Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Крылова Т.Н. Интерференционные покрытия. Оптические свойства и методы исследования

.pdf
Скачиваний:
25
Добавлен:
25.10.2023
Размер:
12.31 Mб
Скачать

образец 5°. Зеркала Мп

и Ms

идентичны и симметрично расположены

относительно образца

5.

 

Интересной особенностью

прибора является компенсирующая

система, которая дает возможность сохранять размеры изображения источника на приемнике и обеспечивать его положение на одном и том же участке, даже при небольших наклонах образца. Схема ком­ пенсирующего устройства приведена на рис. V I I . 12, ". Сплошные линии изображают путь луча при нормальном положении образца S. При небольшом смещении в положение S' луч пойдет по пути, пока­ занному штрихами. В результате того, что свет падает на поверх­ ность образца почти по нормали, а фокальная область сферического

о)

V

180

2 >-

ПО

£0

У

300 W0 500 600 700 800'Л, нм

16 Х,пкм

Рис. VII.13. Спектральные характери­ стики некоторых источников излучения (в относительных единицах): а — чер­

ное тело при различных температурах;

/ - - 2780° С; 2 — 3500°; 3 — 5400°; 4 — и з л у ч е н и е солниа;

б — глобар

зеркала М8 шире, чем максимальное смещение образца, зеркало М8 даст изображение источника света в той же точке, что и ранее. При­ бор может быть использован для измерения отражения и пропуска­ ния. При измерении пропускания образец помещается либо перед входной щелью в кассету Е, либо в кассету Т, расположенную за рефлексометром. Параллельно производят измерение пропускания идентичной подложки без пленки.

Спектрофотометрические измерения поверхности подложки с ин­ терференционной пленкой требуют значительной затраты времени и специального оборудования. Более доступно для измерений ин­ тегральное значение коэффициента отражения R [3]. Однако при этом необходимо учитывать, что на интегральное значение влияет не только характер спектрального отражения поверхности с пленкой, но и спектральные свойства источника радиации и чувствительность приемника, обладающие, как и интерференционное покрытие, опре­ деленной селективностью (этот вопрос уже рассматривался в п. 8 на примере двух- и трехслойного просветляющих покрытий).

Связь между совокупностью спектральных значений коэффи­ циента отражения поверхности с пленкой и его интегральным зна­ чением R определяется выражением

(VII.8)

Рис. VI 1.15. Схема простого рефлексометра для измерения интегрального коэффициента отражения

где = / (Я) и 1/х = ф (Я) — распределение энергии в спектре источника и спектральная чувствительность приемника. Спектраль­

ные

характеристики

наиболее

общедоступных, и

распространенных

источников

и

приемников

излучения приведены

на

рис. V I I . 13 и

V I I . 14. Более полные

данные

 

%

 

 

 

 

 

 

 

 

можно

найти

в специальных

 

 

 

 

 

 

 

 

 

100

 

г

У

 

 

 

 

 

справочниках

[71].

 

Инте­

 

 

Г\

<3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

гральное значение коэффици­

 

 

 

 

 

 

 

 

ента отражения можно вычи­

60

1

,

 

 

/ г\

 

 

 

 

 

V\\ттt—1

 

слить,

если

известны

спек­

 

 

t

'

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

тральные характеристики

Rx

 

 

 

 

 

 

 

для

поверхности

с

 

покры­

20

 

 

 

 

 

\\

 

 

 

 

 

 

/

 

\\

 

 

тием, а также

1К и Vx.

 

Расчет

 

О

 

 

/ /

 

\ \

 

можно

проводить

графиче­

 

 

 

 

 

 

 

 

ЛЯ?

ски, путем измерения

 

площа­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

дей, или по точкам. При рас­

Рис.

VII. 14. Относительная спектральная

чете надо учитывать

возмож­

 

 

 

чувствительность приемников:

ную чувствительность

прием­

/

с у р ь м я н о - ц е з и е в о г о

фотоэлемента; 2 — глаза;

ников

в

других

областях

3

— селенового

 

фотоэлемента;

4 — к и с л о р о д н о -

 

 

 

 

ц е з и е в о г о фотоэлемента

спектра.

Измерение низких значений интегрального коэффициента отра­ жения в видимой области спектра (например, просветленных по­ верхностей) можно производить с помощью простого устройства (рис. V I I . 15), состоящего из точечной лампы накаливания, изображе­ ние которой проектируется объек­ тивом О на диафрагму Д, где по­ переменно помещается эталон Э и испытуемый образец И. Отражен­ ный свет падает на фотоэлемент Ф, фототок которого измеряется галь­ ванометром [3]. Коэффициент от­ ражения рассчитывается по фор­

муле

нометра, соответствующие образцу и эталону. Эталоном служит устой­ чивое стекло, например К8, коэф­ фициент отражения которого из­ вестен эт = 4,2%). Эталоны и

образцы должны иметь форму клина с углом не менее 3—5° или обла­ дать достаточной толщиной, чтобы отражение от второй поверхности не попадало на фотоэлемент.

При правильном использовании, приборы такого типа (например, КЮ-373М) дают результаты достаточно точные и хорошо воспроиз­ водимые. В качестве приемника радиации можно пользоваться даже

селеновым фотоэлементом, обладающим достаточной чувствитель­ ностью в видимой области, линейной зависимостью силы тока от количества падающей энергии и не требующим источника питания цепи. Необходимо учитывать, что у селенового фотоэлемента на­ блюдаются явления усталости (падение чувствительности) и его ре­ комендуется использовать только для относительных измерений.

 

20

зо

40

 

so

SO

-

70^,

град

Рис.

VIГ. 16.

Зависимость

коэффициента

отражения

про­

 

светляющих

покрытий от

угла

падения

света:

/ —

пленка д в у о к и с и

к р е м н и я

с Rm-in

в

области

550

нм;

2—двух­

с л о й н а я пленка

с / ? т 1 п в области

60 нм;

3

т р е х с л о й н а я

а х р о ­

 

 

 

матическая

пленка

 

 

 

 

Измерение можно проводить не только на плоских деталях, но и на деталях сферической формы, однако с тем ограничением, что ра­ диус кривизны должен быть не менее 20 мм, и измерение проводить не в центре, а на краю линзы, чтобы убрать отражение от второй поверхности. Можно использовать диафрагмы Д разных размеров, в зависимости от кривизны и размеров деталей. С целью умень­ шения ошибок измерения эталоны сравнения и образцы должны иметь близкие коэффициенты отражения. Если учесть это замечание, прибор можно использовать для оценки более высоких отражений. Измерения производятся при угле падения света на образец 20°.

Рефлексометром, аналогичным описанному, можно пользоваться для измерения интегральных значений коэффициента отражения при различных углах падения [76 ]. Осветитель и фотоэлемент помещают­ ся на вертикально стоящем металлическом диске диаметром порядка

30 см. В центре диска имеется ось, на которой укреплены осветитель и фотоэлемент, которые устанавливаются с помощью фиксаторов под

различными углами падения в пределах 15—90°

к

отражающей

поверхности, через

каждые 5°. Образец

помещается

в центре диска

на горизонтальном

столике, содержащем

набор вкладышей для его

правильной установки. Измерение отражения можно

производить

по сравнению со светом, непосредственно

падающим на фотоэлемент,

а также по сравнению с эталоном.

 

 

 

Использование описанного метода оказалось, например, очень плодотворным для исследования зависимости коэффициента отраже­ ния от угла падения света на поверхность стекла с различными просветляющими покрытиями. При углах падения свыше 50° отра­ жение от поверхности стекла без покрытия и с просветляющей плен­ кой быстро растет, однако при любых углах падения отражение от просветленной поверхности всегда ниже, чем от исходного стекла (рис. V I I . 16).

В табл. VII . 2 "приведены

результаты измерения

пленок Т Ю 2

и нескольких многослойных

покрытий, полученных

из растворов.

Т а б л и ц а VI 1.2. Интегральные коэффициенты отражения R (в %) интерференционных зеркал при различных углах падения q>

 

 

 

 

У г о л

п а д е н и я ф,

град

 

 

 

 

Испытуемый о б р а з е ц

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

15

20

25

30

35

40

45

50

55

60

65

70

Однослойная

плен­

26

26

26

26

26

26

26

26

26

27

28

31

ка ТЮ2 ,

/ ? т а х

в обла­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

сти 55 нм1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Однослойная

плен­

25

25

25

25

25

25

25

25

25

27

28

31

ка ТЮ2 ,

й щ а х

в обла­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

сти 640

нм1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Трехслойный

отра­

54

53

52

52

51

50

47

46

44

42

42

42

жатель,

Ящах в

обла­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

сти 550

нм1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Трехслойный

отра­

50

50

52

52

52

52

52

50

48

46

46

44

жатель, i ? m a x

в

обла­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

сти 620

нм1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

11-слойное зеркало,

84

81

81

76

72

66

62

58

54

50

48

46

Rmax в

области

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

550 нм1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

11 -слойное зеркало,

76

77

79

79

80

80

79

76

72

68

63

60

Rmax

в

области

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

600 нм1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Алюминиевое

зер­

87

87

86

86

86

86

85

85

85

84

84

82

кало

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1 П р и нормальном падении света.

Максимум отражения находится во всех случаях в средней части видимой области 550—640 нм. У однослойных пленок Т Ю 2 интег­ ральное значение коэффициента отражения практически не меняется с изменением угла падения. У многослойных покрытий с увеличением угла падения отражение снижается сильнее, чем того требует теория (п. 18). Это объясняется тем, что с ростом угла падения максимум отражения смещается в направлении коротковолновой области спектра, где интенсивность излучения лампы накаливания мала, а также значительно ниже чувствительность селенового фотоэлемента. В области максимальной чувствительности последнего интенсивность света, отраженного от поверхности с пленкой, падает в результате смещения максимума в коротковолновую область [76].

Приведенные примеры экспериментального определения коэффи­ циента отражения при различных углах падения света служат на­

глядной иллюстрацией некоторых

закономерностей, описанных

в гл. IV.

 

 

32. ОПРЕДЕЛЕНИЕ ТОЛЩИНЫ

ПЛЕНОК

ПО СМЕЩЕНИЮ

ИНТЕРФЕРЕНЦИОННЫХ

ПОЛОС

Спектрофотометрические измерения дают возможность одновре­ менного определения оптической толщины и показателя преломления прозрачной пленки, откуда можно найти ее геометрическую тол­ щину. В этом случае, если пленка по своим свойствам близка к идеаль­ ной, вопрос решается просто. У пленок, обладающих значительной дисперсией, поглощением, неоднородностью и т. д., показатель преломления и толщина, полученные в результате фотометрических измерений, дают некоторые усредненные значения.

Помимо спектрофотометрических разработаны оптические ме­ тоды раздельного определения толщины и показателя преломления пленки. Один из наиболее простых и точных методов определения геометрической толщины основан на измерении смещения интерфе­ ренционных полос, образующихся в тонком воздушном клине (по­ лосы равной толщины). Для этого испытуемая пленка наносится на одну половину поверхности стеклянной или кварцевой подложки. Граница раздела по возможности должна быть резкой. На подложку с пленкой осторожно накладывается пробное стекло так, чтобы между поверхностями подложки и пленки образовался воздушный клин, равный нескольким длинам волн. При освещении монохроматическим светом (например, зеленой линии ртути к = 546,1 нм) можно на­ блюдать появление двух систем черных и окрашенных (например, зеленых) полос, сдвинутых одна относительно другой на величину пропорциональную толщине пленки. Условием получения резких

полос является равенство коэффициентов

отражения поверхностей,

от которых отражаются интерферирующие

лучи.

Поверхности должны быть оптическими плоскостями хорошего качества, так как этим в значительной степени определяется точ­ ность измерений, особенно при малой толщине пленок [38]. При

194

хорошем качестве поверхностей интерференционные полосы представ­ ляют собой прямые линии, расположенные на равных расстояниях одна от другой. Если поверхности имеют неровности, то форма ин­ терференционных полос воспроизводит профиль поверхности. В том случае, когда местные ошибки не превышают 0,05—0,1 полосы, то с этой точностью можно оценить высоту ступеньки, или толщину пленки. Количественно смещение можно выразить в долях длины волны, если учесть, что изменение толщины воздушного клина на половину длины волны соответствует смещению на одну полосу. Профиль поверхности и высоту ступеньки в та­ ком случае можно оценить с точностью

порядка ~ , для чего не требуется ка­ ких-либо сложных приборов.

Схема

проведения

измерений

опи­

 

 

санным

методом

представлена

на

рис.

 

 

V I I . 17.

На

рис. V I I . 17, а

показан

воз­

 

 

душный клин, где наблюдается появле­

 

 

ние интерференционных полос при изме­

 

 

нении толщины воздушного клина на

 

 

половину длины волны. На рис. 17, б

 

 

дана интерференционная

картина,

на­

 

 

блюдаемая

в монохроматическом

свете.

 

 

Сбоку показано расположение клина К-

 

 

Полосы слева, на участке с пленкой,

 

 

смещены на величину а относительно

 

 

полос справа, относящихся к подложке,

Рис. VII.17.

Использование ин­

поскольку

левая

часть

поверхности

выше правой

на толщину

пленки

(см.

терференции

света в тонком воз­

душном клине (а) для опреде­

расположение

клина).

В

этом

легко

ления толщины пленок по сме­

убедиться

по

направлению движения

щению полос (б)

полос при уменьшении угла воздушного

 

 

клина. Последнее

сопровождается

рас­

 

 

ширением полос и смещением их к отверстию клина. Если расстояние между полосами равно Ь, то толщина пленки в долях полосы со­

ставляет: h =

(показатель

преломления воздуха равен единице).

В долях длины волны h

= ~

-jp Толщина полосы выражается в тех

же единицах, в которых

выражена длина волны,

например:

h

а

X

а

546

а

0,546

мкм.

 

- £

2ft1

~tb

2s— НМ —

b—

2

 

Точность определения толщины пленки значительно выше, если отражающие поверхности имеют высокий коэффициент отражения. Если на поверхность подложки -с пленкой нанести слой серебра толщиной около 100 нм, то отражение повысится до 95%. Профиль поверхности при этом сохраняется. На пробную пластину наносится

13*

195

полупрозрачный слой, отражающий до 90%. Слой серебра можно заменить слоем алюминия или покрытием из многослойных диэлек­ триков. Однако надо учитывать селективность отражения последних и пользоваться максимальным отражением в области длины волны, служащей для измерения. При интерференции лучей, отраженных от высокоотражающих поверхностей, полосы получаются очень узкими, в виде тонких нитей, что дает возможность определить тол­ щину пленки с точностью 0,5—4 нм, в зависимости от качества по­ верхностей и равномерности пленок [38].

Измерения лучше всего производить с помощью любого интерфе­ рометра, имея эталонные зеркала с высоким и низким коэффициен­ тами отражения. Интерференционная картина может быть сфото­ графирована и толщина пленки определена с помощью измеритель­ ного микроскопа с небольшим увеличением, что способствует повы­ шению точности определения.

 

Источниками монохроматического излучения могут служить

ртутная лампа

низкого давления с фильтром, выделяющим область

К =

546,1

нм,

таллиевая лампа низкого давления с излучением

Я =

535 нм

и

др.

Методика может быть несколько видоизменена. Если пленка не очень прочна, ее можно легко процарапать до подложки, не повре­ див последнюю. После нанесения слоя серебра можно наблюдать смещение полос, полученных от поверхности пленки, относительно полос в процарапанном желобе. Этот метод широко используется для исследования пленок, полученных испарением в вакууме и легко снимающихся с подложки [38, 81, 85]. .

Одним из видоизменений описанного выше метода является изме­ рение с помощью интерференционных полос равного хроматического порядка [38, 81, 115].

 

 

33. ЭЛЛИПСОМЕТРИЧЕСКОЕ

ОПРЕДЕЛЕНИЕ

 

ПОКАЗАТЕЛЯ ПРЕЛОМЛЕНИЯ И ТОЛЩИНЫ ПЛЕНОК

Наиболее чувствительный метод определения толщины и показа­

теля

преломления

тонких пленок на

поверхности

твердого тела

(и жидкости) основан на исследовании

эллиптической

поляризации

света,

отраженного

от поверхности с

пленкой (эллипсометрия).

Метод, разработанный еще в прошлом столетии, неоднократно ис­ пользовался для измерения поверхностных пленок толщиною по­

рядка десятых долей

нанометра (десятки ангстрем), а также

более

толстых,

составляющих

100

нм

и более

[3, 38, 77, 127, 128,

129].

Как

было сказано

в

п.

2,

наличие

поверхностной пленки

при­

водит к заметным расхождениям с формулами Френеля (1.45). Па­ дающий прямолинейно поляризованный свет отражается эллипти­ чески поляризованным. Форма и ориентация эллипса зависят от показателя преломления и толщины поверхностной пленки. Чтобы иметь представление о характере этой зависимости, рассмотрим отра­ жение от поверхности твердого тела с тонкой пленкой, введя сле-

дующие

обозначения

[3]: гр

и rs — коэффициенты

 

Френели для

света, отраженного

системой, состоящей из поверхности с пленкой;

rip>

ris>

ґ

и

r 2 s т

о ж

е

Д л я

верхней

и нижней

границ

 

раздела

пленки. Используя

выражение

(1.54)

и введя

комплексные

обозна­

чения (п. 1) запишем, что

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Hzln2c2h2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

гР.

 

rip + ЧРе

iinn2c2h2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1 + ripr2pe

^

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ibnc2n2h3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

s

 

 

 

 

i4nc2n2h2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

I

+ r l s r 2 S e

x

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Введем

обозначение

 

 

 

Ann r h

, з д

е с ь

c2

 

V «o Sin2 Ф

 

 

Z = qjtnf-h*

= J—2

fl2

- —

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

A

 

 

 

 

 

 

 

 

косинус

угла преломления

света в пленке. Беря отношение гр к rs

и

обозначив

его через

^~-вІЬ,

 

имеем

после некоторых

преобразова-

ний:

 

 

 

 

 

 

Ps

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Рр

\ 2

_

г

+ Г

\ Р

+ 2 r l p r 2 p

cos Z

I +

r \ r \ s

+

2 r u r 2

 

cos Z

 

 

 

s

(VII.9)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

P s /

 

 

l + r b r t P

+ 2 r i P r 2 p C O S Z

r i s + r 2 s + 2 V 2 s C 0 s Z

 

 

 

 

 

 

 

 

*r,K—

 

( 5 q + 2 C 0 c q s Z )

sin Z

'

 

 

 

 

 

A m i m

 

 

 

 

 

 

l g

 

 

A +

BcosZ

+ Cca&2Z

 

 

 

 

 

i v n . i u j

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Л =

ад,

(1 +

4)

(1 + r\s) + r 2 p r 2 s ( l + ri/?„);

 

 

 

Bo = rlpr2s

(1 +

r\p) (1 -

r\s) -

rXsr2p

(1 +

ri) (1 -

r\p)\

 

 

В = r l s r 2 p (1 + r?p ) (1 + r2 2 s ) + r l p r 2 s ( l + r?g) (1 + rlp);

 

 

 

 

 

 

 

 

Co = 1"2рГ2ь {r\p —> Tig);

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

С = r 2 p r 2 s ( / " i p - ) - / " i s ) .

 

 

 

 

 

 

 

 

После

преобразования

мы имеем

два уравнения

с двумя неиз­

вестными: п2

и /г2

(показателем преломления

и толщиной

пленки).

 

 

 

РР

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Значения

—— и tg б

определяются

экспериментально,

 

что будет

Ps

показано дальше. Полученная зависимость сложна для проведения расчетов и требует использования ЭВМ или составления номограмм, упрощающих расчеты.

Возникновение эллиптической поляризации света после отраже­

ния

от поверхности

с пленкой

показано

на рис. V I I . 18.

Пусть

E0cos

cot— падающая

прямолинейно поляризованная волна с ко­

лебаниями, расположенными в

плоскости,

составляющей

угол г{>0

/ 7 - П Л О С К О С Т Я Х

с плоскостью падения. Ее можно разложить на две составляющие, расположенные в s- и

ED

=

Е0

cos

со? cos

гр„; 1

/

 

«•

 

/

,

(VII. 11)

Es

=

£ 0

cos

at

sin

ap0

j

и находящиеся в одной фазе. После отражения составляющие умень­ шаются и испытывают сдвиг фаз на As и Ар. Результирующая волна будет характеризоваться двумя гармоническими колебаниями в двух перпендикулярных направлениях:

(VII. 12)

 

Рис. VI 1.18. Переход

прямолинейно

поляризованного

света

 

 

к эллиптически поляризованному

в результате

отражения от

 

 

 

 

поверхности

с

пленкой

 

 

 

с разностью фаз Др

— Д„

что

в общем

случае

дает

эллиптическое

гармоническое колебание с амплитудами

 

 

 

 

 

 

 

а0

 

=

Е0

cos

я|)0рр;

 

 

 

 

 

 

b0

=

Е0

sin

r])0ps

 

 

 

и фазами

(со? + Др )

и

(со? +

As ).

 

 

 

 

 

 

Если

обозначить

составляющие этого результирующего колеба­

ния через и = а о cos

(со? +

Ар) a v =

b0

cos (со? + As ), исключить ?

и ввести величину разности фаз б =

As

— Др ,

то мы

получаем

из­

вестное соотношение

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

4

+

*

 

_

 

Cos б = sin2 б,

(VI

1.13)

представляющее уравнение эллипса в общем виде. Конец светового вектора описывает эллипс, вписанный в прямоугольник со сторо­ нами 0 и 0. В зависимости от разности фаз и отношения амплитуд в частных случаях эллиптическое колебание может перейти в пря-

198

молинейное или круговое. Полуоси

эллипса

могут

не совпадать

с s- и р-направлениями (рис. V I I . 18).

В этом

случае

эллиптически

поляризованное колебание можно охарактеризовать двумя вели­

чинами: углом

1, образуемым большой полуосью с плоскостью

р,

и отношением

полуосей

эллипса

= tg гр,

называемым эллип­

тичностью.

Эти

углы можно

определить

экспериментально.

Они

 

 

 

 

 

Ъ

 

о

 

 

 

связаны с

6 =

Д„ — Д8

и

tg а

= —^ = tg гр —

известными

зави-

симостями

 

 

 

 

ао

 

Рр

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

j

 

 

 

 

 

t g x

=

tg 2a

cos

6;

 

 

 

 

 

sin

2гр -— ±sin

2a

sin

6, J

~"\

)

что указывает на возможность двух направлений вращения эллипса. Измерив углы % и я|), можно определить б и — или -ф = arctg — .

Ps

Ps

Исследование эллиптичности отраженного света

производится

с помощью поляризационного гониометра (эллипсометра), снабжен­ ного двумя поляризационными призмами (анализатором и поляризато­ ром) и компенсатором. Поляризационные призмы обладают свой­ ством пропускать только прямолинейно поляризованный свет, ко­ лебания которого расположены в одной плоскости. Обычно исполь­

зуются поляризационные призмы Глана,

Франка—Риттера

и др.

с торцовыми гранями, расположенными по

нормали к оси

призмы

и проходящему лучу. В качестве компенсатора рекомендуется поль­ зоваться двупреломляющей пластинкой слюды (компенсатор Сенар-

мона), компенсирующей

разность хода б =

Ар— As и

превращаю­

щей прямолинейно поляризованный свет

в эллиптически поляри­

зованный, и наоборот.

В двух преломляющей пластине

падающий

свет разделяется на два луча, у которых колебания, расположенные в двух перпендикулярных плоскостях, распространяются с различ­ ной скоростью. По выходе из пластины лучи приобретают разность хода

с2я («2 п{) h

X

где п1 и « 2 — показатели двух главных направлений распростране­ ния световых колебаний и и v; h — толщина пластинки; X — длина волны проходящего монохроматического излучения. Разность хода б, которую вносит пластинка слюды, определяется ее толщиной, и

выходящий

свет в зависимости

от этого может обладать эллиптиче-

ской

 

X

х

или прямолинейной поляризацией

б = ~4 -, круговой б =

~Y

6 =

0 или

2Ы.

 

 

Схема обычного, простого поляризационного гониометра (эл­ липсометра) приведена на рис. V I I . 19. Щель 1 находится в фокусе объектива коллиматора 2 и освещается монохроматическим светом, например, ртутной лампы с фильтром, выделяющим область X =

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ