn(AС) + х(1 – y)cmn(АD) + (1 – x)уcmn(ВС) + (1 – x)(1 – y)cmn(ВD).
В общем случае cmn зависит от температуры, но, как правило, в интервале от 300 до 1000 К изменения значений cmn не превышают 10 %, поэтому в оценочных расчетах их не учитывают.
Если толщина подложки H много больше толщины эпитаксиального слоя h (Н >> h), то деформация в слое становится однородной и изгибом структуры и деформацией подложки можно пренебречь. В плоскости гетерограницы нормальные напряжения и деформации одинаковы (ε1 = ε2 и σ1 = σ2), а касательные напряжения отсутствуют (σ4 = σ5 = σ6 = 0). По направлению нормали к плоскости роста напряжение σ3 = 0, т. е. эпитаксиальный слой не нагружен, однако деформация ε3 отлична от нуля.
Значения напряжений и деформаций, возникающих на гетерогранице при когерентном сопряжении двух решеток, зависят от их кристаллографической ориентации.
Если эпитаксия проводится на плоскость (100), то химически обусловленное несоответствие периодов решетки f0, определяющее деформации в плоскости гетерограницы ε1 и ε2, можно рассчитать по следующему выражению:
f0 = = – ε1,
где a0 – параметр кристаллической решетки эпитаксиального слоя твердого раствора, as – параметр кристаллической решетки подложки.
Задача 5.26. Определить упругие напряжения σ1 и σ2 в плоскости гетерограницы "подложка – эпитаксиальный слой", если параметр решетки подложки as, а равновесное значение параметра решетки эпитаксиального слоя a0. Найти значения деформаций ε1, ε2, ε3, а также рассогласование параметров решетки в направлении, перпендикулярном гетерогранице . Считать, что подложка и эпитаксиальный слой относятся к кубической сингонии, рост осуществляется по плоскости (100).
Решение. Из условия задачи следует, что σ1 = σ2 и σ3 = 0. Аналогично σ4 = σ5 = σ6 = 0 и ε4 = ε5 = ε6 = 0.
Найдем значения деформаций ε1 и ε2. По определению химически обусловленное рассогласование периодов решетки f0 определяется следующим образом: f0 = = – ε1 = – ε2. Запишем выражение для расчета напряжения в направлении, перпендикулярном гетерогранице:
σ3 = c31ε1 + c32ε2 + c33ε3 + c34ε4 + c35ε5 + c36ε6 = c12ε1 + c12ε1 + c11ε3 = 0. Отсюда
ε3 = = . Тогда напряжения в плоскости гетерограницы
σ1 = σ2 = c11ε1 + c12ε2 + c13ε3 = c11ε1 + c12ε2 = =
= .
Рассогласование параметра решетки в направлении, перпендикулярном гетерогранице :
.
Примечание. Обратить внимание на значения cmn в табл. П 1: c12 ≈ c44;
c11 ≈ 2 c12, т. е. ≈ 2 f0.
Задача 5.27. Рассчитать плотность упругой энергии (упругая энергия единицы объема) деформированного слоя твердого раствора по условию задачи 5.26.
Решение. По определению
= =
.
Задача 5.28. Рассчитать упругодеформированное состояние гетероструктуры, если подложка и эпитаксиальный слой относятся к кубической сингонии, рост осуществляется по плоскости (111).
Решение. При ориентации подложки и слоя в плоскости (111) расчетные соотношения принимают следующий вид:
f0 = = –ε1; ε1= ε2 ≠ ε3
; ;
;
; σ3 = 0;
= .
Задача 5.29. Закон Гука в тензорном виде может быть записан следующим образом:
σij = cijkl εkl или εij = sijkl σkl,
где cijkl – коэффициенты упругой жесткости (модули упругости), sijkl – коэффициенты упругой податливости.
Для кристаллов кубической сингонии найти выражения для коэффициентов s11, s12, s44 для GaAs.
Ответ: ; ;
.
Примечание. Эти соотношения можно записать в более компактной форме:
; ; .
Задача 5.30. Объяснить физический смысл коэффициентов упругой жесткости с11, с12 и с44 для кристаллов кубической сингонии.
Решение. Физическая сущность коэффициента с44 очевидна. Этот коэффициент является мерой сопротивления деформации, вызывающей скалывающие напряжения, приложенные в плоскости (100) в направлении [010].
Коэффициенты с11, с12 не имеют прямой физической интерпретации, однако их линейные комбинации имеют простое объяснение:
, ,
где К – объемная упругость или сопротивление сжатию (мера сопротивления деформации, вызываемой гидростатическим давлением); G – мера сопротивления деформации в плоскости (100) в направлении [110].
Задача 5.31. В научно-технической справочной литературе основными физическими величинами, характеризующими упругие механические свойства конструкционных материалов, являются модуль нормальной упругости Е и коэффициент Пуассона ν.
Модуль упругости (модуль Юнга) Е – коэффициент пропорциональности между нормальным напряжением и относительным удлинением.
Коэффициент Пуассона ν – абсолютное значение отношения поперечной деформации к продольной.
Рассмотреть случай однородной деформации изотропного (поликристаллического) стержня вдоль оси z при простом растяжении (сжатии). Определить выражения для Е и ν через коэффициенты упругой жесткости сmn (через коэффициенты К и G) для кристаллов кубической сингонии.
Решение. По условию испытания упругих свойств материала силы действуют равномерно на всю поверхность торцов стержня. Сила, действующая на единицу площади поверхности: σ ≡ σ33 = σ3. По определению εij = sijkl σkl, и тогда, в соответствии с решением задачи 5.30 получим:
;
Отметим, что с11 – с12 = 2G; с11 + 2с1 = 3К. Тогда
; ;
.
По определению модуль Юнга (или модуль нормальной упругости Е) − величина, обратная коэффициенту, связывающему σ33 и ε33:
.
Коэффициент Пуассона (отношение поперечного сжатия ε11 к продольному растяжению ε33)
.
Задача 5.32. Схема эксперимента по условию задачи 5.31 позволяет легко определить модуль Юнга Е и коэффициент Пуассона ν, а затем найти значения G и К и вычислить с11 и с12. На практике металловеды широко используют оценочные соотношения ; .
Используя решение задачи 5.31 вывести уравнения, определяющие значения G и К через модуль Юнга Е и коэффициент Пуассона ν. Показать, что выражения, применяемые в металловедении при оценке G и К через модуль Юнга Е, теоретически обоснованы для значения коэффициента Пуассона ν = 0,33. (Значения коэффициента Пуассона ν близки к 0,33 для большинства металлических материалов, но не для всех.)
Ответ: ; .
Задача 5.33. В задаче 5.26 проведен анализ упругодеформированного состояния эпитаксиального слоя в приближении отсутствия пластической деформации. В реальных системах может происходить частичная пластическая деформация. Спланировать эксперимент по оценке напряженного состояния в гетероструктуре.
Ответ. Экспериментально определяется рассогласование параметров решетки подложки и слоя в направлении, перпендикулярном гетерогранице . С использованием выражений, полученных при решении задачи 5.26, оцениваются значения f0, σ1, ε3, ε1.
Примечание. По сравнению остаточной упругой деформации с полной упругой деформацией может быть оценена величина пластической деформации.
Задача 5.34. Что можно сказать о физическом состоянии кристалла, если матрица тензора напряжений σij имеет следующий вид:
-
– р
0
0
0
– р
0
0
0
– р
Как изменится ширина запрещенной зоны полупроводников А3В5 и твердых растворов на их основе? Как изменится ширина запрещенной зоны полупроводников А4В6 (халькогенидов свинца, халькогенидов олова)? Получить количественные оценки для конкретных материалов, заданных преподавателем.
Указания. Случай, когда σij = – рδij, соответствует всестороннему сжатию или растяжению (гидростатическое давление). Поэтому при расчетах ширины запрещенной зоны следует воспользоваться значениями коэффициентов , приведенными в табл. П 3 Приложения. Обратить внимание на аномальные значения для халькогенидов свинца.
Задача 5.35. В полупроводниках А3В5 потолок валентной зоны находится в (∙) Г зоны Бриллюена (см. рис. 5.1). В (∙) Г происходит вырождение. Как изменится энергетическая зонная структура при упругой деформации? Предложить план эксперимента по анализу упругодеформированного состояния с использованием возникающего эффекта.
Ответ. В (∙) Г снимается вырождение. В зависимости от характера деформации зона легких дырок находится выше (при сжатии) или ниже (при растяжении) зоны тяжелых дырок. При люминесценции наблюдается переходы из зоны проводимости в две подзоны: легких и тяжелых дырок. Излучение в подзону легких дырок поляризовано параллельно оси деформации, а в подзону тяжелых дырок – перпендикулярно оси деформации. Таким образом, можно раздельно оценивать энергетические зазоры между зоной проводимости и валентными зонами легких и тяжелых дырок и диагностировать характер деформации.