Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Тонкопленочные солнечные элементы

.pdf
Скачиваний:
1044
Добавлен:
07.02.2015
Размер:
6.5 Mб
Скачать

7.3.1.Заряд в полупроводнике

Ваморфном кремнии квазиуровни Ферми отстоят от границ разрешенных зон более чем на 2kT. Для такого невырожденного полупроводника выполняется статистика Больцмана и концентрацию свободных носителей можно определить по формулам

n = NCexp[(Efn EC)];

p = NVexp[(EV Efp)].

Для оценки заряда носителей, захваченных на состояния в запрещен-

ной зоне trap, используются модели доноро- и акцептороподобных со-

стояний, а также состояний амфотерного типа в щели подвижности a-Si:H. Как правило, принимается, что состояния на хвосте зоны проводимости являются акцептороподобными: они отрицательны, когда заняты электроном, и нейтральны, когда свободны от электрона. Состояния на хвосте ва-

лентной зоны имеют донороподобное поведение, доноро- и акцептороподобные состояния на хвостах зон — экспоненциальное распределение.

Принимается, что состояния, обусловленные оборванными связями, имеют амфотерное поведение, т. е. могут находиться и в доноро- и в акцептороподобном положении. Это объясняется тем, что они могут быть в трех зарядовых состояниях: положительно заряженном (свободны от электрона), нейтральном (на них находится один электрон) и отрицательном (заняты двумя электронами). В данном случае оборванная связь приводит к появле-

нию двух энергетических уровней в щели подвижности: уровень E+/0 соот-

ветствует переходу +/0, а уровень E0/– — переходу 0/–. Расстояние между двумя уровнями соответствует энергии, которую необходимо затратить, чтобы на уже занятом состоянии появился второй электрон (корреляционная энергия EU). В модели структур энергетических зон в аморфных полупро-

водниках Мотта и Дэвиса принимается, что состояния, обусловленные оборванными связями, имеют гауссово распределение.

В этом случае заряд на доноро- и акцептороподобных состояниях равен соответственно

EC

d q N(E) 1 f (E) dE;

EV

EC

a q N(E) f (E)dE,

EV

111

где f (E) — вероятность заполнения энергетического уровня электроном.

Заряд на состояниях амфотерного типа равен

am q

EC

 

 

(E) F

 

 

N(E) F

 

 

(E) dE ,

EV

где F+(E), F(E) — вероятности нахождения состояния в свободном и два-

жды занятом состоянии.

7.3.2.Скорость генерации

Впростейшем случае, когда отсутствует отражение света от заднего электрода, скорость генерации равна

G = G0 ( )exp[ ( )x],

где G0 — интенсивность падающего излучения на длине волны ; ( ) — ко-

эффициентпоглощения;x —расстояние от поверхности солнечногоэлемента. В случае отражения света от заднего электрода скорость генерации равна

G G0 ( ) exp( x) Pexp( x) , 1 P

где P — коэффициент пропускания.

7.3.3. Скорость рекомбинации

Для аморфного полупроводника скорость рекомбинации может быть вычислена интегрированием скорости рекомбинации по всем состояниям — от потолка валентной зоны до дна зоны проводимости. Если определить эф-

 

 

 

 

EC

фективность рекомбинации r(E) как скорость ре-

 

 

 

 

комбинации на единичном состоянии с энергией E, то

 

 

 

 

 

 

r1

r2

общая скорость рекомбинации будет равна

 

 

 

 

 

EC

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

R N(E) r(E)dE ,

 

r3

r4

EV

 

где N(E) — плотность состояний в щели подвижно-

 

 

 

 

EV

 

 

 

 

 

Рис. 7.4. Процессы

сти полупроводника.

 

эмиссии и захвата

Допущение о том, что захват и эмиссия носителей

 

дискретного

происходят только между распространенными и лока-

энергетического уровня

лизованными состояниями, позволяет использовать

 

 

 

 

 

для описания процессов рекомбинации статистику Шокли — Рида — Холла для доноро- и акцептороподобных состояний. В соответствии с этой статистикой занятость дискретного энергетического уровня определяют два про-

112

цесса захвата и два — эмиссии (рис. 7.4): r1, r4 — скорости захвата на уро-

вень Et электрона и дырки соответственно; r2, r3 — скорости эмиссии элек-

трона и дырки.

В табл. 7.1 охарактеризованы все процессы эмиссии и захвата электронов и дырок на доноро- и акцептороподобные состояния (см. рис. 7.4). В табл. 7.1 использованы следующие обозначения: Ta, Td — акцепторо- и

донороподобные состояния соответственно; vth — тепловая скорость носи-

телей; Nt — концентрация ловушек; n , 0p — сечение захвата ловушки для электрона и дырки соответственно; en , e0p — коэффициент эмиссии

для захваченного электрона или дырки соответственно. Индексы «+», «0» и «–» означают зарядовое состояние ловушки.

Таблица 7.1

Процессы эмиссии и захвата электронов и дырок

на доноро- и акцептороподобные состояния

Процесс

 

 

 

Переход

Скорость процесса

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Захват электрона на состояние T

 

T

 

e T0

r n

th

N

(1 f )

d

 

d

 

d

1

 

 

 

 

n

t

 

 

Захват электрона на состояние Ta0

 

Ta0 e Ta

r1 n th 0nNt(1 f )

Захват дырок на состояние T0

 

T

0

h T

r

p

th

0

N

t

f

d

 

d

 

d

3

 

 

 

p

 

 

Захват дырок на состояние T

 

T

 

h T0

r

p

th

N

t

f

a

 

a

 

a

3

 

 

 

p

 

 

Эмиссия электрона с состоянием T

0

T

0

T

e

r

e0N

t

f

 

 

 

d

d

d

 

2

n

 

 

 

 

 

 

Эмиссия электрона с состоянием T

 

T

 

T0

e

r

e N

t

f

 

 

 

a

a

a

 

2

n

 

 

 

 

 

 

 

Эмиссия дырок с состоянием T

 

T

 

T0

h

r

e N

 

(1 f )

d

 

d

d

 

4

p

 

 

t

 

 

 

 

Эмиссия дырок с состоянием T0

 

T

0

T

h

r

e0 N

 

(1 f )

a

 

a

a

 

4

p

 

 

t

 

 

 

 

В условиях термодинамического равновесия в соответствии с принципом детального равновесия r1 = r2 и r3 = r4. При этом вероятность запол-

нения состояния описывается функцией Ферми — Дирака:

f = [1 + exp(Et EF)]–1.

Отсюда коэффициенты эмиссии равны

en0 vth nNC exp Et EC ,

kT

en vth n0NV exp EV Et .

kT

113

Общая скорость рекомбинации составляет

R = r1 r2 = r3 r4. (7.8)

Принимая во внимание это выражение, а также выражения для скоростей эмиссии и захвата, получаем функцию занятости:

 

 

 

 

nv

e

 

 

 

f

 

 

 

th

n

 

 

p

 

.

(7.9)

n

th

 

p

th

0

e0

e

 

 

n

 

 

p

n

p

 

Используя выражение (7.8) и подставляя в него выражения для r1, r2, r3 и r4, определяем эффективность рекомбинации:

 

R

2

0

 

 

 

np ni2

 

 

 

r

 

th n

p

 

 

 

 

 

 

 

 

.

Nt

n

th

 

p

th

0

e0

e

 

 

 

 

 

n

 

p

n

p

Тейлор и Симмонс показали, что выражение (7.9) может быть аппроксимировано выражением

 

 

 

 

 

 

 

 

 

f

 

 

 

n th n

 

.

(7.10)

n

th

 

p

th

0

e0

 

 

n

 

p

n

 

Функция заполнения дырок равна

1 f

 

p th 0n

 

.

n th n p th 0p ep

Выражение (7.10) может быть преобразовано следующим образом:

 

n

 

 

 

 

 

e0

 

 

1

f

 

n

 

1

 

 

 

n

 

 

.

n

p 0

n

 

 

p

 

0

 

 

th

th

 

 

n

 

p

 

n

 

p

В этом случае значения в квадратных скобках представляют функцию Ферми — Дирака, поэтому получаем

 

 

 

 

 

 

E E

fnt

1

f

n n

 

1 exp

t

.

 

 

kT

 

 

n

p 0

 

 

 

 

 

n

 

p

 

 

 

 

Квазиуровень Ферми для захваченных электронов равен

 

 

 

n n

p 0p

 

E

fnt

E

kT ln

 

 

 

.

 

 

 

 

C

 

N

C

 

 

 

 

 

 

 

n

 

Аналогично функция заполнения дырок

114

 

 

p 0

 

 

 

E

fpt

E

1

 

1 f

 

 

p

 

1 exp

 

 

t

 

,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

p 0

 

 

 

kT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

p

 

 

 

 

 

 

 

а квазиуровень Ферми для захваченных дырок

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n n p 0p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

E

fpt

E

 

kT ln

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

N 0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

V

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

V

p

 

 

 

 

 

 

Для эффективности рекомбинации получаем

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0np

 

 

 

E E

fnt

1

 

 

 

 

 

 

 

 

n

p

 

 

 

1 exp

 

 

t

 

 

 

 

 

 

 

для

E > E

t0

;

th

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

r

 

p 0

 

 

 

 

 

 

kT

 

 

 

 

 

 

t

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0np

 

 

 

E

fpt

E

1

 

 

 

 

 

 

 

 

n

p

 

 

 

1 exp

 

 

 

 

 

t

 

 

 

 

для

E < E

t0

.

th

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

r

 

p 0

 

 

 

 

 

 

kT

 

 

 

 

 

 

t

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

В этих выражениях Et0

соответствует уровню, для которого равны коэффи-

циенты эмиссии электронов и дырок:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

E

E

 

 

kT

 

 

N

C

 

 

 

 

 

 

 

 

E

 

 

V

 

C

 

 

 

 

 

 

ln

 

 

n

 

.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

t0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0 N

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

p V

 

 

 

 

 

Используя выражения для r, а также

 

 

 

 

 

 

 

 

 

E

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

C

аппроксимируя функцию Ферми — Дира-

ка ступенькой при температуре 0 К, получаем следующее уравнение для скорости рекомбинации:

 

n 0pnp Efnt

R th

 

 

N(E)dE.

 

0

 

n n

p p Efpt

При этом заряд, захваченный на ло-

кализованных состояниях, равен

r1

r3

r4

r2

 

E−/0

 

 

E+/0

U

r5

r7

r8

r6

 

EV

Рис. 7.5. Процессы эмиссии и захвата электронов и дырок на состояниях амфотерного типа

Efpt

 

 

 

Efpn

 

q

 

N(E)dE

n n

 

 

N(E)dE .

 

 

 

E

 

n

p 0

E

fpt

 

 

V

 

n

p

 

 

Рекомбинационные процессы на состояниях амфотерного типа были теоретически рассмотрены Сахом и Шокли. На рис. 7.5 представлены процессы эмиссии и захвата электронов и дырок на таких состояниях.

115

В табл. 7.2 даны пояснения к процессам, представленным на рис. 7.5.

 

 

 

 

Таблица 7.2

Процессы эмиссии и захвата электронов и дырок

 

на состояниях амфотерного типа

 

 

 

 

 

 

Процесс

 

Переход

 

Скорость процесса

Захват электрона

 

D e D0

 

r1 nvth nNDBF

Эмиссия электрона

 

D0 D e

 

r2 en0NDBF0

Захват электрона

 

D0 e D

 

r3 nvth n0NDBF0

Эмиссия электрона

 

D D0 e

 

r4 en NDBF

Захват дырки

 

D0 h D

 

r5 pvth 0pNDBF0

Эмиссия дырки

 

D D0 h

 

r6 epNDBF

Захват дырки

 

D h D0

 

r7 pvth pNDBF

Эмиссия дырки

 

D0 D h

 

r8 e0pNDBF0

В табл. 7.2 D означает оборванную связь, F — функцию занятости,

индексы «+», «0» и «–» — зарядовое состояние оборванной связи. Коэффициенты эмиссии в этом случае равны

e0

0,5v

 

N

 

 

 

E

/0

EC

 

 

 

C

exp

 

 

 

;

 

 

 

 

 

 

 

n

 

th

n

 

 

 

 

 

kT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

e

2v

0N

 

 

 

 

 

E

0/

EC

 

 

C

exp

 

 

 

 

;

 

 

 

 

 

 

n

th

n

 

 

 

 

 

 

kT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

e

2v

0 N

 

 

 

 

EV E

/0

 

 

 

exp

 

 

 

 

;

 

 

 

 

 

 

 

з

 

th

 

p

V

 

 

 

 

 

 

kT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

e0

0,5v

 

N

 

 

 

EV E

0/

 

 

exp

 

 

 

 

.

 

 

 

 

 

 

 

n

 

th

p

 

V

 

 

 

 

 

kT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Функции занятости для зарядовых состояний:

F

 

 

 

 

P0P

 

;

 

N

P

P0P

N N0

 

 

 

 

 

F0

 

 

 

 

N P

 

;

 

P

P0P

N N0

 

 

 

 

N

 

116

 

 

 

F0

 

 

N0N

 

 

,

 

 

 

 

 

 

 

 

P P0P

N N0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

N

 

 

 

 

 

 

где N nv

 

e ;

N

0 nv

 

0

e0 ; P

pv

e

; P0 pv

0

e0.

th

n

p

 

th

n

p

th

 

p

n

 

th

p

n

Используя эти выражения, определяем эффективность рекомбинации:

r r r r v2 (pn n2)

n 0pP 0n pN .

 

 

r

1

2

3

4

 

th

i

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

N P P0P N N0

 

 

 

Средний заряд, приходящийся на одну оборванную связь, равен

 

 

 

 

 

Q q F F .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

7.4. Каскадные солнечные элементы

 

 

 

Большинство современных солнечных элементов обладают одним pn-

переходом. В таком элементе свободные носители заряда создаются только

теми фотонами, энергия которых больше или равна оптической ширине за-

прещенной зоны. Другими словами, фотоэлектрический отклик однопереход-

ного элемента ограничен частью солнечного спектра, с энергией превышаю-

щей ширину запрещенной зоны, а фотоны меньшей энергии не используют-

ся. Один из путей преодоления этого ограничения —

 

 

 

 

 

применение многослойных структур из двух и более

 

 

 

 

 

солнечных элементов с различной шириной запрещен-

 

Eg1 > Eg2 > Eg3

ной зоны. Такие элементы называются многопереход-

 

 

Eg1

 

 

ными или каскадными. Многопереходные элементы

 

 

 

 

 

 

 

 

могут достичь большей эффективности фотоэлектри-

 

Eg2

 

 

ческого преобразования, поскольку используют значи-

 

 

 

 

 

тельно большую часть солнечного спектра.

 

 

 

 

Eg3

 

 

В типичном многопереходном солнечном элемен-

 

Рис. 7.6. Принцип

те (рис. 7.6)

одиночные фотоэлементы расположены

 

построения

 

друг за другом таким образом, что солнечный свет сна-

 

многопереходного

солнечного элемента

чала попадает на элемент с наибольшей шириной за-

 

 

 

 

 

прещенной зоны, при этом поглощаются фотоны с наибольшей энергией. Не

поглощенные верхним слоем фотоны проникают в следующий элемент с

меньшей шириной запрещенной зоны, где часть их поглощается и т. д. Про-

веденные расчеты показали, что идеальный каскадный СЭ с бесконечным ко-

личеством согласованныхэлементов может иметь КПД = 66 %.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

117

 

 

 

 

 

 

 

 

Идея каскадных фотоэлементов, возникшая в 1960-е годы, вначале была

реализована в механически стыкованных фотоэлементах [98]. Фотоэлементы с монолитной структурой впервые изготовили в США. Многослойные согла-

сованные по периоду решетки структуры были выращены методом газофаз-

 

 

 

 

 

ной эпитаксии с использованием металлорганичес-

 

Al

 

Al

 

 

 

 

ких соединений на германиевой подложке. При

 

 

 

 

 

 

 

ITO

 

 

 

 

этом p–n-переход верхнего фотоэлемента сформи-

 

 

p-a-Si:H

 

 

 

i-a-Si:H

 

ровался в полупроводнике на основе твердого рас-

 

 

 

 

 

твора In0,5Ga0,5P, а нижнего — на основе GaAs. По-

 

 

n-a-Si:H

 

 

 

 

следовательное соединение фотоэлементов и обес-

 

 

p-a-SiGe:H

 

 

 

i-a-SiGe:H

 

печение прохождения носителей между элемента-

 

 

 

 

ми осуществлялось посредством туннельного p–n-

 

 

n-a-SiGe:H

 

 

 

p-a-SiGe:H

 

перехода, специально сформированного между кас-

 

 

 

 

 

 

 

i-a-SiGe:H

 

кадами. Позднее сформировался и третий каскад с

 

 

 

 

 

p–n-переходом в германиевой подложке. В настоя-

 

 

n-a-SiGe:H

 

 

 

ZnO

 

щее время трехкаскадные фотоэлементы исполь-

 

 

Ag

 

 

 

 

зуются для оснащения космическихаппаратов.

 

 

 

 

 

 

 

Сталь

 

 

 

 

На основе аморфных полупроводников также

 

 

 

 

 

Рис. 7.7. Трехкаскадный

изготавливают каскадные солнечные элементы,

 

солнечный элемент

при этом каждый отдельный каскад имеет pin-

на основе сплавов a-SiGe:H

структуру.

В многопереходных СЭ на основе аморфных материалов для формиро-

вания i-слоев помимо a-Si:H могут использоваться широкозонные a-Si1−xCx:H, a-Si1−xNx:Hиузкозонныеa-Si1−xGex:Hполупроводникипосравнениюсa-Si:H.

На рис. 7.7 представлена конструкция трехкаскадного солнечного эле-

мента с тремя pin-структурами на основе a-Si:H и его сплавов.

Верхний слой, поглощающий коротковолновую (голубую) область солнечного спектра, формируется из сплава на основе a-Si:H с шириной оптической щели 1,8 эВ. В настоящее время принято считать, что широкозонный сплав a-Si1-xCx:H невозможно использовать в качестве i-слоя СЭ. Это связано с тем, что после длительного освещения светом в нем образуется очень высокая плотность дефектов. Применение же тонких слоев не позволяет эффективно поглощать свет. По этой причине для формирования широкозонного i-слоя в тройных СЭ используется a-Si:H с повышенным содержанием водорода, ко-

торый осаждается при пониженных температурах 150–200 С в условиях разбавления моносилана водородом.

118

Для серединного элемента в качестве слоя i-типа используется сплав a-SiGe:H с содержанием германия ~10–15 %. Ширина оптической щели данного слоя 1,6 эВ идеально подходит для поглощения зеленой области солнечного спектра.

Нижняя часть солнечного элемента впитывает длинноволновую часть спектра солнечного излучения (красная и инфракрасная), для этого ис-

пользуется i-слой a-SiGe:H, где концентрация германия составляет от 40

до 50 % (ширина оптической щели 1,4 эВ). Однако значительное увели-

чение содержания Ge сопровождается ухудшением оптоэлектронных свойств полупроводника и приводит к уменьшению коэффициента формы и напряжения холостого хода. Эта проблема может быть решена за счет оптимизации процесса осаждения, нанесения a-SiGe:H при разбавлении рабочего газа водородом, а также формирования i-слоя с изменяющимся содержанием германия, а значит, и изменяющейся шириной щели под-

вижности по толщине.

Следует отметить, что GeH4, используемый при получении a-SiGe:H,

в несколько раз дороже моносилана и является токсичным веществом.

Непоглощенный свет отражается от заднего контакта на основе Ag/ZnO.

Использование прозрачного проводящего оксида в сочетании со слоем ме-

талла увеличивает отражение от заднего электрода.

Все три элемента каскадной солнечной батареи связаны между собой сильнолегированными слоями, образующими туннельные pn-переходы ме-

жду соседними элементами. Электроны, генерируемые в верхнем элементе

(см. рис. 7.7), движутся к pn-переходу, где они рекомбинируют с дырками из нижележащего элемента. Когда скорость рекомбинации не сбалансирована с поступающим потоком носителей, происходит накопление объемного про-

странственного заряда, который отрицательно влияет на электрическое поле прилегающего элемента с наибольшей скоростью генерации. Очень важно обеспечить низкое сопротивление этого pn-перехода. Перспективным явля-

ется использование слоев p- и n-типа на основе микрокристаллического кремния, поскольку он более эффективно легируется по сравнению с a-Si:H.

КПД каскадных солнечных фотоэлементов, изготовленных в различных лабораториях и фирмах, представлены в табл. 7.3 (начальный КПД — КПД СЭ сразу после изготовления, стабилизированный КПД — КПД СЭ после длительного освещения).

119

Таблица 7.3

КПД каскадных солнечных элементов малой площади, изготовленных в различных лабораториях и фирмах

Структура

Первоначальный

Стабилизированный

Лаборатория,

КПД, %

КПД, %

фирма

 

a-Si/a-SiGe/a-SiGe

15,2

13,0

«United Solar»

a-Si/a-SiGe/a-SiGe

11,7

11

«Fuji»

a-Si/a-SiGe/a-SiGe

12,5

10,7

«U.Toledo»

a-Si/a-SiGe/a-SiGe

10,2

«Sharp»

a-Si/a-SiGe

11,6

10,6

«BP Solar»

a-Si/a-SiGe

10,6

«Sanyo»

a-Si/ c-Si

12,0

«U.Neuchatel»

a-Si/ c-Si

13,0

11,5

«Canon»

a-Si/poly-Si/poly-Si

12,3

11,5

«Kaneka»

a-Si/a-SiGe/ c-Si

11,4

10,7

«ECD»

Деградация КПД каскадных СЭ составляет 10–20 %, в то время как у одинарных солнечных элементов — 20–40 % (см. табл. 7.3).

В каскадном солнечном фотоэлементе общий ток ограничивается минимальным током, протекающим через один из элементов. В связи с этим необходимо согласовывать токи, протекающие через отдельные элементы, в точке максимальной мощности под освещением. Токи короткого замыкания каждого из элементов являются лишь первым приближением для такого согласования, так как необходимо учитывать соответствующие коэффициенты формы. В тройном солнечном элементе a-Si:H/a-SiGe:H/a-SiGe:H наименьший коэффициент формы имеет нижний элемент на основе a-SiGe:H, а наи-

больший — верхний на основе a-Si:H. Поэтому ток короткого замыкания нижнего элемента должен быть немного выше среднего, а среднего — не-

много выше верхнего. В оптимизированных тройных солнечных фотоэле-

ментах эта разница в обоих случаях составляет примерно 1 мА/см2. Такого согласования добиваются за счет подбора ширины оптической щели и толщины каждого из i-слоев. Рассогласование токов легко определятся по спектральному отклику каскадных СЭ. В случае хорошо согласованных то-

ков спектральный отклик имеет плоский вид в широком спектральном диапазоне. Если один из элементов ограничивает общий ток, то спектральный отклик не имеет такого плоского вида и по существу является спектральным откликом этого ограничивающего элемента.

В целом каскадные СЭ работают при больших́ напряжениях и меньших токах, чем одинарные солнечные элементы. Следствием меньших ра-

бочих токов является уменьшение потерь на сопротивлениях.

120