Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Крылова Т.Н. Интерференционные покрытия. Оптические свойства и методы исследования

.pdf
Скачиваний:
23
Добавлен:
25.10.2023
Размер:
12.31 Mб
Скачать

определены с достаточной точностью. Измерение небольших погло­ щений тонкими интерференционными покрытиями требует примене­ ния специальных методов.

Наличие поглощения можно наблюдать по затуханию интерфе­

ренционных

экстремумов (см. п.

31). При малой

толщине пленок и

Т а б л и ц а

VI 1.5.

Прозрачность

незначительном поглощении ин­

терференционные

максимумы и

эталона П при разных значениях

минимумы

(отражения и пропу­

коэффициента отражения

R и

потерях

 

 

на. поглощение

А

скания) проявляются отчетливо.

 

 

А

 

 

 

По мере

увеличения

толщины

 

 

 

 

 

слоев

или

уменьшения

длины

 

 

 

 

 

 

R

0,01

0,025

0,05

0,1

 

волны,

они уменьшаются — за­

 

 

тухают.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Измерение максимумов и ми­

0,85

0,87

0,69

0,44

0,11

 

нимумов

R

и

Т

для

пленок

0,90

0,81

0,56

0,25

0,00

 

оптической

толщиною

кратной

 

и — ,

с

учетом

показателя

0,92

0,75

0,48

0,14

 

0,95

0,64

0,25

0,00

 

преломления

и

коэффициентов

0,98

0,25

0,00

 

отражения и пропускания

непо-

 

 

 

 

 

 

глощающей подложки, дает воз­

 

 

 

 

 

 

можность

определить

неболь­

шие потери на поглощение. Для количественной оценки малых потерь на поглощение разра­

ботан достаточно простой и точный метод, схема которого приведена на рис. VII.22 [131]. На половину поверхности прозрачной пластины стекла или плавленого кварца, служащей подложкой, наносится

Рис. VI 1.22. Схема определения малых поглощений в пленках

испытуемая пленка. Обратная сторона пластины покрывается сплош­ ным слоем серебра (или алюминия) с высоким коэффициентом отра­ жения, близким к единице (Rm 1). Для определения потерь на поглощение производится измерение коэффициентов отражения

210

Ро — от поверхности без слоя и ps — от поверхности со слоем, при падении света, близком к нормали. Свет, падающий на поверхность со слоем, дважды проходит через него, а потому в первом прибли­ жении потери на поглощение составляют

 

 

 

 

 

 

= ро — ps .

 

 

 

 

Т0

Для определения

ро и ps

введем

следующие

обозначения: R0 и

— коэффициенты

отражения и пропускания

для

одной поверх­

ности раздела

подложка — воздух;

Rm

— коэффициент

отражения

слоя металла; Rs;

Ts;

As

— коэффициенты отражения,

пропускания

и

поглощения

слоя;

р"

1 — пропускание

пластины

подложки.

Для лучей,

отраженных

от

подложки

без пленки и

от

подложки

с

пленкой,

можно

соответственно

написать

следующие

равенства:

 

 

 

R0 + TQ

= 1 и Rk

+ Ts + As

= 1.

 

 

 

Суммирование многократно отраженных лучей после некоторого

преобразования

и

упрощения

дает:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ро

1 -

Rm^R0

 

 

 

(VII.15)

и

аналогично

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(VII. 16)

Если слой металла обладает высоким коэффициентом отражения, близким к 1, то можно ввести обозначение Rm$2 = (1 є ) . Под­ ставив это в уравнения (VII . 15) и (VII. 16) и разложив в ряд знаме­ натель, при малом поглощении света пленками (е <^ 1), и при условии что

Ts

1 — Rs; Т0

1 — R0,

 

получим

 

 

 

 

P o - p s

= 2 4 [ l - e

( T

- L - ) ]

+

+

e « [ T ^ -

T 5

S r ] ,

(VII. 17)

откуда

 

 

 

 

(VII . 18)

»['-Ы*г)]

211

Т а б л и ц а VII.6. Характеристики некоторых материалов, используемых в виде тонких пленок

 

 

П о к а з а т е л ь

 

t п о д л о ж к и

О б л а с т ь

И с т о ч н и к и

В е щ е с т в о

С п о с о б п о л у ч е н и я

X, мкм

п р о з р а ч н о с т и

п р е л о м л е н и я

°С

 

 

 

 

 

X, мкм

 

CaF2

Испарение

из Та- и

Мо-ло-

дочки

 

 

 

 

 

 

 

L i F

Испарение из Та-лодочки

NaF

Испарение из Та-лодочки

MgFa

Испарение

из

Та-лодочки

или электроннолучевой

нагрев

 

Na3 AlFe (крио­

Испарение из Та-лодочки;

лит)

электроннолучевой

нагрев

5NaF

Испарение из Та-лодочки;

3A1F3

электроннолучевой

нагрев

ThF 4

Испарение

из Та-лодочки

ThOF2

 

 

 

 

Si0 2

Электроннолучевой

нагрев;

катодное распыление;

осажде­

 

ние из раствора Si (OQHs),, и др.

L a F 3

Испарение

из

W-лодочки

(слой неоднородный)

 

 

 

L a 2 0 3

Испарение из W-лодочки

- NdF3

Испарение

из W-лодочки

1,23—1,26

0,546

0,15—12

[97,

132,

133]

1,36—1,37

0,546

|

0,11-7

[132,

134]

1,34

Видимая •

0,25—14

 

[132]

 

 

1,38—1,40

0,55

0,21—10

[97,

132,

133,

1,35

2,0

0,236—10

135,

136,

137]

 

1,35

0,55

0,2—14

[97,

132,

133,

1,35—1,37

0,57

0,2—10

 

135]

 

 

 

 

 

 

 

А н а л о г

к р и о л и т а

 

 

[97]

 

 

1,52

0,4

 

0,2—15

[97,

135,

138,

1,51

0,75

0,2—15

139,

140,

109]

1,45

 

 

 

0,6

 

 

 

 

 

 

 

1,5

 

 

 

 

 

 

 

1,46

0,55

' —

0,2—8

[4,

12,

39,

94,

1,446

1.6

135,

141,

142]

1,44—1,45

 

 

 

 

 

 

 

 

1,59

0,55

Подогрев

0,22—2

[135,

143,

 

144]

1,57

2,0

 

 

 

 

 

 

 

 

1,95

0,55

Подогрев

0,35—2

 

 

 

 

 

1,86

2,0

300

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1,60

0,55

Подогрев

 

[135,

143]

0,22—2

 

 

 

 

 

1,58

2,0

300

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

A12 03

SiO

S i 2 0 3

CeF4

PbF2

T h 0 2

Ce02

Nd2 Os

P r e 0 l x

1

. - ^4- -

 

 

 

 

 

1,62

0,6

Электроннолучевой

нагрев;

 

1,59

1,6

 

1,59

0,6

осаждение

из растворов и пи­

 

 

1,56

 

ролиз; катодное распыление

 

 

 

1 54

 

 

 

 

 

 

1,54—1,60

 

Электроннолучевой

нагрев;

 

2,0

0,55

испарение из Та-лодочки

 

1,7

6,0

Электроннолучевой

нагрев;

 

1,52

0,55

реактивное

распыление SiOBO a

 

1,55

 

Испарение

из W-лодочки

 

1,63

0,55

 

1,59

2,0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

1 75

0,55

Испарение

из Pt-лодочки

j

J'7 Q

1,0

 

Электроннолучевой

нагрев;

 

1,8

0,55

 

1,75

2,0

осаждение

 

из

растворов

 

 

 

2 2

0,2

Th (N03 )4 ;

реактивное

распыле­

 

 

1,9—2,05

Видимая

ние

 

 

 

 

 

 

 

 

2,2

0,25

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2,2

0,55

 

 

 

 

 

•2,18

0,55

Испарение

из W-лодочки

 

2,42

0,55

 

 

 

 

 

2,2

Близкая ин­

 

 

 

 

 

 

фракрасная

Испарение

из W-лодочки

 

2,0

0,55

 

1,95

2,0

 

 

 

 

 

Испарение

из W-лодочки

 

1,92

0,5

 

1,82

2,0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

-

 

 

Подогрев

 

 

 

 

 

 

 

300

 

 

 

 

 

 

 

 

0,25—11

 

[12,

94]

 

 

 

 

 

 

 

 

І

0,5—8

[94,

97,

132,

135,

 

145,

146]

 

 

 

 

 

0,3—8

[94,

135,

147,

148,

149,

150,

151]

 

 

Подогрев

0,3—5

[135,

143,

144]

0,24—20

[97,

133,

152]

0,2—11

[12,

21,

39,

56,

 

 

94]

 

 

 

 

 

 

 

 

55

 

 

 

 

 

 

 

350

0,46—12

[135,

143,

144]

 

 

 

 

 

 

 

300

0,4—2

 

[135,

143]

300

0,4—2

 

 

[143]

 

 

 

 

г

 

 

 

 

 

Ве щ е с т в о

тю ,

РЬС12

ZnS

ZrO,

н ю г

ZnSe

Sb 2 0 3

Sb2 S3

Bi 2 O a

w o 3

CdS

CdTe

Si

Те

Ge

T a 2 0 6

Nb2 05

Продолжение табл. VI 1.6

 

П о к а з а т е л ь

 

t п о д л о ж к и

О б л а с т ь

И с т о ч н и к и

С п о с о б п о л у ч е н и я

X, мкм

п р о з р а ч н о с т и

п р е л о м л е н и я

°С

 

 

 

 

X, мкм

 

Электроннолучевой нагрев; реактивное распыление; оса­ ждение из раствора Ті (ОСа Н5 )4 ; окисление Ті

Испарение из Pt- и Мо-ло- дочек

Электроннолучевой нагрев; испарение из Та-лодочки

Электроннолучевой нагрев; реактивное распыление; оса­ ждение из растворов

Реактивное распыление; оса­ ждение из растворов

Испарение из Pt-лодочки

Испарение из Мо-лодочки; осаждение из растворов

2,2

 

2,7

0,55

2,6

2,20

 

2,30

 

2,3

0,55

2,0

10

2,35

0,55

2,20

2,0

2,1

0,55

2,0

2,0

2,02

0,546

2,0

0,63

2,04

0,546

2,01

0,63

2,05

0,546

2,02

0,63

2,20

0,4

2,27

0,3

2,14

0,22

2,3—2,06

0,28

2,14

0,22

2,58

0,663

2,29

0,366

2,04

0,546

1

 

 

 

 

1

Осаждение

из растворов

3,0

0,589

2,5

 

 

 

 

 

 

Реактивное

распыление; оса­

2,44

0,55

ждение из растворов

 

2,34

 

Осаждение

из растворов

2,05

Видимая

Испарение

 

из

кварцевого

2,6

0,6

тигля

 

 

 

2,27

7,0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Близкая

Испарение

из Мо-лодочки

3,05

инфракрас­

 

 

 

 

 

ная

Электроннолучевой

нагрев

3,5

Инфракрас­

ная

Испарение из Та-лодочки

4,9

6,0

Электроннолучевой

нагрев

4,0

Реактивное

распыление

2,20—2,08

0,4

0,7

Реактивное

распыление

2,4—2,22

0,4

0,7

[4, 12, 69, 132,

135, 141, 147, 151,

153, 154, 155, 156]

0,3—14

0,38—25

150

150

180

180 0,25—9

200

200

0,25—9

0,6—15

0,3—1

0,33—12

0,5—10

0,35—9

0,36—10

0,6—7

1,1—10

3,4—20

1,7—100

[97, 157]

[97, 132, 135, 136, 140, 144]

[12, 39, 142]

[12, 39]

[109, 139]

- - -

[12]

[132, 158]

[97]

[135]

[97, 135, 152, 160]

[97, 135]

[39]

Для слоев с низким показателем преломления Rs также невелико, и величиной е 2 можно пренебречь. \Тогда

Расчет потерь на поглощение у пленок с низким показателем пре­ ломления можно производить, пользуясь выражением (VII . 19). В случае высокого показателя преломления надо пользоваться выра­ жением (VII.18), определив предварительно R0, Rs и є. Измерения проводятся в монохроматическом свете для выбранной спектральной области. Небольшие отклонения угла падения от нормали не имеют значения.

Описанным методом были определены потери на поглощение в ко­

ротковолновой области спектра

для пленок MgF2 ; Na3 AlF6 ; ZnS;

Sb2 03 , а также для пленок Т Ю 2

и др. Измерения подтверждают зави­

симость поглощения от

условий получения пленки, что характерно,

например, для пленок

Т Ю 2 , где прогрев при различной.темпера­

туре дает различные модификации Т Ю 2 , обладающие разным

погло­

щением. Кроме того,

поглощение пленок двуокиси титана

растет

с уменьшением длины волны по мере приближения к полосе погло­ щения, расположенной вблизи 350 нм.

36. ОПТИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ НЕКОТОРЫХ ВЕЩЕСТВ, ПОЛУЧАЕМЫХ В ВИДЕ ТОНКИХ ПЛЕНОК

Как уже неоднократно было отмечено, оптические характеристики пленок зависят от условий их получения. Так, например, показатель преломления пленок изменяется при изменении температуры под­ ложки в процессе нанесения пленок. Температура последующей обра­ ботки пленок также оказывает значительное влияние на показатель преломления, толщину, спектральные характеристики и даже на поглощение. В табл. VII . 6 приведены характеристики ряда веществ, которые получаются в виде тонких пленок и используются в оптике. Некоторые из них получили очень широкое применение, другие — применяются пока еще редко.

Приведенные в таблице данные для показателей преломления в ос­ новном относятся к средней части видимой области спектра, где основная масса этих веществ не обладает ощутимым поглощением, где дисперсия мала и имеет нормальный ход изменения. По возмож­ ности, вещества расположены в порядке возрастания показателя преломления. Вследствие пористой структуры тонких пленок их показатели преломления обычно ниже, чем у тех же веществ в массе.

 

 

 

 

 

ЛИТЕРАТУРА

1- Ф р и ш С. Э., Т и м о р е в а

А. В. Курс общей

физики. Т. 1 и 3. М.,

Гостехиздат, 1961. 463

с. и 644 с.

 

 

 

2.

Л а н д с б е р г

Г. С. Оптика. М.—Л.,

Гостехиздат, 1957. 759 с.

3.

Г р е б е н щ и к о в И. В., В л а с о в

А. Г., Н е п о р е н т Б. С. и др.

Просветление оптики.

М.—Л., Гостехиздат, 1946. 212 с.

 

4. К р ы л о в а

Т. Н. Оптические свойства тонких

не поглощающих света

слоев на поверхности стекла.— «Труды

ГОИ»,

1956, Т. 24,

вып. 145, с. 146—170.

5. Б е р н и н г П. X . Теория и методы расчета оптических свойств тонких пленок.— В кн.: Физика тонких пленок. Т. 1. М., «Мир», 1967, с. 91—151.

6. В л а с о в А. Г. Отражение и пропускание света системой тонких пленок.— «Оптико-механическая промышленность», 1946, № 2, с. 11—17.

7.К р ы л о в а Т . Н . Альбом спектральных кривых коэффициента отражения тонких непоглощающих слоев. Л., ГОИ, 1956. 70 с.

8.К р ы л о в а Т. Н. Оптические свойства интерференционных просветля­ ющих пленок.— «Журнал научной и прикладной фотографии и кинематографии», 1961, Т. 6, № 6, с. 462—475.

9. Ш и р о к ш и н а 3. В., С у й к о в с к а я Н. В. Получение просветля­ ющих пленок, прозрачных в инфракрасной области спектра.— «Оптика и спектро­ скопия», 1958, Т. 4, вып. 1, с. 82—86.

10. К о к с Дж. Т., X а с с -Г. Просветляющие покрытия для видимой и инфра­ красной областей спектра.— В кн.: Физика тонких пленок. Т. 2, М., «Мир», 1967, с. 186—253.

П . С в и р и д о в а А. И., С у й к о в с к а я Н. В. Пленки, прозрачные для ультрафиолетового излучения.— «Оптико-механическая промышленность», 1959,

6, с. 31—33; № 8, 1965, с. 43—48.

12.С у й к о в с к а я Н. В. Химические методы получения тонких прозрачных пленок. Л., «Химия», 1971. 199 с.

13.

К р ы л о в а

Т. Н., С о к о л о в а Р. С. Ахроматические просветляющие

пленки.— «Оптика и спектроскопия», 1957, Т. 2, вып. 2, с. 254—262.

14.

П е р в е е в

А. Ф., С у е т и н В. Ф. Ахроматическое просветление ма­

териалов с высоким показателем преломления.— «Оптико-механическая промышлен­

ность»,

1965, № 6, с. 48—51.

 

 

 

15.

Ф у р м а н Ш. А. Широкополосные просветляющие покрытия.— «Оптико-

механическая промышленность»,

1966, №

11,

с. 35—40.

16.

М о т о в и л о в О. А.,

Р у д и

н а

О. Г. Двухслойное просветляющее

покрытие с неоднородным первым слоем.— «Оптико-механическая промышленность»,

1969,

№ 9, с. 37—39.

 

 

 

 

 

 

 

17.

К р ы л о в а

Т. Н. Многослойные

диэлектрические покрытия с высоким

коэффициентом отражения

на поверхности

стекла.— «Оптика и спектроскопия»,

1958,

Т. 4, вып. 2, с. 217—224.

 

 

 

 

18. С о к о л о в а

Р. С , К р ы л о в а

Т. Н. Многослойные

светоделители

из

слоев

неравной оптической толщины.— «Оптика и спектроскопия»,

1962, Т. 12,

вып.

6,

с. 772—778.

 

 

 

 

 

 

 

19.

А л е к с а н д р о в

Г. А., Е м е л ь я н о в а ' Г . А. Ахроматические

непо-

глощающие светоделители.— «Оптико-механическая

промышленность», 1961,

№ 4,

с. 29—30.

 

 

 

 

 

 

 

20.

К р ы л о в а

Т. Н., С о к о л о в а

Р. € . ,

Б о х о н с к а я

И. В. Интер­

ференционные покрытия с большим числом слоев, полученные химическим мето­ дом,— «Оптико-механическая промышленность», 1967, N° ю , с. 47—50.

21.

С о к о л о в а

Р. С. Автореф. канд. дисс. Л., ГОИ, 1965.

22.

С о к о л о в а

Р. С. Широкополосные отражатели для ультрафиолетовой

области

спектра.— «Оптико-механическая промышленность», 1971, № 5, с. 46—47.

23.

Ж и г л и н с к и й А. Г., П у т и л и н Э. С. Широкополосные диэлектри­

ческие зеркала. — «Журнал прикладной спектроскопии», 1969, Т. 10, № 6, с. 1013—

1017.

 

 

 

24.

К о р о л е в

Ф. А., К л е м е н т ь е в а

А. Ю., М е щ е р я к о в а Т. Ф.

и др. Широкополосные отражатели на основе

многослойных диэлектрических по­

крытий.— «Оптика и спектроскопия», 1970, Т. 28, вып. 4, с. 775—780.

25.

К р ы л о в а

Т. Н. Отражение света

от просветленной поверхности при

различных углах падения.— «Оптико-механическая промышленность», 1968, № 11,

с.18—22.

26.К р ы л о в а Т. Н. Отражение света от поверхности стекла с высокоотражающей пленкой при различных углах падения.— «Оптико-механическая промыш­

ленность», 1970, № 3 ,

с. 8—11.

27. С о к о л о в а

Р. С. Светоделительные призмы со слоями из диэлектри­

ков.— «Оптико-механическая промышленность», 1970, № 5, с. 50—52.

28. П р и д а т к о

Г. Д . , К р ы л о в а Т. Н. Оптические свойства многослой­

ных интерференционных поляризаторов.— «Оптико-механическая промышленность», 1958, № 3, с. 23—26; 1962, № 6, с. 16—17.

29.

К р ы л о в а Т.

Н., С о к о л о в а

Р. С. Условия получения прямоли­

нейно

поляризованного

света с помощью

интерференционных поляризаторов.—

«Оптико-механическая промышленность», 1965,

№ 2, с. 6—9.

30.

А л е к с а н д р о в Г. А. Получение

пленки одинаковой толщины из

растворов на поверхности квадратных и прямоугольных пластин.— «Оптико-меха­ ническая промышленность», 1956, № 3, с. 44—45.

 

31. К у з н е ц о в

А. Я-, Н е п о в и н с к и й Ю. В., К у м а р и

А. Н. и др.

Авт.

свид. № 206020.— «Бюлл. изобр.»,

1967, № 24.

 

32. Ш р е д е р X . Осаждение окисных слоев из органических

растворов.—

В кн.: Физика тонких

пленок. Т. 5, М., «Мир», 1972, с. 84—139.

 

 

33. К р ы л о в а

Т. Н., С о к о л о в а

Р. С , 3 а й ц е в С. Н. и др. Стабиль­

ность покрытий, получаемых химическим методом из растворов.— «Оптико-механи­

ческая

промышленность», 1969, № 6, с.

34—37.

«•

34.

К р ы л о в а Т. Н., Ш у в а е в а

И. Ф. Пленки из смеси двуокиси титана

и двуокиси кремния.— «Оптико-механическая промышленность», 1960, № 5,

с.53—54.

35.X о л л а н д Л. Нанесение тонких пленок в вакууме. М.—Л., Госэнергоиздат, 1963. 608 с.

36.К а с у э л л X. Л. Оборудование для испарения материалов в сверх­

высоком вакууме и анализ остаточных газов.— В кн.: Физика тонких пленок. Т. 1, М., «Мир», 1967, с. 13—90.

37.

Д а н и л и н

Б. С. Вакуумное нанесение тонких

пленок. М., «Энергия»,

1967. с.

271.

 

 

 

38.

Б е н н е т X . Е., Б е н н е т Дж. М. Прецизионные

измерения в оптике

тонких

пленок.— В

кн.: Физика тонких пленок. Т.

4,

М., «Мир», 1970.

с. 7—122.

. 39. М о т о в и л о в О. А. Автореф. канд. дисс. Л., ГОИ, 1969.

40.М о т о в и л о в О. А. Тонкие пленки окислов металлов.— «Труды ГОИ», 1960, Т. 28, вып. 157, с. 159—164.

41.А л е к с а н д р о в Г. А. Получение пленок толщиною более одного микро­ метра на поверхности оптических деталей.— «Оптико-механическая промышлен­ ность», 1969, № 3, с. 35—39.

42.

К р ы л о в а

Т. Н., С о к о л о в а

Р. С. Интерференционные дихроиче-

ские зеркала.— «Оптико-механическая промышленность», 1960, № 9,

с. 15—18.

43.

К р ы л о в а

Т. Н.,

С о к о л о в а

Р. С. Авт. свид. № 129313.— «Бюлл.

изобр.»,

1960, № 12.

 

 

 

 

44.

К а л и т е е в с к и й Н . И., Ч а й к а

М. П. Интерферометр Фабри—Перо

и некоторые его приложения

в спектроскопии.— В кн.: Спектроскопия

газоразряд­

ной плазмы. Л., «Наука», 1970, с. 160—200. (АН СССР).

 

45.

К а л и т е е в с к и й

Н. И. Волновая оптика. М., «Наука»,

1971. 376 с.

46.К о р о л е в Ф. А. Спектроскопия высокой разрешающей силы. М., Гостехиздат, 1953. 276 с.

47.Д о л а д у г и н а В. С , Р е б к о в е ц Н. С. Влияние покрытий и низко­

температурного отжига на качество поверхностей оптических деталей.— «Оптикомеханическая промышленность», 1968, № 9, с. 39—42.

48.

Д е в д а р и а н и А. К-, К у р т ц

Л. Ю. О деформации оптических де­

талей

в результате

термообработки

интерференционных покрытий.— «Оптико-

механическая промышленность», 1969,

№ 9, с. 62.

49.

С о к о л о в а

Р. С , К р ы л о в а

Т. Н. Получение отражающих покрытий

на поверхностях высокой точности химическим методом.— «Оптико-механическая

промышленность», 1971, № 3,

с. 43—45.

50. С о к о л о в а Р. С ,

К р ы л о в а Т. Н. Интерференционные поляриза­

торы для ультрафиолетовой области спектра.— «Оптика и спектроскопия», 1963,

Т.14, вып. 3, с. 401—405.

51.Г о л у б е в а Г. И., Р о з е н к р а н ц С. А., Г а р и н а Г. И. Некоторые свойства узкополосных интерференционных светофильтров.— «Оптико-механиче­ ская промышленность», 1965, № 4, с. 1—6.

52.К о р о л е в Ф. А., К л е м е н т ь е в а А. Ю. Интерференционные свето­

фильтры с шириной полосы пропускания

1,5 А.— «Оптика и спектроскопия», 1960,

Т. 9, вып. 5, с. 648—652.

 

 

 

 

 

 

 

 

53.

Ш к л я р е в с к и й

 

И. Н., Л у п а ш к о

Е. А. Дисперсия

фазового

скачка,

возникающего

при

отражении

света

от многослойных

диэлектрических

покрытий.— «Оптика

и спектроскопия»,

1966, Т. 21, вып. 4, с. 482—487.

 

54.

Ф у р м а н

Ш. А. Современные диэлектрические узкополосные

пропуска­

ющие

интерференционные

фильтры.— «Оптико-механическая

промышленность»,

1968, № 9, с. 50—62.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

55.

К р ы л о в а

 

Т. Н. Интерференционные фильтры из

многослойных ди­

электриков.— «Оптика

и спектроскопия»,

1959, Т. 6, вып. 6, с. 784—787.

 

56. С о к о л о в а

Р. С ,

К р ы л о в а

Т. Н. Интерференционные

фильтры

для

ультрафиолетовой

области

спектра.— «Оптика

и спектроскопия», 1959, Т. 6,

вып.

6, с. 788—791.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

57.

К р ы л о в а

 

Т. Н. Создание интерференционных пленок из диэлектриков

и их применение в-оптике. Доклад, представленный на соискание ученой степени

доктора

технических наук. Л., ГОИ, 1965. 48 с.

58.

С о к о л о в а Р. С. Устойчивые непоглощающие зеркала к интерфероме­

трам Фабри—Перо для ультрафиолетовой области спектра.— «Оптико-механическая

промышленность», 1971,

№ 6, с.

39—44.

59. М о т о в и л о в

О. А.

Узкополосные интерференционные фильтры для

ультрафиолетовой области спектра.— «Оптика и спектроскопия», 1967, Т. 22, вып. 6,

с.986—992.

#60. Б е р н д т К- Г. Методы контроля и измерения толщины пленок и способы

получения

пленок, однородных по толщине.— В кн.: «Физика тонких пленок».

Т. З, М.,

«Мир», 1968,

с. 7—57.

61. Г о л у б е в а

Г. И., А б а к у м о в а М. С , К л о ч к о в А. М. Изме­

нение характеристик узкополосных фильтров в зависимости от температуры.— «Оптико-механическая промышленность», 1971, № 4, с. 48—50.

62. Ф у р м а н Ш. А., Л е в и н а М. Д . Исследование зависимости оптиче­ ских свойств диэлектрических узкополосных фильтров от температуры.— «Оптика и спектроскопия», 1970, Т. 28, вып. 4, с. 766—771.

63. Ш к л я р е в с к и й И. Н., Л у п а ш к о Е. А. Многослойные покрытия с избирательной отражающей способностью.— «Оптика и спектроскопия», 1965,

Т.18, вып. 4, с. 661—667.

64.В а л е е в А. С. Многослойные интерференционные фильтры отражающего типа.— «Оптико-механическая промышленность», 1967, № 5, с. 51—54.

65.

С о к о л о в а Р. С , Б е л ь к о в а Е. В. Узкополосные отражающие

фильтры

для ультрафиолетовой области

спектра.— «Оптика и

спектроскопия»,

1971, Т. 30, вып. 3, с. 562—565.

 

 

66.

Б р у м б е р г Е. М., К р ы л о в а

Т. Н. Применение интерференционных

делительных зеркал в флуоресцентной микроскопии.— «Журнал

общей биологии

АН СССР», 1953, Т. 14, № 6, с. 461—464.

 

67. X а з о в Л. Д., Ш е с т о в А. И., Т и х о м и р о в Г. П. Световой разряд на непоглощающих поверхностях под действием луча моноимпульсного лазера.— «Ж. Т. Ф.», 1968, Т. 38, вып. 8, с. 1362—1367.

68.К у з н е ц о в А. Я . , П о п л а в с к и й А . А . , Б о н ч - Б р у е в и ч А . М.

идр. Разрушение диэлектрических отражающих покрытий под действием излуче­ ния ОКГ.—«Ж. Т. Ф.», 1970, Т. 40, вып. 1, с. 170—174.

69.

К р ьі л о в а

Т. Н.,

Б о г д ы к ь я н ц Г. О.

Исследование оптических

свойств

и структуры

пленок

двуокиси титана.— «Оптика

и спектроскопия», 1960,

Т.9, вып. 5, с. 644—647.

70.В о л о с о в Д. С , Ц и в к и н М. В. Теория и расчет светооптических систем. М., «Искусство», 1960. 526 с.

71.Г у т о р о в М. М. Основы светотехники и источники света. М., «Энергия», 1968. 392 с.

 

72.

Т а р а с о в

К-

И. Спектральные

приборы. Л., «Машиностроение», 1968,

с.

381.

 

 

 

 

 

73.

С т р о н г Д. Техника физического эксперимента. Л., Газетно-журнальное

и

книжное издательство,

1948. 662 с.

 

 

74.

С о к о л о в а

Р.

С , Л е й п у с

В. М. Приспособление ФМ40 к спектро­

фотометру СФ4 для измерения коэффициента отражения.— «Оптико-механическая

промышленность»,

1958,

3,

с. 34—36.

 

 

 

 

 

75.

К р ы л о в а

Т. Н., С о к о л о в а

Р. С. Насадка

к спектрометру ИКС12

для

измерения

коэффициента

 

отражения.— «Оптико-механическая

промышлен­

ность»,

1963,

8,

с.

28—32.

 

 

 

 

 

 

 

76.

С о к о л о в а

Р.

С.

Зависимость

коэффициента

отражения

некоторых

интерференционных

покрытий

от угла падения

света.— «Оптико-механическая

промышленность»,

1959,

3,

с.

27—30.

 

 

 

 

 

77.

Т и м о ф е е в а

Н. Ф.

Исследование оптических

поверхностных свойств

стекла.—«Ж-Э. Т.»,

1936,

Т.

6,

с. 71—81.

 

 

 

 

 

78.

О б р е и м о в

И.

В.

Графический прием для определения показателя

преломления

и толщины тонких пленок.— «Ж-Э. Т. Ф.», 1944, Т. 14, вып. 10—11,

с. 431—436.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

79.

Б р о н ш т е й н Э. М. Вспомогательные

таблицы

к графическому методу

И. В. Обреимова для определения толщины и показателя преломления тонких пле­ нок на стекле. I. Пленки с показателем преломления 1,200—1,550. «Ж- Э. Т. Ф.»,

1946, Т. 16, вып. 3, с. 259—268.

80.Б р о н ш т е й н Э. М. Вспомогательные таблицы к графическому методу

И.В. Обреимова для определения толщины и показателя преломления тонких пле­

нок

на

стекле.

I I . Пленки

с показателем преломления

1,800—2,500. «Ж- Т. Ф.»,

1947,

Т. 17,

вып. 4,

с.

513—520.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

81.

X е в е н с

О. С. Измерение оптических констант тонких

пленок.— В

кн.:

Физика

тонких пленок. Т. 2, М.,

«Мир», 1967,

с. 136—185.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

82.

Р о з е н б е р г

Г.

В. Оптика

тонкослойных

покрытий.

М.,

Физматгиз,

1958,

с.

547.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

83.

A n d e r s

Н. Dunne

Schichten fur die Optik Stuttgart

Wissenschaftliche

Verlagsgessellschaft,

1965;

S,

182.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

84.

P o h l a k

H.

Ienaer

Iahrbuch, 1951; S.

144.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

85.

f-fce a v e n s

O. S.

Optical

 

Properties

of

Thin Solid

Films

London.

Butter-

worth Scientific

Publ. 1955;

p. 280.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

86.

J a c o b s o n R . ,

M a r t e n s s o n l .

O. Appl.

Optics 5,

N 1, 1966; p. 29.

 

 

87.

В a u m e і s t e r

Ph. W.,

S t o n e

I. M. J . Opt.

Soc.

Amer.

46,

 

1956;

p.

228.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

88.

К о с h

І.

І.,

 

В r і n s m а і d

D. S. U. S.

Patent

Office

2.742.819.

1956.

 

89.

H e a v e n s

 

O. S.,

L і d d e 1

H . M. Appl.

Optics

5. 1966;

p.

373.

 

 

 

90.

T u r n e r

A.

F . ,

В a u m e і s t e r

Ph. W. Appl. Optics 5,

1966;

p.

69.

 

91.

S c h r o e d e r

 

H .

Optik,

13,

1956;

S.

158.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

92.

B r a n d m i i l l e r

 

J . , H o f m e i s t e r

E .

 

Optik

11,

1954;

s.

1.

 

 

 

93.

С 1 a p h a n

 

P. В.,

D o w n s

M. J . and

K i n g

R . I . Appl.

Optics,

8,

N

10, 1969;

p.

1965.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

94.

C o x

J . Т.,

H a s s , G . ,

R a m s e y

I. B. Journ. Phys. Rad. 25,

N

1—2,,

1964;

p.

250.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

95.

T a n n e r

 

H.~

1

о с к h а г t

L . J . Opt.

Soc. Amer. 36, 1946; p. 701.

 

96.

L a n g

H . , de

В о u w h u і s S. G. Philips Technic. Rew. 24, N 9,

1962/63;

p.

263.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

97.

E n n о s

E . A. Appl. Optics,

5,

N

1,

1966;

p.

51.

 

 

 

 

 

 

 

98. S c h r o e d e r

 

H . ,

S p і 11 e г

M. Gottingen,

Grundprobleme der

Physik

diinner

Schichten,

1966;

S!

233.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

99.

В a u m e і s t e r

Ph. Laser Focus,

5,

N 21,

1969; p. 46.

 

 

 

 

 

 

100.

К о p p e 1 m a n n

G.,

V o s s k u h l e r

 

W.

Optik,

23,

1965;

S.

181.

 

101.

I w a s a k i

 

T. J . Appl. Phys. Japan, 27,

 

N

10, 1958;

p.

614.

 

 

 

 

102.

H o n c i a

G . ,

K r e b s

K-

Optik,

19, (sj

 

3,

1962; S.

156.

 

 

 

 

 

 

103. S e b і r e

N.,

С о j a n

I. L . , G і а с о m о

P. С. r. Acad. Sci. 254,

N

3,

1962; p.

448.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

104.

В 1 і f f or

d

I. H. Appl. Optics, 5, N 1,

1966;

p. 105.

 

 

 

 

 

 

 

105.

Schott,

Gen.

Ienaer

Glasswerk,

Mainz, 3701

d.,

1965.

(Каталог.)

 

 

 

106.

R о e t g e r

H . Experiment. Technik der

 

Physik, Sonderheft

88,

1956.

Silikattechnik

7, N

5,

1956; S. 179.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

107.

T h e 1 e n

A. Appl. Optics 4,

N

8,

1965; p.

 

977.

 

 

 

 

 

 

 

 

108.

A p t

e l

J . H . Appl. Optics

4,

N

8,

1965;

 

p.

983.

 

 

 

 

 

 

 

109.

P e r r y

D.

L . Appl. Optics

4,

N

8,

1965;

 

p.

987.

 

 

 

 

 

 

110.Glass A. J . , Guenther A. H. Appl. Optics. 11, № 4 , 1972; p. 832.

111.M а с 1 e о d H. A. Thin Film Optical Filters, New Jork, Americ. Elsevier

РцЫ. Сотр. 1969; p. 318.

112.

C o s t i c h

V. R.

Laser Focus,

5,

N 21, 1969; p. 41.

 

113.

Lasermetrics Jnc. Cristalab Products corp., Rochelle Park, New Jersey.

(Каталог).

 

 

 

 

 

 

114.

Balzers, Liehtenstein.

(Каталог.)

 

-

 

 

115.

A b e l es F . Progress in Optics,

v. II, Amsterdam,

North Holland

Publ.

1963; p.

249.

 

 

 

 

 

 

116.

K'o p p e 1 m a n n

G . , K r e b s

K- Z. fur Physik, 145, 1956; S. 486.

117.

B o u s q u e t

P.,

R o u a r d

P.

Journ. Phys.

Rad. 21, N 12,

1960;

p.873.

118.В о u r g M. Ann. de Phys. 7, 1962; p. 623.

 

119.

B o u r g

A.,

B o u r g

M. C. r.

Acad. Sci. 259,

 

1964; p.

4608.

 

 

 

120.

B o u r g

A.,

T a l b o t

D. C.

r. Acad. Sci

260,

1965; p.

1138.

 

 

 

121.

К о p p e 1 m a n n

G., K r e b s

K- und

Leyendecker H. Z. fur

Physik

163, N 5, 1961; S. 557.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

122.

R o u a r d

P.,

 

B o u s q u e t

P. Progress

in Optics,

v. IV, Amsterdam,

North Holland Publ. 1965; p.

145.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

123.

B o u s q u e t

P. Ann. de

Phys. 2, N

3—4,

1957;

 

p.

163.

 

 

 

 

 

124.

P r i d e

G. E . J . Opt. Soc. Amer. 36,

N 9, 1946,

 

p.

510.

 

 

 

 

 

125.

D e w u l f

 

G. E . ,

G a n s

F . C. r. Acad. Sci. 243, 1956;

p.

1857.

 

 

 

126.

B e n n e t

 

H. E . , K o e h l e r

J . Opt. Soc.

Amer. 50, N

1,

1960;

p.

1.

 

127. Ellipsometry in the measurement of Surfaces and thin Films. Symposium

Proceedings. Washington

1963.

US Depart, of Commerce Nation. Bureau of Standards.

Miscellaneous

Public.

256.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

128.

Mc.

C r a c k i n

F . , P a s s a g a l i a

E . ,

S t r o m b e r g

R. R. and

S t e i n b e r g

 

H. L . Phys. and

Chemistry J . of Res. Nat. Bur. Stand. 67A,

N

4,

1963; p.

363.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

129.

V a s і с e к

A. Optics of Thin Films Amsterdam, Nort Holland Publ. 1960;

p.

354.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

130.

T r a u b

A. C ,

O s t e r b e r g

H . J . Opt. Soc. Amer. 47,

N 1,

1957;

p.

62.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

131.

К о p p e 1 m a n n

G . , K r e b s

K- Z. fur Physik

156, N

1,

1959;

S.

38.

 

• 132.

H e a v e n s

O. S. Progress in Physiks 23,

1965;

 

p.

1.

 

 

 

 

 

133.

H e a v e n s

O. S.,

S m i t h

J . Opt. Soc. Amer. 47,

1957; p. 469.

 

 

 

• 134.

S с h u 1 z

L . G. J . Chem. Physik 17, 1947;

S.

1153.

 

 

 

 

 

 

135.

R і 11 e r

E . Z. Angew. Math. Phys. 12, 1961;

S.

275.

 

 

 

 

 

 

136.

H a l l

J . F . , F e r g u s o n

W. F . C. J . Opt. Soc

Amer. 45,

1955; p.

74.

 

137.

H a l l

J . F . J . Opt. Soc.

Amer. 47,

1957;

p.

662.

 

 

 

 

 

 

138.

H e

i t e m a n n

 

W.,

R i t t e r

E . Appl.

Optics, 7,

1968;

p. 307.

 

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ