
Тонкопленочные солнечные элементы
.pdf7.3.1.Заряд в полупроводнике
Ваморфном кремнии квазиуровни Ферми отстоят от границ разрешенных зон более чем на 2kT. Для такого невырожденного полупроводника выполняется статистика Больцмана и концентрацию свободных носителей можно определить по формулам
n = NCexp[(Efn – EC)];
p = NVexp[(EV – Efp)].
Для оценки заряда носителей, захваченных на состояния в запрещен-
ной зоне trap, используются модели доноро- и акцептороподобных со-
стояний, а также состояний амфотерного типа в щели подвижности a-Si:H. Как правило, принимается, что состояния на хвосте зоны проводимости являются акцептороподобными: они отрицательны, когда заняты электроном, и нейтральны, когда свободны от электрона. Состояния на хвосте ва-
лентной зоны имеют донороподобное поведение, доноро- и акцептороподобные состояния на хвостах зон — экспоненциальное распределение.
Принимается, что состояния, обусловленные оборванными связями, имеют амфотерное поведение, т. е. могут находиться и в доноро- и в акцептороподобном положении. Это объясняется тем, что они могут быть в трех зарядовых состояниях: положительно заряженном (свободны от электрона), нейтральном (на них находится один электрон) и отрицательном (заняты двумя электронами). В данном случае оборванная связь приводит к появле-
нию двух энергетических уровней в щели подвижности: уровень E+/0 соот-
ветствует переходу +/0, а уровень E0/– — переходу 0/–. Расстояние между двумя уровнями соответствует энергии, которую необходимо затратить, чтобы на уже занятом состоянии появился второй электрон (корреляционная энергия EU). В модели структур энергетических зон в аморфных полупро-
водниках Мотта и Дэвиса принимается, что состояния, обусловленные оборванными связями, имеют гауссово распределение.
В этом случае заряд на доноро- и акцептороподобных состояниях равен соответственно
EC
d q N(E) 1 f (E) dE;
EV
EC
a q N(E) f (E)dE,
EV
111

где f (E) — вероятность заполнения энергетического уровня электроном.
Заряд на состояниях амфотерного типа равен
am q |
EC |
|
|
(E) F |
|
|
N(E) F |
|
|
(E) dE , |
EV
где F+(E), F– (E) — вероятности нахождения состояния в свободном и два-
жды занятом состоянии.
7.3.2.Скорость генерации
Впростейшем случае, когда отсутствует отражение света от заднего электрода, скорость генерации равна
G = G0 ( )exp[ ( )x],
где G0 — интенсивность падающего излучения на длине волны ; ( ) — ко-
эффициентпоглощения;x —расстояние от поверхности солнечногоэлемента. В случае отражения света от заднего электрода скорость генерации равна
G G0 ( ) exp( x) Pexp( x) , 1 P
где P — коэффициент пропускания.
7.3.3. Скорость рекомбинации
Для аморфного полупроводника скорость рекомбинации может быть вычислена интегрированием скорости рекомбинации по всем состояниям — от потолка валентной зоны до дна зоны проводимости. Если определить эф-
|
|
|
|
EC |
фективность рекомбинации r(E) как скорость ре- |
|
|
|
|
|
комбинации на единичном состоянии с энергией E, то |
||
|
|
|
|
|
||
|
r1 |
r2 |
общая скорость рекомбинации будет равна |
|||
|
|
|
|
|
EC |
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
R N(E) r(E)dE , |
|
|
r3 |
r4 |
EV |
|||
|
где N(E) — плотность состояний в щели подвижно- |
|||||
|
|
|
|
EV |
||
|
|
|
|
|||
|
Рис. 7.4. Процессы |
сти полупроводника. |
||||
|
эмиссии и захвата |
Допущение о том, что захват и эмиссия носителей |
||||
|
дискретного |
происходят только между распространенными и лока- |
||||
энергетического уровня |
||||||
лизованными состояниями, позволяет использовать |
||||||
|
|
|
|
|
для описания процессов рекомбинации статистику Шокли — Рида — Холла для доноро- и акцептороподобных состояний. В соответствии с этой статистикой занятость дискретного энергетического уровня определяют два про-
112

цесса захвата и два — эмиссии (рис. 7.4): r1, r4 — скорости захвата на уро-
вень Et электрона и дырки соответственно; r2, r3 — скорости эмиссии элек-
трона и дырки.
В табл. 7.1 охарактеризованы все процессы эмиссии и захвата электронов и дырок на доноро- и акцептороподобные состояния (см. рис. 7.4). В табл. 7.1 использованы следующие обозначения: Ta, Td — акцепторо- и
донороподобные состояния соответственно; vth — тепловая скорость носи-
телей; Nt — концентрация ловушек; n , 0p — сечение захвата ловушки для электрона и дырки соответственно; en , e0p — коэффициент эмиссии
для захваченного электрона или дырки соответственно. Индексы «+», «0» и «–» означают зарядовое состояние ловушки.
Таблица 7.1
Процессы эмиссии и захвата электронов и дырок
на доноро- и акцептороподобные состояния
Процесс |
|
|
|
Переход |
Скорость процесса |
|||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||
Захват электрона на состояние T |
|
T |
|
e T0 |
r n |
th |
N |
(1 f ) |
||||||||
d |
|
d |
|
d |
1 |
|
|
|
|
n |
t |
|
|
|||
Захват электрона на состояние Ta0 |
|
Ta0 e Ta |
r1 n th 0nNt(1 f ) |
|||||||||||||
Захват дырок на состояние T0 |
|
T |
0 |
h T |
r |
p |
th |
0 |
N |
t |
f |
|||||
d |
|
d |
|
d |
3 |
|
|
|
p |
|
|
|||||
Захват дырок на состояние T |
|
T |
|
h T0 |
r |
p |
th |
N |
t |
f |
||||||
a |
|
a |
|
a |
3 |
|
|
|
p |
|
|
|||||
Эмиссия электрона с состоянием T |
0 |
T |
0 |
T |
e |
r |
e0N |
t |
f |
|
|
|
||||
d |
d |
d |
|
2 |
n |
|
|
|
|
|
|
|||||
Эмиссия электрона с состоянием T |
|
T |
|
T0 |
e |
r |
e N |
t |
f |
|
|
|
||||
a |
a |
a |
|
2 |
n |
|
|
|
|
|
|
|
||||
Эмиссия дырок с состоянием T |
|
T |
|
T0 |
h |
r |
e N |
|
(1 f ) |
|||||||
d |
|
d |
d |
|
4 |
p |
|
|
t |
|
|
|
|
|||
Эмиссия дырок с состоянием T0 |
|
T |
0 |
T |
h |
r |
e0 N |
|
(1 f ) |
|||||||
a |
|
a |
a |
|
4 |
p |
|
|
t |
|
|
|
|
В условиях термодинамического равновесия в соответствии с принципом детального равновесия r1 = r2 и r3 = r4. При этом вероятность запол-
нения состояния описывается функцией Ферми — Дирака:
f = [1 + exp(Et – EF)]–1.
Отсюда коэффициенты эмиссии равны
en0 vth nNC exp Et EC ,
kT
en vth n0NV exp EV Et .
kT
113
Общая скорость рекомбинации составляет
R = r1 – r2 = r3 – r4. (7.8)
Принимая во внимание это выражение, а также выражения для скоростей эмиссии и захвата, получаем функцию занятости:
|
|
|
|
nv |
e |
|
|
|
|||
f |
|
|
|
th |
n |
|
|
p |
|
. |
(7.9) |
n |
th |
|
p |
th |
0 |
e0 |
e |
||||
|
|
n |
|
|
p |
n |
p |
|
Используя выражение (7.8) и подставляя в него выражения для r1, r2, r3 и r4, определяем эффективность рекомбинации:
|
R |
2 |
0 |
|
|
|
np ni2 |
|
|
|
||
r |
|
th n |
p |
|
|
|
|
|
|
|
|
. |
Nt |
n |
th |
|
p |
th |
0 |
e0 |
e |
||||
|
|
|
|
|
n |
|
p |
n |
p |
Тейлор и Симмонс показали, что выражение (7.9) может быть аппроксимировано выражением
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
f |
|
|
|
n th n |
|
. |
(7.10) |
||
n |
th |
|
p |
th |
0 |
e0 |
|||
|
|
n |
|
p |
n |
|
Функция заполнения дырок равна
1 f |
|
p th 0n |
|
|
. |
||
n th n p th 0p ep |
Выражение (7.10) может быть преобразовано следующим образом:
|
n |
|
|
|
|
|
e0 |
|
|
1 |
|
f |
|
n |
|
1 |
|
|
|
n |
|
|
. |
n |
p 0 |
n |
|
|
p |
|
0 |
||||
|
|
th |
th |
|
|||||||
|
n |
|
p |
|
n |
|
p |
В этом случае значения в квадратных скобках представляют функцию Ферми — Дирака, поэтому получаем
|
|
|
|
|
|
E E |
fnt |
1 |
f |
n n |
|
1 exp |
t |
. |
|||
|
|
kT |
|
|||||
|
n |
p 0 |
|
|
|
|
||
|
n |
|
p |
|
|
|
|
Квазиуровень Ферми для захваченных электронов равен
|
|
|
n n |
p 0p |
|
||
E |
fnt |
E |
kT ln |
|
|
|
. |
|
|
|
|||||
|
C |
|
N |
C |
|
|
|
|
|
|
|
|
n |
|
Аналогично функция заполнения дырок
114

|
|
p 0 |
|
|
|
E |
fpt |
E |
1 |
|
||
1 f |
|
|
p |
|
1 exp |
|
|
t |
|
, |
||
|
|
|
|
|
|
|
||||||
|
|
n |
p 0 |
|
|
|
kT |
|
||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||
|
|
n |
|
p |
|
|
|
|
|
|
|
|
а квазиуровень Ферми для захваченных дырок |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
n n p 0p |
|
|
|
|
|
||||||||||
|
|
|
|
E |
fpt |
E |
|
kT ln |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
. |
|
|
|
|||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
N 0 |
|
|
|
|
|||||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
V |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
V |
p |
|
|
|
|
|
|
||||
Для эффективности рекомбинации получаем |
|
|
|
|
|
|
|||||||||||||||||||||||
|
|
|
0np |
|
|
|
E E |
fnt |
1 |
|
|
|
|
|
|||||||||||||||
|
|
|
n |
p |
|
|
|
1 exp |
|
|
t |
|
|
|
|
|
|
|
для |
E > E |
t0 |
; |
|||||||
th |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||||||||
r |
|
p 0 |
|
|
|
|
|
|
kT |
|
|
|
|
|
|
t |
|
||||||||||||
|
|
|
n |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||||
|
|
|
n |
|
|
|
p |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
0np |
|
|
|
E |
fpt |
E |
1 |
|
|
|
|
|
||||||||||||||
|
|
|
n |
p |
|
|
|
1 exp |
|
|
|
|
|
t |
|
|
|
|
для |
E < E |
t0 |
. |
|||||||
th |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||||||||
r |
|
p 0 |
|
|
|
|
|
|
kT |
|
|
|
|
|
|
t |
|
||||||||||||
|
|
|
n |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||||
|
|
|
n |
|
|
|
p |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
В этих выражениях Et0 |
соответствует уровню, для которого равны коэффи- |
||||||||||||||||||||||||||||
циенты эмиссии электронов и дырок: |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
E |
E |
|
|
kT |
|
|
N |
C |
|
|
|
|
|||||||||
|
|
|
|
E |
|
|
V |
|
C |
|
|
|
|
|
|
ln |
|
|
n |
|
. |
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
2 |
|
2 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||||||
|
|
|
|
t0 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
0 N |
|
|
|
|
|
||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
p V |
|
|
|
|
|
||
Используя выражения для r, а также |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
E |
|||||||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
C |
аппроксимируя функцию Ферми — Дира-
ка ступенькой при температуре 0 К, получаем следующее уравнение для скорости рекомбинации:
|
n 0pnp Efnt |
||
R th |
|
|
N(E)dE. |
|
0 |
||
|
n n |
p p Efpt |
При этом заряд, захваченный на ло-
кализованных состояниях, равен
r1 |
r3 |
r4 |
||
r2 |
|
E−/0 |
||
|
|
E+/0 |
U |
|
r5 |
r7 |
r8 |
||
r6 |
|
EV
Рис. 7.5. Процессы эмиссии и захвата электронов и дырок на состояниях амфотерного типа
Efpt |
|
|
|
Efpn |
|
||
q |
|
N(E)dE |
n n |
|
|
N(E)dE . |
|
|
|
||||||
|
E |
|
n |
p 0 |
E |
fpt |
|
|
V |
|
n |
p |
|
|
Рекомбинационные процессы на состояниях амфотерного типа были теоретически рассмотрены Сахом и Шокли. На рис. 7.5 представлены процессы эмиссии и захвата электронов и дырок на таких состояниях.
115
В табл. 7.2 даны пояснения к процессам, представленным на рис. 7.5.
|
|
|
|
Таблица 7.2 |
Процессы эмиссии и захвата электронов и дырок |
||||
|
на состояниях амфотерного типа |
|
||
|
|
|
|
|
Процесс |
|
Переход |
|
Скорость процесса |
Захват электрона |
|
D e D0 |
|
r1 nvth nNDBF |
Эмиссия электрона |
|
D0 D e |
|
r2 en0NDBF0 |
Захват электрона |
|
D0 e D |
|
r3 nvth n0NDBF0 |
Эмиссия электрона |
|
D D0 e |
|
r4 en NDBF |
Захват дырки |
|
D0 h D |
|
r5 pvth 0pNDBF0 |
Эмиссия дырки |
|
D D0 h |
|
r6 epNDBF |
Захват дырки |
|
D h D0 |
|
r7 pvth pNDBF |
Эмиссия дырки |
|
D0 D h |
|
r8 e0pNDBF0 |
В табл. 7.2 D означает оборванную связь, F — функцию занятости,
индексы «+», «0» и «–» — зарядовое состояние оборванной связи. Коэффициенты эмиссии в этом случае равны
e0 |
0,5v |
|
N |
|
|
|
E |
/0 |
EC |
|
|
||||||||||
|
C |
exp |
|
|
|
; |
|||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|||||||||||||||
n |
|
th |
n |
|
|
|
|
|
kT |
|
|
|
|
|
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
e |
2v |
0N |
|
|
|
|
|
E |
0/ |
EC |
|
|
|||||||||
C |
exp |
|
|
|
|
; |
|||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
||||||||||||||||
n |
th |
n |
|
|
|
|
|
|
kT |
|
|
|
|
|
|||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
e |
2v |
0 N |
|
|
|
|
EV E |
/0 |
|
|
|||||||||||
|
exp |
|
|
|
|
; |
|||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|||||||||||||||
з |
|
th |
|
p |
V |
|
|
|
|
|
|
kT |
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
e0 |
0,5v |
|
N |
|
|
|
EV E |
0/ |
|||||||||||||
|
|
exp |
|
|
|
|
. |
||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|||||||||||||||
n |
|
th |
p |
|
V |
|
|
|
|
|
kT |
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Функции занятости для зарядовых состояний:
F |
|
|
|
|
P0P |
|
; |
|
|
N |
P |
P0P |
N N0 |
||||
|
|
|
|
|
||||
F0 |
|
|
|
|
N P |
|
; |
|
|
P |
P0P |
N N0 |
|||||
|
|
|
|
N |
|
116

|
|
|
F0 |
|
|
N0N |
|
|
, |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
P P0P |
N N0 |
|
|
|
|
|
||||||
|
|
|
|
N |
|
|
|
|
|
|
|||||
где N nv |
|
e ; |
N |
0 nv |
|
0 |
e0 ; P |
pv |
e |
; P0 pv |
0 |
e0. |
|||
th |
n |
p |
|
th |
n |
p |
th |
|
p |
n |
|
th |
p |
n |
|
Используя эти выражения, определяем эффективность рекомбинации: |
|||||||||||||||
r r r r v2 (pn n2) |
n 0pP 0n pN . |
|
|
||||||||||||
r |
1 |
2 |
3 |
4 |
|
th |
i |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
N P P0P N N0 |
|
|
|
|||||
Средний заряд, приходящийся на одну оборванную связь, равен |
|
||||||||||||||
|
|
|
|
Q q F F . |
|
|
|
|
|
|
|
||||
|
|
7.4. Каскадные солнечные элементы |
|
|
|
||||||||||
Большинство современных солнечных элементов обладают одним p–n- |
|||||||||||||||
переходом. В таком элементе свободные носители заряда создаются только |
|||||||||||||||
теми фотонами, энергия которых больше или равна оптической ширине за- |
|||||||||||||||
прещенной зоны. Другими словами, фотоэлектрический отклик однопереход- |
|||||||||||||||
ного элемента ограничен частью солнечного спектра, с энергией превышаю- |
|||||||||||||||
щей ширину запрещенной зоны, а фотоны меньшей энергии не используют- |
|||||||||||||||
ся. Один из путей преодоления этого ограничения — |
|
|
|
|
|
||||||||||
применение многослойных структур из двух и более |
|
|
|
|
|
||||||||||
солнечных элементов с различной шириной запрещен- |
|
Eg1 > Eg2 > Eg3 |
|||||||||||||
ной зоны. Такие элементы называются многопереход- |
|
||||||||||||||
|
Eg1 |
|
|
||||||||||||
ными или каскадными. Многопереходные элементы |
|
|
|
||||||||||||
|
|
|
|
|
|||||||||||
могут достичь большей эффективности фотоэлектри- |
|
Eg2 |
|
|
|||||||||||
ческого преобразования, поскольку используют значи- |
|
|
|
|
|
||||||||||
тельно большую часть солнечного спектра. |
|
|
|
|
Eg3 |
|
|
||||||||
В типичном многопереходном солнечном элемен- |
|
Рис. 7.6. Принцип |
|||||||||||||
те (рис. 7.6) |
одиночные фотоэлементы расположены |
|
построения |
|
|||||||||||
друг за другом таким образом, что солнечный свет сна- |
|
многопереходного |
|||||||||||||
солнечного элемента |
|||||||||||||||
чала попадает на элемент с наибольшей шириной за- |
|
|
|
|
|
||||||||||
прещенной зоны, при этом поглощаются фотоны с наибольшей энергией. Не |
|||||||||||||||
поглощенные верхним слоем фотоны проникают в следующий элемент с |
|||||||||||||||
меньшей шириной запрещенной зоны, где часть их поглощается и т. д. Про- |
|||||||||||||||
веденные расчеты показали, что идеальный каскадный СЭ с бесконечным ко- |
|||||||||||||||
личеством согласованныхэлементов может иметь КПД = 66 %. |
|
|
|
||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
117 |
|
|
|
|
|
|
|
|
Идея каскадных фотоэлементов, возникшая в 1960-е годы, вначале была
реализована в механически стыкованных фотоэлементах [98]. Фотоэлементы с монолитной структурой впервые изготовили в США. Многослойные согла-
сованные по периоду решетки структуры были выращены методом газофаз- |
|||||
|
|
|
|
|
ной эпитаксии с использованием металлорганичес- |
|
Al |
|
Al |
|
|
|
|
|
ких соединений на германиевой подложке. При |
||
|
|
|
|
|
|
|
|
ITO |
|
||
|
|
|
этом p–n-переход верхнего фотоэлемента сформи- |
||
|
|
p-a-Si:H |
|
||
|
|
i-a-Si:H |
|
ровался в полупроводнике на основе твердого рас- |
|
|
|
|
|
|
твора In0,5Ga0,5P, а нижнего — на основе GaAs. По- |
|
|
n-a-Si:H |
|
||
|
|
|
следовательное соединение фотоэлементов и обес- |
||
|
|
p-a-SiGe:H |
|
||
|
|
i-a-SiGe:H |
|
печение прохождения носителей между элемента- |
|
|
|
|
|
ми осуществлялось посредством туннельного p–n- |
|
|
|
n-a-SiGe:H |
|
||
|
|
p-a-SiGe:H |
|
перехода, специально сформированного между кас- |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
i-a-SiGe:H |
|
кадами. Позднее сформировался и третий каскад с |
|
|
|
|
|
|
p–n-переходом в германиевой подложке. В настоя- |
|
|
n-a-SiGe:H |
|
||
|
|
ZnO |
|
щее время трехкаскадные фотоэлементы исполь- |
|
|
|
Ag |
|
||
|
|
|
зуются для оснащения космическихаппаратов. |
||
|
|
|
|
|
|
|
|
Сталь |
|
||
|
|
|
На основе аморфных полупроводников также |
||
|
|
|
|
|
|
Рис. 7.7. Трехкаскадный |
изготавливают каскадные солнечные элементы, |
||||
|
солнечный элемент |
при этом каждый отдельный каскад имеет p–i–n- |
|||
на основе сплавов a-SiGe:H |
структуру. |
В многопереходных СЭ на основе аморфных материалов для формиро-
вания i-слоев помимо a-Si:H могут использоваться широкозонные a-Si1−xCx:H, a-Si1−xNx:Hиузкозонныеa-Si1−xGex:Hполупроводникипосравнениюсa-Si:H.
На рис. 7.7 представлена конструкция трехкаскадного солнечного эле-
мента с тремя p–i–n-структурами на основе a-Si:H и его сплавов.
Верхний слой, поглощающий коротковолновую (голубую) область солнечного спектра, формируется из сплава на основе a-Si:H с шириной оптической щели 1,8 эВ. В настоящее время принято считать, что широкозонный сплав a-Si1-xCx:H невозможно использовать в качестве i-слоя СЭ. Это связано с тем, что после длительного освещения светом в нем образуется очень высокая плотность дефектов. Применение же тонких слоев не позволяет эффективно поглощать свет. По этой причине для формирования широкозонного i-слоя в тройных СЭ используется a-Si:H с повышенным содержанием водорода, ко-
торый осаждается при пониженных температурах 150–200 С в условиях разбавления моносилана водородом.
118
Для серединного элемента в качестве слоя i-типа используется сплав a-SiGe:H с содержанием германия ~10–15 %. Ширина оптической щели данного слоя 1,6 эВ идеально подходит для поглощения зеленой области солнечного спектра.
Нижняя часть солнечного элемента впитывает длинноволновую часть спектра солнечного излучения (красная и инфракрасная), для этого ис-
пользуется i-слой a-SiGe:H, где концентрация германия составляет от 40
до 50 % (ширина оптической щели 1,4 эВ). Однако значительное увели-
чение содержания Ge сопровождается ухудшением оптоэлектронных свойств полупроводника и приводит к уменьшению коэффициента формы и напряжения холостого хода. Эта проблема может быть решена за счет оптимизации процесса осаждения, нанесения a-SiGe:H при разбавлении рабочего газа водородом, а также формирования i-слоя с изменяющимся содержанием германия, а значит, и изменяющейся шириной щели под-
вижности по толщине.
Следует отметить, что GeH4, используемый при получении a-SiGe:H,
в несколько раз дороже моносилана и является токсичным веществом.
Непоглощенный свет отражается от заднего контакта на основе Ag/ZnO.
Использование прозрачного проводящего оксида в сочетании со слоем ме-
талла увеличивает отражение от заднего электрода.
Все три элемента каскадной солнечной батареи связаны между собой сильнолегированными слоями, образующими туннельные p–n-переходы ме-
жду соседними элементами. Электроны, генерируемые в верхнем элементе
(см. рис. 7.7), движутся к p–n-переходу, где они рекомбинируют с дырками из нижележащего элемента. Когда скорость рекомбинации не сбалансирована с поступающим потоком носителей, происходит накопление объемного про-
странственного заряда, который отрицательно влияет на электрическое поле прилегающего элемента с наибольшей скоростью генерации. Очень важно обеспечить низкое сопротивление этого p–n-перехода. Перспективным явля-
ется использование слоев p- и n-типа на основе микрокристаллического кремния, поскольку он более эффективно легируется по сравнению с a-Si:H.
КПД каскадных солнечных фотоэлементов, изготовленных в различных лабораториях и фирмах, представлены в табл. 7.3 (начальный КПД — КПД СЭ сразу после изготовления, стабилизированный КПД — КПД СЭ после длительного освещения).
119
Таблица 7.3
КПД каскадных солнечных элементов малой площади, изготовленных в различных лабораториях и фирмах
Структура |
Первоначальный |
Стабилизированный |
Лаборатория, |
|
КПД, % |
КПД, % |
фирма |
||
|
||||
a-Si/a-SiGe/a-SiGe |
15,2 |
13,0 |
«United Solar» |
|
a-Si/a-SiGe/a-SiGe |
11,7 |
11 |
«Fuji» |
|
a-Si/a-SiGe/a-SiGe |
12,5 |
10,7 |
«U.Toledo» |
|
a-Si/a-SiGe/a-SiGe |
– |
10,2 |
«Sharp» |
|
a-Si/a-SiGe |
11,6 |
10,6 |
«BP Solar» |
|
a-Si/a-SiGe |
– |
10,6 |
«Sanyo» |
|
a-Si/ c-Si |
– |
12,0 |
«U.Neuchatel» |
|
a-Si/ c-Si |
13,0 |
11,5 |
«Canon» |
|
a-Si/poly-Si/poly-Si |
12,3 |
11,5 |
«Kaneka» |
|
a-Si/a-SiGe/ c-Si |
11,4 |
10,7 |
«ECD» |
Деградация КПД каскадных СЭ составляет 10–20 %, в то время как у одинарных солнечных элементов — 20–40 % (см. табл. 7.3).
В каскадном солнечном фотоэлементе общий ток ограничивается минимальным током, протекающим через один из элементов. В связи с этим необходимо согласовывать токи, протекающие через отдельные элементы, в точке максимальной мощности под освещением. Токи короткого замыкания каждого из элементов являются лишь первым приближением для такого согласования, так как необходимо учитывать соответствующие коэффициенты формы. В тройном солнечном элементе a-Si:H/a-SiGe:H/a-SiGe:H наименьший коэффициент формы имеет нижний элемент на основе a-SiGe:H, а наи-
больший — верхний на основе a-Si:H. Поэтому ток короткого замыкания нижнего элемента должен быть немного выше среднего, а среднего — не-
много выше верхнего. В оптимизированных тройных солнечных фотоэле-
ментах эта разница в обоих случаях составляет примерно 1 мА/см2. Такого согласования добиваются за счет подбора ширины оптической щели и толщины каждого из i-слоев. Рассогласование токов легко определятся по спектральному отклику каскадных СЭ. В случае хорошо согласованных то-
ков спектральный отклик имеет плоский вид в широком спектральном диапазоне. Если один из элементов ограничивает общий ток, то спектральный отклик не имеет такого плоского вида и по существу является спектральным откликом этого ограничивающего элемента.
В целом каскадные СЭ работают при больших́ напряжениях и меньших токах, чем одинарные солнечные элементы. Следствием меньших ра-
бочих токов является уменьшение потерь на сопротивлениях.
120