![](/user_photo/_userpic.png)
книги из ГПНТБ / Крупин А.В. Прокатка металлов в вакууме учеб. пособие
.pdfПолагая, на основании работы Р. Пастернак, что концентра ция газов в поверхностном слое обусловлена адсорбцией, кото
рая |
при низких давлениях определяется уравнением |
n = nsbp |
|
(ns — максимальное адсорбированное количество газа |
на |
еди |
|
ницу |
поверхности, b — константа), получаем зависимость |
кон |
|
центрации растворенного газа от давления в общем виде: |
|
2 Y D t
т. е. концентрация газа на расстоянии х от поверхности в момент времени t пропорциональна давлению газа над металлом. Функ ция C(x,t) в зависимости от температуры имеет максимум, кото рый определяется временем процесса.
Для других условий будут справедливы иные зависимости, отражающие влияние давления газов на скорость газонасыщения или дегазации металлов.
Рассмотренные положения о влиянии вакуума на кинетику взаимодействия металлов с газами позволяют отметить следую щее.
Скорость окисления и, следовательно, толщина окисных пле нок, образующихся на металлах, даже в низком вакууме 13,3— 1,33 Н/м2 (10_1 —10~2 мм рт. ст.) несоизмеримо меньше, чем ско рость окисления и толщина пленок на металле при нагреве и деформации в атмосфере воздуха. С уменьшением парциальных давлений ниже упругости диссоциации окисла (при переходе Д2 в область положительных значений) образование соединения становится термодинамически невозможным и на поверхности металла отсутствуют окисиые пленки.
Следовательно, изменяя парциальные давления активных га зов, можно влиять на скорость протекания реакции окисления и тем самым регулировать толщину окисных пленок на поверхно сти металла в широких пределах: от толстых окислов при горя чей деформации на воздухе до практически полного их отсутст вия при высокотемпературной обработке давлением в глубоком вакууме. Наличие или отсутствие пленок на поверхности метал лов, их природа, толщина, структура и физико-механические свойства определяют свойства металлов и граничные условия, которые будут оказывать решающее влияние на трение и, сле довательно, на энергосиловые параметры процесса.
Изменение парциальных давлений активных газов будет вли ять не только на кинетику окисления, но также и на газоиасыщение (или дегазацию) металла. В свою очередь, от изменения содержания газов значительно зависят структура и физико-меха нические свойства металлов: сопротивление деформации, твер дость, пластичность, коррозионная стойкость и т. д.
42
3. Взаимодействие металлов с газами при нагреве и прокатке
Как показали термодинамические расчеты, упругости диссо циации окислов вольфрама, молибдена, рения, меди и никеля при температурах горячей прокатки сравнительно высоки и соиз меримы с реально достижимыми парциальными давлениями кислорода в камере. Вследствие этого система газ—металл бу дет находиться в состоянии, близком к равновесному. Возмож ность некоторого развития реакций окисления при этих условиях не исключается. Равновесные давления окислов циркония, нио бия, тантала и ванадия при температурах обработки имеют низ кие значения, вследствие чего применение даже максимально до стижимого вакуума, с термодинамической точки зрения, не обе спечивает безокислительной обработки давлением этих металлов.
Чтобы оценить степень развития реакции взаимодействия ме таллов с активными газами и, следовательно, решить вопрос о практическом значении скоростей этих реакций, эксперимен тально определяют кинетику окисления в условиях, соответст вующих условиям обработки давлением. Наибольший интерес представляет зависимость скоростей реакции окисления от пар циальных давлений кислорода. На основании этих данных и с учетом теоретических предпосылок устанавливают тот мини мальный вакуум (максимальное остаточное давление), при кото ром процессы взаимодействия металла с газами не имеют прак тического значения.
Интенсивность взаимодействия металлов с газами при на греве в разных средах оценивают по развитию процессов.окисле ния и газонасыщения. С этой целью определяют общее коли чество поглощенного газа, толщину образующейся окисной пленки, глубину проникновения газов в металл и характер рас пределения газовых примесей, содержание в металлах кисло рода, азота и водорода. Общее количество поглощенных газов выявляют различными методами, в том числе по приросту массы на специальных образцах, вырезанных из предназначенных для прокатки отожженных заготовок. По этому методу образцы перед нагревом подвергают химическому травлению, промывают
вспирте и взвешивают на аналитических весах чувствитель ностью ±0,0001 г. Подготовленные образцы закрепляют на спе циальных платформах таким образом, чтобы полностью исклю чить возможность соприкосновения образца и платформы, после чего образцы задают в вакуумную печь стана для нагрева. Об изменении массы образцов судят по разнице массы до и после нагрева, отнесенной к исходной поверхности образца.
Толщину окисных пленок определяют различными способами
взависимости от свойств исследуемых металлов: расчетным пу тем, микроскопическим, оптическим и другими методами.
43
Определение толщины окнсных пленок металлографическим методом сопряжено с большими трудностями, связанными с раз рушением хрупких толстых пленок при механической обработке шлифа и растворением тонких пленок при травлении. В связи
сэтим не удается измерить пленки тоньше 5 мкм.
Вряде случаев толщину окисных пленок рассчитывают на ос новании данных изменения массы. Например, для расчета тол щины окисных пленок на цирконии используют выражение
|
V,ZrO. |
|
&=Дт- М,0 |
где |
б — толщина окпсноіі пленки; |
|
Ат — приращение массы; |
|
Vzro2 — молярный объем тетрагональной ZrCb; |
|
МчО — молярная масса входящего в окисел кислорода. |
Формула содержит допущение, что окпсная пленка на цирко нии целиком состоит из тетрагональной модификации двуокиси циркония.
Глубину проникновения газовых примесей в металл и харак тер их распределения чаще всего определяют по изменению ми кротвердости по сечению. Микротвердость измеряют на попе речных микрошлифах с помощью прибора ПМТ-3, проводя по 5—10 измерений через каждые 0,05 мм по толщине образца.
Содержание кислорода, азота и водорода обычно опреде ляют методом вакуум-плавления, дающим усредненное значе ние концентраций газовых примесей по сечению образца.
К сожалению, в литературе приведено мало эксперименталь ных данных по влиянию низких остаточных давлений на ско рость окисления металлов. К тому же большинство исследова ний проводили не в вакууме различной глубины, а в кислороде при относительно высоких его давлениях. При этом скорость окисления металлов, как показано выше, либо совсем ие зави сит от давления кислорода (окислы и-типа), либо зависит весь ма слабо (окислы р-типа).
Подробно влияние давления кислорода на скорость окисле ния исследовано Е. Ф. Гулбрансеном и К. Ф. Эндрыо и дру гими.
Кинетику окисления вольфрама изучали в области относи тельно высоких давлений 9806,6—775 Н/м2 (0,1—0,0079 ат) при
температурах от 600 |
до 1100° С и |
времени |
выдержки от |
5 до |
360 мин. |
образующего |
летучий |
окисел, при |
600° С |
Для вольфрама, |
(рис. 5) влияние давления кислорода на скорость окисления невелико; незначительна и летучесть трехокиси вольфрама. При 950° С понижение давления кислорода ведет к уменьшению скорости окисления. В диапазоне температур 650—950°С меха низм реакции окисления вольфрама следующий. При достиже нии соответствующей температуры образовавшаяся окисная
44
пленка растрескивается, открывается доступ к металлу и нара стает слой окисла до достижения критической толщины. Такой процесс зависит от времени. В условиях, определяемых диффу-
Рис. 5. Влияние на кинетику окисления вольфрама давления кислорода, кН/м2 (ат):
О _ |
/ = 600° С: / — 9,81 |
(0.1); 2 — 6,66 (0,068); 3 — 3.4S (0,036); |
4 — 1,29 (0,013); 5 — 0,78 |
||||
(0,0079); б — /=950°С: |
/ — 9,81 |
(0,1); 2 — 4,61 |
(0,047); 5 — 1,16 |
(0,0118); |
4 — 0,52 |
||
|
(0,00528); 5 — 0,32 (0,0033); 5 — 0,13 (0,00132); 7 — летучесть |
окисла |
|
||||
змей, |
образуется |
тонкая |
окисная |
пленка, |
поэтому |
основная |
часть образовавшихся окислов очень слабо влияет на кинетику реакции.
На рис. 6 показано влияние давления кислорода на ско
рость |
окисления вольфрама при 1050° С. При. этой |
темпера |
туре |
давление кислорода существенно влияет на ход |
реакции |
45
окисления. Показанный на рис. 6 характер изменения массы во времени при температуре 1050° С зависит от двух процессов: а) образования окисной пленки и б) летучести трехокисп воль фрама и ее диффузии в газовую фазу. Второй процесс обусло влен плотностью (давлением) окружающей образец атмосферы. Кривая 8 показывает летучесть трехокисп вольфрама в ва кууме.
В интервале температур 1000.—1300°С механизм окисления существенно изменяется в зависимости от давления и темпера-1
|
|
|
|
|
|
|
|
|
-І9Рог |
|
|
|
|
|
|
|
Рис. 7. |
Зависимость |
толщины |
||
|
|
|
|
|
|
пленки от глубины вакуума при |
||||
|
|
Время, мин |
|
|
различных температурах, °С: |
|||||
Рис. 6. Кривые окисления вольфрама |
|
|
1 - 950; |
2 — 1050 |
|
|||||
|
|
|
|
|
||||||
при температуре 1050° К и различных |
туры. При |
1000° С и давлении |
||||||||
давлениях |
кислорода, |
Н/м2 |
(мм |
|||||||
|
|
рт. ст.): |
|
|
|
кислорода 9806,6 Н/м2 (0,1 ат) |
||||
У— 101,08 - ІО3 |
(76); 2 — 51,7 - ІО3 |
(38,8); |
3 — |
образуется |
окисленный слой, |
|||||
2 5 ,8 -ІО3 |
(19,4); |
4 — 8,5 • 10J |
(3,4); |
5 — 6.67X |
тогда |
как при 1200° С н выше |
||||
X103 (5); |
6 — 3 ,3 3 - I02 (2,5); |
7 — 133,3 |
(1); |
|||||||
|
8— летучесть окисла |
|
|
и давлении |
кислорода |
980,66 |
||||
|
|
|
|
|
|
Н/м2 |
(0,01 |
ат) |
на |
металле |
не образуется окисной пленки и теряется масса вследствие испарения окислов по мере их образования. Гулбрансен и Эндрыо пришли к выводу, что ход реакции окисления во вре мени определяется скоростью, с которой кислород подводится к реагирующей поверхности, диффузией испаряющегося окисла с поверхности заготовки и ее геометрической формой. При 1200° С и выше механизм окисления вольфрама в кислороде аналогичен механизму горения углерода.
По мнению В. И. Архарова и Ю. Д. Козманова, причиной изменения скорости окисления при температурах выше 1150°С служат структурные превращения в окислах, а не летучесть окислов, как это предполагают Гулбрансен и Эндрыо.
Результаты определения кинетики окисления молибдена и вольфрама в условиях низких остаточных давлений газов опти-
46
Т А Б Л И Ц А 16
Изменение толщины скисной пленки на молибдене и вольфраме при нагреве в вакууме различной глубины
Режим окисления |
|
Толщина окисноп пленки, нм (Л) |
|
степень вакуума, |
температура |
Мо |
ѵѵ • |
Н/м- (мм рт. ст.) |
нагрева, |
||
|
|
|
133 |
(1) |
950 |
2 2 ,3 8 ( 2 2 3 , 8 ) |
|
_ |
|
|
|
1050 |
2 2 ,1 ( 2 2 1 , 0 ) |
21,5 |
— |
|
|
|
1200 |
|
— |
(215) |
|
1 3 ,3 ( і о - ' ) |
950 |
6,914 |
(69,14) |
|
|
|
|
|
1050 |
9,16 |
(91,6) |
|
— |
|
|
1150 |
6,75 |
(67,5) |
|
— |
|
|
1200 |
|
--- |
5,921 |
(59,2) |
6,65-10-' |
(5-10-3) |
950 |
1,69 |
(16,9) |
|
|
|
|
1050 |
4,97 |
(49,7) |
|
— |
|
|
1200 |
|
— |
2 ,8 8 |
( 2 8 , 8 ) |
6,65-Ю -з |
(5-10-3) |
950 |
1,1 |
( 11, 0 ) |
|
_ |
|
|
1050 |
1,97 |
(19,7) |
|
— |
|
|
1150 |
4,7 |
(47,0) |
0,71 |
— |
|
|
1200 |
|
|
(7,1) |
ческим методом приведены в табл. 16. Зависимость толщины пленки от глубины вакуума при различных температурах на грева представлена на рис. 7. Приведенные данные показывают, что с понижением парциального давления кислорода толщина пленки на металле уменьшается, причем наиболее резко при переходе от остаточного давления 133,3 (1 мм рт. ст.) к 13,3 Н/м2 (10_1 мм рт. ст.).
Дальнейшее увеличение глубины вакуума вплоть до 6,65х ХЮ-3 Н/м2 (5- ІО-5 мм рт. ст.) сказывается в значительно мень шей степени на изменении толщины окисной пленки.
Примечательно то, что уже при столь незначительном разре жении, как вакуум 133,3 Н/м2 (1 мм рт. ст.), абсолютные значе ния толщин пленок весьма малы — порядка 20 нм (200А). При последующем повышении вакуума на один порядок толщина пленки составляет 6—9,16 нм (60—91,6А). Создание макси мального разрежения, т. е. повышение степени вакуума еще на четыре порядка — с 13,3 (10“1) до 6,65-НИ3 И/м2 (5 -ІО" 5 мм рт. ст.) приводит к уменьшению толщины пленки на вольфраме и молибдене соответственно до 0,71 нм (7,1 Â) и 1—2 нм (10— 2 0 А). Незначительное уменьшение толщины окисной' пленки при увеличении степени вакуума от 13,3 Н/м2 (10_1 мм рт. ст.)
47
до 0,013 Н/м2 (10-4 мм рт. ст.) получено и для других металлов с высокой упругостью диссоциации окислов. Так, при нагреве никеля при 1000° С в вакууме 13,3 Н/м2 (ICH мм рт. ст.) обра зуется окисная пленка толщиной 10,9 нм (109,4А), а в вакууме
1,3-10“2 |
Н/м2 (ІО-4 мм рт. ст.) толщина пленки составляет |
5,94 нм |
(59,4А). |
Толщина пленки, образующейся на молибдене, вольфраме и рении при нагреве в различных условиях, определяется одно временным протеканием двух процессов: собственно окисления II испарения образующегося химического соединения.
Скорость второго процесса при дайной температуре, как из вестно, зависит от полного давления газа в системе. Вследст вие этого толщина пленок при нагреве металлов в среде аргона будет значительно больше, чем при нагреве в вакууме, при ус ловии равенства парциальных давлении кислорода.
Анализ данных по изменению массы образцов вольфрама, молибдена, меди и никеля в зависимости от глубины вакуума подтверждает отмеченные выше закономерности — резкое за медление скорости окисления при переходе от высокого давле ния к низкому вакууму, порядка 13,3 Н/м2 (10-1 мм рт. ст.), и незначительное понижение скорости процесса при дальнейшем увеличении глубины вакуума вплоть до 6,65 • 10“ 3 Н/м2 (5Х X КН мм рт. ст.).
На воздухе при тех же температурах наблюдается катастро фический рост скорости окисления металлов по сравнению с низ ким вакуумом, 133,3 Н/м2 (1 мм рт. ст.). Так, для молибдена убыль в массе при нагреве на воздухе при температурах 950,
1050 и 1150° С составила соответственно 193, |
121 и 206 |
мг/см2, |
в то время как при разрежении 133,3 Н/м2 (I |
мм рт. ст.) |
убыль |
в массе при исследованных температурах изменяется в преде лах 0,31—0,55 мг/см2, т. е. уменьшается более чем в 400 раз. Понижение остаточного давления всего лишь на одну степень приводит к дальнейшему уменьшению скорости окисления в 2,5 раза или в 1000 раз по сравнению с воздухом. Последую щее увеличение глубины вакуума на четыре порядка снижает скорость окисления всего лишь в два раза.
Металлографические исследования структуры вольфрама, молибдена, рения, меди и никеля (рис. 8) после нагрева в раз личных средах не выявили большого различия в характере структур. Таким образом, исследования кинетики окисления и газонасыщення металлов с высокой упругостью диссоциации окислов в условиях горячей обработки давлением позволяют сделать имеющий большое значение для практики вывод о це лесообразности применения при горячей обработке давлением этих металлов низкого вакуума, равного 13,3—1,33 Н/м2 (10-1 — 10-2 мм рт. ст.).
Прирост массы при нагреве в различных средах циркония, ниобия, тантала и ванадия падает с уменьшением парциаль
48
ных давлений активных газов (рис. 9). Однако только при до стижении высокого вакуума порядка 6,65- ІО-3 Н/м2 (5- ІО-5 мм рт. ст.), процесс окисления указанных металлов уже ие имеет практического значения.
Окнсные пленки, образующиеся при нагреве в высоком и низком вакууме, имеют различную толщину. ■Так, например, пленки, образующиеся при нагреве ниобия до 1200° С в ва-
Рис. 8 . Микроструктуры никеля, прокатанного при температуре 800° С с обжа тием 65%:
|
|
а — на воздухе; о - в |
вакууме 1,33 Н/м2 (ІО-2 мм рт. ст.) |
|
||
кууме 1,33 |
Н/м2 (ІО-2 мм |
рт. ст.), составляют 10—20 мкм, |
||||
в |
вакууме |
1,33-ІО-1 Н/м2 |
(10_3 мм |
рт. |
ст.)— 2,05-ІО-2 |
мкм, |
в |
вакууме |
1,33• 10~2 Н/м2 |
(ІО-4 мм |
рт. |
ст.) —-8,1-10-3 |
мкм. |
Глубина и интенсивность газонасыщения ниобия увеличива ются с повышением давления газов и температуры нагрева (рис. 10).
Толщина образующейся на титане пленки резко уменьша ется при переходе от воздуха к низкому вакууму, 13,3 Н/м2 (ІО-1 мм рт. ст.). Увеличение глубины вакуума от 13,3 Н/м2 (10_1 мм рт. ст.) до 6,65-10_3 Н/м2 (5 -10-5 мм рт. ст.) приво дит к дальнейшему уменьшению толщины пленки на титане
(рис. 11). После нагрева в высоком вакууме, |
6,65-ІО“3 Н/м2 |
(5- ІО-5 мм рт. ст.), при температуре 800, 900 и |
1000°С окисная |
пленка на титане визуально не обнаруживается, поверхность образца имеет серебристый цвет, присущий чистому металлу.
4 Заказ № 510 |
49 |
N
£
1
I
Степеньвакуума, Іур |
Степеньвакуума, /др |
Рис. 9. Зависимость изменения |
массы циркония (о), |
ниобия (б), тантала (в), ванадия (г) от давления кислорода при различных температурах, °С:
1 — 800; 2 — 900; 3 — 1000; 4 — 1100; 5 — 1200
Микротвердость, МН/мг(кгс/мм2)
\ \ * |
<\--- |
—:сТя |
>—о— |
J |
|
О0,2 О,в 0,6 0,6
Расстояниеотповерхности ибрапцо, мм
Рис. 10. Газонасыщение ниобия после |
Рис. И. Изменение толщины окисноіі |
|
обработки |
в различных средах: |
пленки на титане при нагреве в раз |
/ — воздух, 1200° С; 2 — воздух, 1000° С; 3 — |
личных средах: |
|
воздух, 800° С; |
4 — гелий, 1200° С; 5 — ва |
1 — 800° С; 2 — 900° С; 3 — 1000° С |
|
куум, 1200° С |
|
|
|
50
При этом следует иметь в виду возможность растворения в ме талле образующейся на его поверхности окисной пленки.
Подробно окисление и газонасыщение при нагреве в раз личных средах изучено на цирконии — весьма реакционноспо собном металле.
Содержание кислорода в цирконии значительно возрастает при переходе от вакуума 1,33 • 10~2 Н/м2 (1.0-4 мм рт. ст.) к ат мосфере воздуха (табл. 17).
|
|
|
|
|
Т А Б Л И Ц А 17 |
|
|
Влияние среды и температуры нагрева |
|
||
|
на содержание кислорода и азота в цирконии |
|
|||
|
|
|
Температура, |
Содержание, % |
(по массе) |
|
Среда |
|
|
|
|
|
|
°С |
о. |
N, |
|
|
|
|
|||
|
|
|
|
||
Исходный металл |
|
— |
0,020 |
0,015 |
|
Воздух |
|
|
800 |
0,042 |
0,015 |
|
|
|
900 |
0,073 |
0,015 |
|
|
|
1000 |
0,13 |
0,020 |
|
|
|
1100 |
0,26 |
0,015 |
|
|
|
1200 |
0,36 |
0,015 |
Гелий |
|
|
900 |
0,026 |
0,015 |
|
, |
|
1000 |
0,030 |
0,015 • |
|
|
|
1100 |
0,037 |
0,020 |
|
|
|
1200 |
0,054 |
0,015 |
Вакуум |
1,33 Н/м2 |
|
900 |
0,024 |
0,015 |
(ІО-2 мм рт. ст.) |
|
1000 |
0,031 |
0,010 |
|
|
|
|
1100 |
0,040 |
0,015 |
|
|
|
1200 |
0,061 |
0,015 |
Вакуум 1,33-10-2 |
Н/м2 |
900 |
0,019 |
0,015 |
|
(ІО-4 мм |
рт. ст.) |
|
1000 |
0,021 |
0,010 |
|
|
|
1100 |
0,020 |
0,010 |
|
|
|
1200 |
0,024 |
0,015 |
Интенсивность насыщения циркония газами резко возра стает с повышением температуры при высоких давлениях газов, в то время как при обработке в вакууме 1,33-ІО-2 Н/м2 (ІО-4 мм рт. ст.) содержание газов при всех температурах прак
тически остается на |
уровне исходного. Так, при изменении тем |
||
пературы от 900 до |
1200° С содержание примесей кислорода по |
||
сравнению |
с исходным возрастает при |
прокатке в вакууме |
|
1,33 Н/м2 |
(ІО'-2 мм рт. ст.) в 1,2—3 раза, |
при прокатке в среде |
4* |
51 |