Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Литература / (тоже супер) физосновы для экз

.pdf
Скачиваний:
0
Добавлен:
05.06.2026
Размер:
11.11 Mб
Скачать

190

 

 

 

 

Р А З Д Е Л 2

ляют из (2.1.2) суммированием составляющих по-

грешностей:

 

 

 

 

 

R =

ρS +

l +

b

,

(2.1.3)

R

ρS

l

b

 

 

где R — абсолютная погрешность воспроизведения сопротивления; ΔρS — абсолютная погрешность воспроизведения удельного поверхностного сопротивления; l, b — абсолютные погрешности воспроизведения длины и ширины резистора соответственно.

Полная относительная погрешность резистора определяется суммой погрешностей его изготовления и конструкции, а также погрешностей, обусловленных влиянием условий эксплуатации:

 

γ R = R / R =

 

(2.1.4)

= γ ρS + γ Kф

+ γ Rк + γ R T + γ Rст ,

 

где γ ρS = ρS / ρS

относительная

погрешность

воспроизведения ρS; γ Kф — погрешность коэффи-

циента формы; γ Rк — погрешность переходных со-

противлений областей контактов.

 

 

Погрешность

воспроизведения

 

удельного

поверхностного

сопротивления γ ρS

 

зависит от

материала, способа и условий нанесения резистивной пленки. Погрешность коэффициента формы γ Kф зависит от погрешностей геометрических размеров — длины l и ширины b резистора:

γ Kф = l / l + b / b. Температурная погрешность γ R Т определяется ТКС = αR и интервалом рабочих тем-

ператур T = T Tн:

γ RT = α R T.

(2.1.5)

Погрешность γ Rст характеризует временную нестабильность резистора и определяется коэффициентом старения.

В процессе производства воспроизведение значений ρS, l, b сопряжено со случайными отклоне-

где σρS = σρS

Ф И З И Ч Е С К И Е Я В Л Е Н И Я И П Р О Ц Е С С Ы В П Л Е Н О Ч Н Ы Х С Т Р У К Т У РА Х

191

ниями вследствие неточности технологических режимов или разброса геометрических размеров масок, фотошаблонов и др.

В большинстве случаев отклонения ρS, l, b, определяющие погрешность резистора по (2.1.3) или (2.1.4), происходят при взаимно независимых технологических операциях, поскольку ширина b достигается при формировании конфигурации резистивного слоя, а длина l — при формировании контактных площадок.

Поэтому корреляционные связи между этими отклонениями отсутствуют. Следовательно, систематическую (математическое ожидание) MR)пр ислучайную(относительноесреднеквадратическое отклонение) σRпр составляющие производственной погрешности в относительной форме можно записать в виде

MR )пр = MρS ) + Ml ) + Mb ),

(2.1.6)

σRпр = σRпр / R =

2

2

2

1/2

,

(2.1.7)

(σρS

+ σl

+ σb )

/ ρS ,σl = σl / l,σb = σb / b и σρS lb — относительные и абсолютные среднеквадратиче-

ские отклонения ρS, l и b.

В условиях серийного и массового производства ИМС, когда технологические процессы формирования пленочных резисторов хорошо отлажены, законы распределения погрешностей ρS, l, b близки к нормальному, а систематические составляющие этих погрешностей малы. В этом случае в качестве номинальных принимают расчетные значения ρS, l, b, которые равны соответствующим математическим ожиданиям.

При известной гарантированной надежности ρг, определяющей вероятность попадания случайного значения R в интервал R ± R, из (2.1.7) можно определить ширину поля рассеяния. Так, для широко применяемого значения ρп = 0,9973

192

 

 

 

 

 

 

Р А З Д Е Л 2

 

2

ρS ) + δ

2

l ) + δ

2

1/2

, (2.1.8)

δ(γ R )пр ≈ δ

 

 

 

b )

где δ — половина поля рассеяния.

Вданном случае относительная погреш-

ность δ(γ ρS ) = ±3σρS и

абсолютные погрешности

δ( l) = ±3σl, δ( b) = ±3σb

определяются возможно-

стями производства путем предварительных статистических экспериментальных исследований.

При заданных δ(γ R )пр.доп, δ(γ ρS ), δ( b), δ( b) с помощью (2.1.7) можно определить допустимое

значение геометрической погрешности:

 

 

 

 

 

σ2г.доп = σ2

 

 

 

= σ2l

 

+ σ2b

= (σ2

)

 

σ2

 

=

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Kф

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Rпр

 

доп

 

ρS

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

2

 

 

 

σb Kф

2

(2.1.9)

 

 

 

 

 

 

σb

 

 

 

 

σl

 

=

σl

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

=

 

 

1

+

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

,

 

 

 

 

 

 

b2

 

 

σ

b

K

 

 

 

l2

 

 

 

 

σ

l

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ф

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

δ (γ

Kф

 

)

 

 

 

= δ2

 

 

 

)

 

 

 

 

 

 

− δ2

ρS

) 1/2

=

 

 

 

 

 

 

 

 

доп

 

 

 

 

 

R

 

 

пр.доп

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

δ(

 

b)

 

δ(

 

l)

 

 

1

2 1/2

=

 

 

 

 

 

 

 

 

 

=

 

 

 

 

 

1

+

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(2.1.10)

 

 

 

b

 

 

δ(

 

b) K

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ф

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

=

δ(

 

l)

 

+

δ(

b)

 

 

2 1/2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

Kф

.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

l

 

 

 

 

 

l)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

δ(

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Геометрическую составляющую погрешности можно выразить через площадь резистора SR = lb и коэффициент формы Kф:

 

σ2

 

σ2

 

σ2

 

Kф

 

σ2г =

l

+

b

=

l

+ σ2b

 

. (2.1.11)

l2

b2

SR Kф

SR

 

 

 

 

 

Минимальное значение этой погрешности достигается при Kф = σlb:

σгmin = (2σlσb / SR )1/2.

Вопытном производстве допустимую по-

грешность коэффициента формы определяют из (2.1.4).

Ф И З И Ч Е С К И Е Я В Л Е Н И Я И П Р О Ц Е С С Ы В П Л Е Н О Ч Н Ы Х С Т Р У К Т У РА Х

193

Допустимая мощность рассеяния резистора

Pдоп без изменения электрофизических свойств определяется удельной мощностью рассеяния P0 материала пленки и площадью резистора SR:

Pдоп = P0SR = P0lb P = I2R = U2/R. (2.1.12)

Температурный коэффициент сопротивления

TKR = αR вследствие хороших адгезивных свойств резистивных пленок с подложкой, когда температурные изменения длины αl и ширины αb резистора зависят от TKR подложки αп l = αb = αп), определяется температурным коэффициентом удельного поверхностного сопротивления:

TKR = R / R(Tн )(T Tн ) = αR = αρS . (2.1.13)

Следовательно, температурные изменения сопротивления пленочного резистора определяются

выражением

 

 

 

 

 

 

 

 

 

R

= ρ

l

= ρ (1+ α

ρS

T)

l

 

(2.1.14)

 

b

Т

ST b

S

 

 

или коэффициентом γ RТ

(2.1.5).

 

 

 

 

Температурный

коэффициент αρS

является

случайной величиной с математическим ожиданием MρS ) и среднеквадратическим отклонением σαρS = δ(αρS ) /3. Воздействие температуры на пленочный резистор проявляется в виде систематиче-

ской MR )T = MρS ) T ислучайнойδ(γR)T = δ(ρS) T составляющих погрешностей резистора.

Коэффициент старения пленочного резистора определяет временную нестабильность его сопротивления. Он практически равен коэффициенту старения удельного поверхностного сопротивления, обусловленному изменением структуры пленки и ее окислением:

KстR = ( R/R)ст/ t KстρS =

 

= (ΔρSS)ст/ t,

(2.1.15)

где t — промежуток времени, в течение которого поверхностное сопротивление пленки изменилось

194

Р А З Д Е Л 2

на величину ΔρS. С увеличением нагрузки (мощности рассеяния) и повышением температуры интенсивность старения материала возрастает. За время эксплуатации t относительное изменение сопротивления составляет

( R / R)ст = γ Rст = KстRt.

(2.1.16)

Коэффициент KстR является также случайной величиной с математическим ожиданием M(KстR) и среднеквадратическим отклонением σKстR = δ(KстR ) /3. Систематическая и случайная составляющие отклонений сопротивления, обусловленные старением материала пленки, равны соответственно:

M( R / R)ст = M(KстρS )t; δ( R / R)ст = δ(KстρS )t.

С целью уменьшения площади, занимаемой резистором, следует стремиться к увеличению отношения l/b, что может быть достигнуто за счет уменьшения ширины резистора b (увеличение длины l нецелесообразно, а значение ρS является постоянным для данного материала). Однако минимальная ширина резисторов ограничена рядом технологических и эксплуатационных факторов: способом нанесения пленки и формирования необходимой конфигурации, точностью изготовления резистора и мощностью рассеяния.

При минимальном значении b и постоянном ρS необходимое значение сопротивления R достигается за счет соответствующего значения длины резистора l. При этом для прямоугольных резисторов максимальная длина по технологическим соображениям ограничена величиной Kф = l/b = 10. Для реализации резисторов с Kф > 10 используют конструкции сложной конфигурации (рис. 2.23), причем площадь платы, отводимая под резистор, в этом случае уменьшается. А для реализации прецезионных тонкопленочных и особенно толстопленочных резисторов, требуемые номинальные зна-

Ф И З И Ч Е С К И Е Я В Л Е Н И Я И П Р О Ц Е С С Ы В П Л Е Н О Ч Н Ы Х С Т Р У К Т У РА Х

195

а

б

в

 

Рис. 2.23

Конструкции пленочных резисторов сложной конфигурации:

а — прямоугольной формы; б — криволинейной формы с прямоугольными изгибами; в — криволинейной формы с закругленными изгибами.

чения сопротивления которых достигаются подгонкой, применяют специальные конструкции, в которых предусмотрены зоны подгонки.

Пленочные резисторы могут быть изготовлены с большим диапазоном значений сопротивления (до 10 МОм) и высокой точностью (δR < 0,1% при подгонке), что достигается их конструкцией и выбором материала резистивной пленки.

Расчет тонкопленочных резисторов. Исходными для расчета тонкопленочных резисторов являются:

1)схемотехнические данные — номинальное

значение сопротивления Ri [Ом]; допуск на номинал ±δR [%]; расчетная мощность рассеяния резистора Pi [Вт];

2)технологические данные и ограничения — технология нанесения пленок и формирования конфигурации; точность изготовления масок (фо-

тошаблонов) по контуру

[мкм]; ошибка совме-

щения совм [мкм]; ошибка подпыления

зат [мкм];

погрешность удельного

сопротивления

γ ρS [%]

и геометрических размеров l, b или абсолютные среднеквадратические отклонения удельного сопротивления σρS , длины σl и ширины σb;

3) эксплуатационные данные — диапазон рабочих температур T [°C]; продолжительность работы tраб или хранения tхр и др.

Расчет тонкопленочных резисторов осуществляют в такой последовательности.

196 Р А З Д Е Л 2

1. Вначале производят выбор материала резистивной пленки. Критериями выбора материала являются оптимальное значение ρS, максимальное значение P0 и минимальные значения ТКС, γ ρS , KстR . При расчете группы резисторов оптимальные значения ρS опт определяют расчетным путем, а при расчете одиночных резисторов принимают ρS опт Ri, с тем чтобы Kф → 1. По данным таблицы характеристик материалов пленочных резисторов выбирают материал резистивной пленки с удельным сопротивлением, ближайшим по значению к расчетному ρS опт.

2. После этого осуществляют проверку правильности выбора материала с точки зрения обеспечения точности изготовления и стабильности резисторов, для чего определяют допустимую погрешность коэффициента формы по выражениям (2.1.4) или (2.1.9). В случае использования (2.1.4) допустимая погрешность коэффициента формы

γ Kфдоп = γ R − γ ρS − γ Rст − γ RT − γ Rк , (2.1.17)

где γ R ≤ δR; γ ρS ≤ 5% (заимствуется из условий напыления пленки); γ R ст рассчитывают по (2.1.16) и данным таблицы характеристик материалов пленочных резисторов; γ R к ≤ 2%.

Если рассчитанное по (2.1.17) значение γ Kфдоп получится отрицательным, то это означает, что выбранный материал не обеспечивает изготовление резистора требуемой точности и стабильности. В этом случае необходимо выбрать другой материал с меньшими значениями γ ρS , αR , γ Rст .

3.Используя соотношение (2.1.2), определяют коэффициент формы резистора Kф.

4.По значению Kф выбирают конструкцию резистора определенной формы. При 1 ≤ Kф ≤ 10

рекомендуется конструировать резисторы прямоугольной формы, при 10 < Kф ≤ 50 — резисторы

криволинейной формы с прямоугольными или закругленными изгибами, при 0,1 ≤ Kф < 1 — рези-

Ф И З И Ч Е С К И Е Я В Л Е Н И Я И П Р О Ц Е С С Ы В П Л Е Н О Ч Н Ы Х С Т Р У К Т У РА Х

197

сторы прямоугольной формы, у которых l < b. Порядок дальнейшего расчета зависит от выбранной формы резистора.

5. Для резисторов прямоугольной формы с 1 ≤ Kф ≤ 10 и резисторов с 10 ≤ Kф ≤ 50 определяют минимальную ширину резистора из условия

bрасч ≥ max{bтехн, bточн, bP},

(2.1.18)

где bтехн, bточн, bP — минимальные значения ширины резистора, обусловленные технологическими возможностями изготовления, точностью воспроизведения и мощностью рассеяния соответственно. Значение bтехн определяется возможностями технологического процесса. Значение bточн определяют из условий точности воспроизведения геометрических размеров и формы резистора по выражению

bточн

b + l / Kф

,

(2.1.19)

 

 

γ Kф доп

 

или для серийного процесса при взаимно независимых операциях формирования резисторов по выражению

 

2

2

1/2

/ σг доп.

bточн ≥ (σl / Kф )

 

+ σb

 

Минимальное значение ширины bP рассчитывают из условия (2.1.2):

bP = SPi/RiP0)1/2 = (Pi/P0Kф)1/2. (2.1.20)

За ширину b резистора принимают ближайшее к bрасч большее целое значение, кратное шагу координатной сетки, принятому для чертежа топологии с учетом масштаба.

6. Для резисторов прямоугольной формы с 1≤ Kф ≤ 10 определяют расчетную длину резистора:

lрасч = bKф.

(2.1.21)

За длину l резистора принимают ближайшее к lрасч большее целое значение, кратное шагу ко-

198

Р А З Д Е Л 2

ординатной сетки, принятому для чертежа топологии с учетом масштаба. Обеспечение кратности l шагу координатной сетки достигается соответствующим округлением lрасч.

7. Затем определяют полную длину lполн резистивной полоски; для резисторов, изготовляемых масочным способом,

lполн = l + 2e,

(2.1.22)

где e — размер перекрытия резистивной пленки контактной площадкой; для резисторов, изготовляемых фотолитографическим способом, lполн = l.

8. После этого определяют площадь, занимаемую резистором на плате,

S = lполнb.

(2.1.23)

Для резисторов с Kф < 1 вместо ширины сначала определяют длину l резистора. В этом случае расчетное значение длины lрасч резистора определяют из условия

lрасч max{lтехн, lточн, lP},

(2.1.24)

где lтехн, lточн, lP принимает тот же

смысл, что

b в (2.1.18); их значения определяют с помощью выражений (2.1.19) и (2.1.20), в которых b меняют на l.

Расчетное значение ширины b резистора опре-

деляют из выражения

 

bрасч = l/Kф.

(2.1.25).

Полученные по (2.1.24) и (2.1.25) расчетные значения l и b также округляют к шагу координатной сетки, после чего определяют площадь, занимаемую резистором, используя соотношения (2.1.22), (2.1.23).

Расчет резисторов сложной конфигурации

с 10 < Kф 50 осуществляют следующим образом. При проектировании резисторов с выбранной

формой в виде отдельных резистивных полосок,

Ф И З И Ч Е С К И Е Я В Л Е Н И Я И П Р О Ц Е С С Ы В П Л Е Н О Ч Н Ы Х С Т Р У К Т У РА Х

199

соединенных проводящими перемычками, после определения ширины b рассчитывают сумму длин резистивных полосок l= bKф, после чего определяют количество n резистивных полосок из условия

n = l/10b.

Расчетрезисторатипамеандр(см.рис.2.23б,в) производят из условия минимальной габаритной площади Sг, занимаемой резистором. При этом после расчета ширины b по (2.1.18)–(2.1.20) определяют длину средней линии меандра

lср = bKф.

(2.1.26)

Затем с учетом технологических ограничений задаются расстоянием a между резистивными полосками (a зависит от способа формирования конфигурации) и находят шаг одного звена меандра

t = a + b.

(2.1.27)

Отметим, что при заданном

сопротивле-

нии Ri, выбранном материале и установленных конструктивно-технологических ограничениях габаритные размеры A и B резистора (AB = Sг, см. рис. 2.23б) определяются соотношениями

A = nt = n(a + b) = nb(1 + m),

 

(2.1.28)

 

lср

Kф mn

 

B = l′ − a =

 

a = b

 

,

(2.1.29)

 

 

ср

n

 

n

 

 

 

 

 

 

где n — количество звеньев меандра; m = a/b; lср— средняя длина звена.

Из (2.1.28) и (2.1.29) следует, что

Sг = AB = b2(1 + m)(Kф mn), (2.1.30)

а необходимое число звеньев n меандра для различных соотношений A/B определяется выражением

n = {[Kф/(1 + m)]A/B}1/2.

(2.1.31)

Из (2.1.31) видно, что минимальная габаритная площадь SR резистора достигается при меандре