Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Пузырев В.А. Тонкие ферромагнитные пленки в радиотехнических цепях

.pdf
Скачиваний:
11
Добавлен:
23.10.2023
Размер:
6.97 Mб
Скачать

величины

смещающего поля h или его компонент /гл и

Л т может

меняться в довольно широких пределах. Это

обстоятельство необходимо учитывать при исследовании различных устройств на основе Т Ф П , работающих со •смещающими и управляющими внешними полями раз ­ личной величины и направления .

Д л я

больших амплитуд колебаний

необходимо учи­

т ы в а т ь

д а ж е малые

нелинейности, так

как на

большом

интервале времени

по сравнению с периодом

колебаний

п р о я в л я ю т с я влияния малых отклонений системы от ли­ нейной. М а л ы е нелинейные члены оказывают коммуля - тивное действие. Из - за нелинейности нарушается прин­ цип суперпозиции, и отдельные гармоник? колебаний вступают во взаимодействие м е ж д у собой, вследствие чего становится невозможным индивидуальное рассмот­

рение поведения к а ж д о й гармонической

составляющей

колебаний в отдельности.

 

 

Так как модель пленки, связанной

с внешними цепя­

ми, о т р а ж а е т с я эквивалентной схемой с

сосредоточен­

ными параметрами, то, очевидно, она

будет

справедлива

только в той области частотного диапазона, где геомет­ рические размеры пленки много меньше длимы волны колебаний, взаимодействующих с пленкой.

По определению, добротность есть умноженное на 2л отношение колебательной энергии резонатора к энергии, теряемой за период колебаний. Величина, обратная доб­

ротности, называется затуханием . Оба эти

понятия, ха­

рактеризующие

колебательные свойства

контура, будут

в случае малого

сигнала использованы

и

для эквива­

лентной схемы ТФП . Добротность является важной ха­ рактеристикой пленки. В ы р а ж е н и е дл я добротности ко­ лебательной системы эквивалентной схемы имеет сле­ дующий вид:

 

 

Q =

 

1

pGT

% ( 1 + а * ) / -

1/2

(1.41)

 

 

 

От м/.дТ

 

М

 

 

 

 

где

р = VLXT/Ct.

 

Как

у ж е

отмечалось

выше,

доброт­

ность

является параметром,

независимым от

характери­

стик

 

внешних

цепей.

 

 

 

 

 

 

 

В

физической

литературе

потери

в

пленке

характе ­

ризуют или параметром

затухания Л

[11—13]

 

 

 

 

 

 

 

 

Л =

а т М

 

 

 

(1.42)

или

шириной

линии резонансного

поглощения

 

 

 

 

 

 

 

А Я =

2<ш/т =

2 Л / Т

2 М ,

 

 

(1.43)

30

где АН — величина, х а р а к т е р и з у ю щ а я полосу пропуска­ ния на уровне половинной мощности, когда при снятии

частотной зависимости варьируемой

величиной

являет­

ся поле, а не частота.

 

 

Характер зависимости затухания

от частоты

имеет

первостепенное значение как с научной, так и с техни­ ческой точки зрения. В первом случае эта зависимость дает возможность проверить основные теоретические представления о механизме передачи энергии от спино­ вой системы к кристаллической решетке. Во втором — успешное техническое применение возможно лишь при условии, что затухание однородной прецессии не будет чрезмерным.

Во всех проводимых в настоящее время эксперимен­ тах, д а ю щ и х существенные для практических задач све­ дения, используют в основном две методики — измере­ ние ширины резонансной линии в широком интервале ча­ стот и исследование переходных процессов. Поэтому дл я практических целей в а ж н о установить связь между доб­ ротностью эквивалентной схемы пленки и ее физиче­ скими п а р а м е т р а м и , характеризующими потери в плен­

ках. Эта связь позволит

относительно просто определить

экспериментальные значения величии Q и G дл я реаль ­

ных пленок. С учетом (1.41) — (1.43) имеем соотношение,

связывающее значения

ненагруженной добротности Q

с физическими

п а р а м е т р а м и

пленки:

 

 

Q = co/A.

 

 

 

(1.44)

Главной проблемой в физике пленок остается до сих

пор объяснение

релаксационных

и

других

механизмов,

которыми определяется уширенне

кривой

ферромагнит­

ного резонансного поглощения.

З а д а ч а увеличения ве­

личины добротности связана

с

возможностью изготов­

ления однородных монокристаллических пленок с нуле­ вой магнитострикцией, а т а к ж е с возможностью исполь­ зования магнитных металлов и сплавов с составом, даю ­ щим малую ширину кривой поглощения. Пр и изготов­ лении пленок необходимо учитывать их толщину, так как однородность пленки в сильной степени зависит от

толщины

нанесенного слоя

[11]. С уменьшением

тол­

щины возрастает влияние

несовершенств, а с увеличе­

н и е м — возрастают

потери

на вихревые

токи. Д л я

уве­

личения

магнитной

массы

используются

многослойные

пленки.

 

 

 

 

 

31

Существует однозначная связь между

п а р а м е т р а м и

эквивалентной схемы со, Q, G и физическими

параметра ­

ми пленки М, Нк и т. д.; с другой стороны, известна связь

перечисленных параметров М, Нк и других от техноло­

гических (толщина,

однородность,

скорость

напыления

и т. п.) и внешних

(температура,

влажность,

величина

радиационного фона

и т. п.) факторов . Поэтому может

быть установлена связь непосредственно м е ж д у пара ­ метрами эквивалентной схемы со, Q, G и п а р а м е т р а м и технологического процесса изготовления пленки, а т а к ж е условиями о к р у ж а ю щ е й среды. Это означает, что может быть решена задача изготовления пленки с требуемыми

^

I

'

I

i _

I

I

1

I

I

500 1000 1500 2000 d,A О

500

1UOO

1500 2000 d,A

а

 

6

 

Р и с .

1.12

 

 

п а р а м е т р а м и эквивалентной

схемы

путем

обеспечения

нужной технологии и предсказано влияние внешней сре­ ды на эти параметры .

На рис. 1.12, а, б приведены зависимости резонансной круговой частоты при нулевых внешних полях и потерь от толщины пленки. Подобные зависимости, характери ­ зующие влияние технологических факторов на парамет ­ ры эквивалентной схемы, можно получить и дл я темпе­ ратуры подложки при напылении, и дл я процентного со­

става

пленки

и других факторов . Н а рис. 1.13

показаны

зависимости

тех ж е самых параметров от

температуры

о к р у ж а ю щ е й

среды.

 

 

 

Способность прогнозирования влияния технологиче­

ских и внешних факторов на п а р а м е т р ы

эквивалентной

схемы

имеет

н е м а л о в а ж н о е практическое

значение, так

к а к в настоящее время наметилась

тенденция

использо­

в а т ь

тонкие

ферромагнитные

пленки

в

качестве

устройств без дополнительных внешних элементов, т. е.

.32

при синтезе различных радиотехнических устройств ис­ пользуются функциональные свойства пленки как нели­ нейного управляемого резонатора [1] .

При использовании пленок в различных радиотехни­ ческих устройствах могут встретиться случаи, требующие учета дополнительных видов энергии, например энергии

двухосной

пленки,

энергии

размагничивающего поля

и др. Это

связано с конкретным применением пленок и

зависит от условий

и р е ж и м а

работы ТФП , ее геометрии,

рассеиваемых на ней мощностей и т. п. Чтобы при этом не возвращаться к решению исходной задачи — состав­

лению уравнения

(1.21), можно воспользоваться следую­

щей

методикой

учета

дополнительных

энергетических

компонент в

этом уравнении. И з

уравнения

 

(1.21)

сле­

дует: LTK/LIVT

= dF/d<£>T.

Известно

т а к ж е

 

(приложение

1),

что

г

=-^g-coso,

о т к у д а окончательно

имеем

 

 

 

 

 

 

 

 

LnlL„

= d*EldV.

 

 

 

(1.45)

 

Необходимо отметить, что дополнительные

компонен­

ты

энергии,

учитываемые

выражением

(1.45),

относятся

только

к модели

однородной пленки.

 

 

 

 

 

 

О б р а т н а я

величина

дифференциальной

индуктивно­

сти

L R T

равна второй производной

по

Э от

общей энер­

гии

Е. З н а я

компоненты общей энергии пленки Е, легко

перейти к дифференциальным индуктивностям

уравнения

(1.21)

схемы замещения . Д л я определенных

режимов

ра­

боты

пленки

(сюда

относятся и

р е ж и м

переключения)

следует

учитывать

неоднородности

последней.

 

2

Заказ

№ 247

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

33

1.8. ВЛИЯНИЕ

НЕОДНОРОДНОСТИ ПЛЕНОК

 

Р а с с м о т р е н н ая выше эквивалентная схема

Т Ф П бы­

л а получена в

предположении, что пленка

однородна.

Такое предположение допустимо для значительного чис­

л а

задач

исследования

радиотехнических

устройств

с Т Ф П . Однако в ряде

случаев неоднородность

пленки

существенно влияет

на

ее поведение

в

схеме, и она

д о л ж н а учитываться

при

 

определении

параметров

экви­

валентной

схемы. Н а и б о л ь ш е е влияние

неодиородностей

пленок сказывается

при

рабочих

р е ж и м а х ,

когда

внеш­

ние

поля,

приложенные

к

пленке,

находятся

в области,

где зависимости дифференциальных эквивалентных индуктивностей от внешних полей характеризуются раз­ рывными функциями .

В этом п а р а г р а ф е рассмотрим влияние, неодиород­ ностей пленки на ее параметры . Многочисленные экспе­ рименты по резонансному поглощению радио- и высоко­ частотного полей подтверждают значительное влияние

неодиородностей пленки на ее физические п а р а м е т р ы

[11].

П р и этом наблюдается

аномальный

рост

постоянной

затухания

Л

Л а н д а у — Л и ф ш и ц а

(пересчитанной

из

ши­

рины линии

резонансного

поглощения

АН)

при

умень­

шении

частоты

изменения

поля

а.

Н а б л ю д а е м о е

явле ­

ние связывают с наличием дисперсии

поля анизотро­

пии

# к

по

величине АНК

и направлению б,

которая

вы­

зывает разброс и соответствующее расширение

 

резо­

нансных

кривых. Это

объяснение

справедливо

только

д л я

пленок

 

с очень

большой дисперсией,

о б л а д а ю щ и х

так

называемой

«блочной» структурой

[19]. Д л я

пленок

с малыми

 

Д Я К

у к а з а н н а я

модель

не

объясняет

н а б л ю ­

даемой частотной зависимости ширины линии резонанс­

ного

поглощения.

Эта зависимость качественно

м о ж е т

быть

объяснена

наличием в пленке

неодиородностей,

размеры которых

меньше эффективных

радиусов

обмен­

ного и дипольного взаимодействий. Неоднородности приводят к тому, что эффективные магнитные поля в различных участках пленки не одинаковы и, следова­ тельно, меняют локальные условия резонанса. При этом

векторы

намагниченности

отдельных участков д о л ж н ы

были бы

осциллировать

(при наличии внешнего пере­

менного поля) с разными амплитудами и фазами . Одна­ ко обменное и дипольное взаимодействия не позволяют векторам намагниченности соседних участков расходить -

34

ся на большие углы, т. е. они о б л а д а

ю т

«фильтрующим»

свойством",

с г л а ж и в а я эффективные

магнитные поля,

созданные

неоднородностямн. Степень

с г л а ж и в а н и я

зависит от эффективных радиусов взаимодействий, ко­

торые,

в

свою очередь, зависят от

смещающего поля.

М о

ж н о

считать установленным,

что на расширение

резонансной кривой оказывают влияние как неоднород­ ности, размеры которых превышают эффективные радиу­

сы обменного

и

дипольного

взаимодействия, — крупно­

м а с ш т а б н ы е

неоднородности,

так

и мелкомасштабные

неоднородности,

имеющие размеры,

меньше указанных

радиусов. Это разделение соответствует физической при­

роде

пленок.

 

 

Источниками

макронеоднородностей

служат: конеч­

ность

размеров

пленки, в ы з ы в а ю щ а я

образование раз ­

магничивающих полей во время напыления пленки, и, следовательно, «скосы» легкой оси; крупные дефекты, которых особенно много на краях пленки; напряжения,

возникающие

в процессе

осаждения

и

остывания плен­

ки; неоднородности

толщины пленки;

неоднородность

нагрева подложки;

неоднородность

химического состава

в разных участках пленки и т. п.

 

 

Существует

большое

количество

причин, вызываю ­

щих микровариации магнитной структуры пленки: маг­ нитная анизотропия кристаллитов, оси симметрии кото­ рых ориентированы случайным образом; изотропные на­ пряжения, преобразующиеся анизотропной магнитострикцией каждого кристаллита в энергию анизотропии; слу­ чайно ориентированные анизотропные напряжения: ва­ риации одноосной индуцированной анизотропии по ве­ личине и направлению на расстояниях порядка разме ­ ров кристаллитов; царапины, неровности подложки; пу­ стоты и немагнитные включения, имеющие большее маг­

нитное сопротивление, чем

основной

материал,

и застав ­

л я ю щ и е магнитные

силовые

линии

изгибаться

при их

обходе; остаточные

газы

и

водяные

пары;

химическая

неоднородность сплава и другие причины.

 

 

Первой и наиболее естественной попыткой

описания

•физической системы

было

бы механическое

описание,

т. е. описание движения всех областей на

основе зако ­

нов классической механики.

Действительно,

состояние

•системы известно, если известны положение и движение

всех областей, входящих в систему. З н а я положение

и

движение отдельных областей в данный момент, по

за-

2*

35

конам механики м о ж н о определить их дальнейшее из­ менение. Таким образом можно определить не только

состояние

системы в

данный момент, но и проследить

за изменением этого

состояния со

временем.

Д р у г и м и

словами,

для описания поведения

системы

требуется

определить движение всех областей, составляющих си­ стему. Это чисто механический подход к описанию фи­

зической системы. Такой подход тем

более естествен,

что в теоретической

механике р а з р а б о т а н ы

методы ре­

шения задач о движении систем многих

частиц.

К а з а л о с ь бы, что

нужно только решить

определенное

число уравнений и найти соответствующее число началь ­ ных условий. Однако д л я любого практически интерес­ ного случая мы имеем огромное число уравнений. По­ нятно, что решить такое число уравнений, найти и учесть

примерно

такое

ж е

число начальных условий практи­

чески

невозможно .

Второй принципиальной

трудностью

является то, что уравнения системы, как правило,

я в л я ­

ются

нелинейными.

Очевидно, д л я

решения

подобной

задачи

д о л ж е н быть

использован статистический подход.

Д л я

пленки,

содержащей

большое

количество

обла ­

стей,

з а д а ч а учета

влияния

неоднородное!ей

на

пара ­

метры

 

эквивалентной

схемы

магнитосвязанной

пленки

была решена с введением ряда у п р о щ а ю щ и х

предполо­

жений

 

[ 2 0 ] . В предположении, что к а ж д а я отдельная л о ­

к а л ь н а я

область

Т Ф П

действует как

однородная

плен­

ка, была

получена

ее

математическая

модель.

З а т е м

найдены взвешенные средние значения индуктивных па­

раметров эквивалентной

схемы.

В общем случае эта

з а д а ч а не р а з р е ш и м а . Поэтому-

более подробно был рассмотрен частный случай д л я об­ ласти внешних полей Л л = 0, fh=l, где наблюдается наи­ большее расхождение модели идеальной пленки с ре­ зультатами экспериментальных исследований. В случае

модели

идеальной пленки при значениях относительных

полей

л = 0 и / г Т = 1 зависимость величины

индуктивно­

сти 1 Л 2 от

поля равна бесконечности

(рис.

1.8, б ) , а

за ­

висимость

индуктивности L t 2

имеет р а з р ы в

(рис. 1 . 8 , 6 ) .

Н а самом

деле д л я реальных

пленок

индуктивность

Ьл2

незначительно превышает собственное начальное значе­

ние,

а индуктивность

L t 2

имеет конечное

значение,

мень­

шее

начального.

 

 

 

 

Средние

значения

индуктивных дифференциальных

параметров

(обозначим

их

относительные

величины

соот-

36

ветственно через 1Л и

/ т ) определяются

при

помощи

вы­

ражений

[20]

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

, Am i ' 2Д„

1-Лк

 

\

2

L7K/

2Дот

1 +

ь М - г

+

 

л

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(1.46}

 

; T

=

/

i

£ i l \ =

^ _ _ ^ L _ _ )

 

(1.47)

 

 

 

\

 

2 Л т к /

2 -

3 0 д ^ ^ 6 Д т

, 2 Д т

V

1

где

Д,„ — максимальное значение

разброса поля анизотро­

пии

НК\

 

Ьт

— наибольший

угол

отклонения

легкой

оси

локальной области от направления средней легкой оси пленки при использовании в качестве функций плотности вероятности соответственно направления и амплитуды

равномерных законов

распределения.

 

 

Можно показать,

что 8 г а ^ о 9 0

и

Д п с ~ Д 9 0 , где

угол

89 0 определяется таким образом,

что

90% пленки

имеет

локальные легкие оси, отклоненные в пределах 89 0 гра­

дусов от средней легкой оси, и

величина

Д 9 0 — 90%

пленки имеет значение 77к

в пределах

к

— Д 9 0 ) н -

Уравнения (1.46) и (1.47)

могут

быть

использованы

для оценки конечных значений дифференциальных ин­

дуктивных

параметров по экспериментально

определен­

ным 89 0

и

Д 9 0 .

Так,

например, для 89 0 = 3°

и Д 9 0 = 0,3

получим

/ л 2 4

, 3 и

/ т х = : 0 , 5 .

 

Общее решение задачи было проведено при помощи численных методов с использованием Э Ц В М . Н а рис. 1.14 сплошной линией показаны рассчитанные на Э Ц В М тео­ ретические зависимости / л и / т . Н а этом ж е рисунке д л я сравнения нанесены экспериментально снятые зависимо ­ сти соответствующих дифференциальных индуктивностей после первого цикла перемагничивания. Полученные ре­ зультаты могут быть использованы для оценки области применимости модели идеальной пленки. Наиболее про­ стой способ заключается в следующем. Н а и б о л ь ш е е рас ­ хождение в зависимостях дифференциальных индуктив­ ностей от внешних полей присуще кривой, соответствую­

щей кл = 0. Поэтому,

проводя на

г р а ф и к е рис. 1.8, а го­

ризонтальную прямую

на уровне

/ л , определенного

из

(1.46) дл я

экспериментальных значений осэо и Ддо, нахо­

дим точки

пересечения

этой прямой с зависимостью

от-

37

0,0

0,8

}t2

ft6

2,0

2,4

2,8 А

 

 

 

6

 

 

 

Ри с . 1.14

носительной дифференциальной индуктивности, соответ­

ствующей

л =

0,. откуда определяем значения полей

& т 2 ^ Ат ^

/гц

приближенно

с точностью определения

/ л

неоднородной

пленки (рис.

1.15). З а ш т р и х о в а н н ы й

на

рисунке участок соответствует области полей, где модель однородной пленки неприменима. С уменьшением ago и Ago этот участок будет уменьшаться .

Более строгий подход к исследованию влияния неоднородностей пленок на параметры их комплексной вос-

38

приимчивости и эквивалентной схемы был осуществлен в работах Е. М. Злочевского [21—22]. В этих работах тео­

ретически

получены и экспериментально подтверждены

в ы р а ж е н и я

д л я среднего значения комплексной воспри­

имчивости, учитывающие влияние неоднородностей двух,

существенно

различных

масштабов,

присутствующих

в магнитных

пленках. Оба вида неоднородностей имеют

размеры, много меньшие длины волны

электромагнитных

колебаний

диапазона

дециметровых

и сантиметровых

волн.

Поэтому

полученные

 

значения

восприимчивости

 

можно

использовать

как

 

м а к р о п а р а м е т р ы

материа­

 

ла, из

которого

изготовлена t 4

 

магнитная пленка.

Ксоставлению эквива­

лентной

схемы

неоднород­

 

ной пленки

был

применен

 

несколько

иной подход,

ис­

 

пользующий

не

дифферен ­

 

циальные

уравнения, а

вы­

 

р а ж е н и я

для

средней

вос­

Р и с . 1.15

приимчивости

неоднородной

пленки. З а д а ч а

учета влияния неоднородностей Т Ф П на

п а р а м е т р ы эквивалентной схемы была решена более строго.

Эквивалентная схема однородной пленки представ ­ ляет собой индуктивно связанный с внешними цепями

резонансный контур,

параметры

которого, так

ж е к а к и

параметры связи (коэффициенты

взаимоиндукции), яв ­

ляются функциями

величины и

ориентации

внешнего

смещающего поля (или системы полей) . Однако полу­ ченные в ы р а ж е н и я д л я восприимчивости п о к а з ы в а ю т , что параметры эквивалентной схемы неоднородной плен­

ки д о л ж н ы

зависеть, кроме

того,

и

от параметров

неод­

нородностей

и

частоты, так

как

значение

Л3 ф, опреде ­

л я ю щ е е потери

в пленке, является

функцией

расстрой­

ки [22]. Ферромагнитная среда является, таким

о б р а з о м ,

дисперсной,

и

л ю б а я эквивалентная

схема

пленки, со­

д е р ж а щ а я сосредоточенные

индуктивности, емкости

и со­

противления, справедлива только в диапазоне частот, в котором можно пренебречь зависимостью параметров от частоты. Д и а п а з о н этот тем уже, чем более существенно влияние неоднородностей.

39

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ