![](/user_photo/2706_HbeT2.jpg)
- •Конспект по предмету
- •Раздел 1 Технологический процесс обработки изделий микроэлектроники
- •Устройство для выращивания монокристаллического слитка вытягиванием из расплава:
- •Формирование слоев с заданными свойствами
- •Процессы формирования рисунка методом литографии
- •Формирование рисунка маски из резиста:
- •Последовательность получения оксидной маски на пластине:
- •Последовательность операций при формировании рисунка поликремния:
- •Последовательность получения рисунка алюминиевой коммутации, контактов и затвора в моп-имс:
- •Сборка и монтаж имс
- •Типы и основные характеристики подложек
- •Конструктивно-технологические особенности биполярных имс
- •Структуры биполярной кремниевой имс (а) и интегрального транзистора (б) (все размеры указаны в микрометрах):
- •Структуры конденсаторов для биполярных имс:
- •Электрическая схема (а) и топология (б) логического элемента:
- •1, 5, 7, 8 — Входы; 2 —наиболее положительный потенциал; 3 — выход; 4 — земля
- •Влияние конструктивно-технологических факторов на электрические параметры имс
- •Основные этапы технологии биполярных имс
- •Технологический процесс формирования биполярных полупроводниковых структур
- •Шаблон, используемый для создания области скрытого слоя коллектора, (а) и набор фотошаблонов для фотолитографии (б):
- •Основные конструктивно-технологические варианты мпд-имс
- •Конструкция мдп-транзистора имс:
- •Структура моп-транзистора, используемая для расчета:
- •Влияние физико-технологических факторов на параметры моп-имс
- •Базовый технологический процесс получения моп-имс
- •Технология моп-имс с кремниевым затвором
- •Основные этапы изготовления моп-имс с кремниевыми затворами:
- •Раздел2 Устройство, принцип работы, наладка и регулировки узлов и механизмов специального технологического оборудования
- •Классификация оборудования.
- •Особенности техники безопасности в п/п производстве.
- •2.2 Оборудование для создания и контроля чистых сред. Наладка и регулировка
- •Пылезащитные камеры с вертикальным ламинарным потоком воздуха для выполнения операций без выделения продуктов химических реакций (а) и с выделением их (б):
- •Приборы для измерения параметров атмосферы производственных помещений
- •Гигрометры: а - волосяной, б - пленочный; 1 - груз, 2 -волос, 3 - стрелка, 4 - неравномерная шкала, 5 - пленочная мембрана
- •Анализатор запыленности:
- •Установки для очистки газов и воды
- •Приборы для измерения давления и расхода
- •Пружинный манометр: 1 - стрелка, 2 - триб, 3, 5 – спиральная и трубчатая пружины, 4 - сектор, 6 - поводок, 7 - держатель, 8 - штуцер
- •Термопарный манометрический преобразователь: 1, 2 - стеклянные трубки и баллон. 3 - платиновый подогреватель, 4 - хромель-копелевая термопара, .5 - цоколи 6 - штырьки
- •Ионизационный манометрический преобразователь:
- •Структурная схема ионизационно-термопарного вакуумметра вит-3:
- •2.3 «Оборудование для механической обработки полупроводниковых материалов»
- •Ориентация с помощью метода световых фигур.
- •Установка для световой ориентации монокристаллов:
- •Оптическая система установки световой ориентации монокристаллов:
- •Резка слитков на пластины.
- •«Алмаз 6м»
- •Станок резки слитков "Алмаз-6м":
- •Шпиндель станка "Алмаз-6м":
- •Барабан станка "Алмаз-6м":
- •Привод подачи слитка станка "Алмаз-6м":
- •Станция очистки и перекачки смазочно-охлаждающей жидкости станка "Алмаз-6м":
- •«Шлифовальное оборудование»
- •1 Рельефный слой, 2 трещенковый слой, 3 дислокационный слой, 4 напряженный слой
- •Планетарный механизм для двухстороннего шлифования пластин
- •Кинематическая схема станка двухстороннего шлифования
- •Принципиальная схема автомата снятия фасок
- •Принципиальная схема полуавтомата приклеивания пластин к блоку
- •2.4 Оборудование для химобработки
- •Автомат гидромеханической отмывки
- •Кинематическая схема агрегата (трека) автомата гидромеханической отмывки:
- •Пневмогидравлическая схема установки химической обработки: 1, 4 - ванны, 2 - подогреватель, 3 - насос-эжектор, 5 - поддон, 6 - рассеиватель, 7 - вентили, 8 - электропневматический клапан
- •2.5 Термическое оборудование
- •Схемы реакторов для газовой эпитаксии
- •Реактор установки унэс-2п-ка
- •Система газораспределения эпитаксиальной установки
- •Скруббер установки эпитаксиального наращивания унэс-101
- •Оборудование для диффузии и окисления
- •Камеры загрузки-выгрузки с ламинарным потоком воздуха термической диффузионной установки
- •Нагревательная камера термической диффузионной установки
- •Установка термической диффузии адс-6-100
- •Нагреватель диффузионной установки
- •Функциональная схема автоматической системы регулирования температуры термической диффузионной установки
- •Устройство загрузки-выгрузки подложек в реакционную трубу
- •Программатор время - команда
- •1.2. Основные технические данные.
- •1.3. Устройство пвк
- •1.4. Работа пвк
- •2. Меры безопасности
- •Время-параметр
- •1.2. Основные технические требования
- •1.3. Устройство
- •1.4. Работа
- •2.6 Оборудование для элионной обработки
- •Установки для нанесения тонких пленок в вакууме
- •Метод термического испарения
- •Метод распыления материалов ионной бомбардировкой
- •Испарители
- •Способы ионного распыления для осаждения тонких пленок
- •2.7 Оборудование для контактной фотопечати
- •Компоновочная схема эм-576
- •Блочная схема эм-576
- •Механизм выравнивания поверхности подложки и фотошаблона
- •2.8 Оборудование для проекционной фотопечати
- •Привод подъема стола.
- •Система совмещения.
- •Система автофокусировки.
- •2.9 Оборудование для нанесения и проявления фоторезиста
- •Устройство нанесения фоторезиста:
- •2.10 Сборочное оборудование
- •Установка резки алмазными кругами:
- •Узел крепления алмазного круга:
- •Установка монтажа кристаллов эм-438а
- •Кинематическая схема установки эм-438а
- •Автомат присоединения кристаллов эм-4085
- •Назначение микроскопа мт-2
- •Технические данные
- •Устройство и работа микроскопа
- •Устройство и работа составных частей микроскопа
- •Оборудование для разварки межсоединений эм-4020б
- •Последовательность монтажа проволочных перемычек
- •Механизм микросварки
- •Механизм микросварки
- •Координатный стол микросварочной установки проверка технического coctояhия
- •Возможные неисправности и методы их устранения
- •Оборудование для герметизации интегральных микросхем
- •Способы герметизации металлостеклянных и металлокерамических корпусов ис
- •Функциональная схема герметизации
- •Установка угп-50 для герметизации интегральных микросхем пластмассой
- •Раздел 3 Устройство, принцип работы наладка, регулировка специального технологического оборудования
- •Тема 1. Износ деталей машин.
- •Тема 2. Система планово-предупредительного ремонта (ппр).
- •Виды ппр.
- •Периодичность ремонта и нормы простоя оборудования при ремонте.
- •Организация ремонтного обслуживания цехах, участках и на предприятии.
- •Раздел 4 Ремонт специального технологического оборудования Основы технологии ремонта то
- •Алгоритм диагностики схемы синхронизации
- •Раздел 5 Контрольно-измерительное и испытательное оборудование
- •Контактирующее устройство зондовых установок эм-6010:
- •Устройство зондовой установки эм-6010
Анализатор запыленности:
1, 5 - диафрагма, 2, 4, 6 - объективы, 3 - сопло, 7 - источник света, 8, 10 - призмы, 9 - трубка вывода аэрозоля, 11 - модулятор светового потока
Анализируемый воздух засасывается через сопло 3 в измерительную камеру датчика с постоянным расходом и выходит через трубку 9. Перпендикулярно измерительной плоскости проходит сфокусированный пучок света, создаваемый источником 7 при прохождении через объективы 4, 6 и диафрагму 5. Часть этого пучка света, отразившись от частиц пыли в потоке воздуха под прямым углом, направлена к фотоэлектрическому усилителю (ФЭУ) через объектив 2 и диафрагму 1. Призмы 8 и 10 и модулятор светового потока 11 образуют устройство, служащее для контроля и калибровки размеров частиц пыли.
При попадании частиц пыли в измерительную камеру образуется рассеянный пучок света, вызывающий появление на выходе ФЭУ электрического сигнала, длительность которого равна времени пролета через камеру частицы пыли, а амплитуда характеризуется ее размером. Количество частиц пыли отсчитывается электромеханическим счетчиком или определяется по отклонению стрелки показывающего прибора. Если в воздухе, просасываемом через измерительную камеру, пыли нет, электрический сигнал ФЭУ отсутствует, а счетчик (или прибор) показывает нуль.
Температура. Для измерения температуры воздуха обычно используют жидкостные стеклянные термометры, принцип действия которых основан на тепловом расширении термометрической жидкости, заключенной в стеклянную трубку. В зависимости от области применения термометра в качестве термометрической жидкости используют ртуть, толуол, этиловый спирт, керосин. Ртуть используют в термометрах для измерения температуры от — -35 до 750 °С, этиловый спирт — от -80 до 70 °С, а керосин от -60 до 300 °С.
Наибольшее распространение получили ртутные термометры, так как ртуть не смачивает стекло и при нормальном атмосферном давлении остается жидкой в широком интервале температур. Недостатками ртути являются токсичность ее паров и сравнительно малый коэффициент температурного расширения (КТР ртути равен 18 • 10-4 К-1, а этилового спирта - 1,05 • 10-3 К-1).
При измерении температуры пользуются двумя шкалами: Цельсия и Кельвина. В СИ единицей температуры является кельвин. По шкале Кельвина температура абсолютного нуля соответствует -273,16 °С. Между температурами по шкалам Кельвина (Т К) и Цельсия (t °C) существует следующая зависимость: Т К = t °С + 273,16 °С.
Кроме рассмотренных жидкостных стеклянных термометров расширения применяют и другие, например дилатометрические и биметаллические, действие которых основано на свойстве твердого тела изменять свои линейные размеры при изменении температуры. Эти термометры очень редко используют для измерения температуры. Обычно они служат чувствительными элементами в системах автоматического регулирования температуры. Биметаллические термометры применяют также в качестве термодатчиков в термографах — приборах, предназначенных для непрерывной автоматической регистрации температуры воздуха в производственных помещениях.
Для контроля параметров микроклимата создан автоматический прибор ЭОЛ-2, предназначенный для постоянной регистрации температуры (от 10 до 35 °С), влажности (диапазон измерения точки росы от -10 до +35 °С) и запыленности (диапазон размеров аэрозолей от 0,5 до 10 мкм) в рабочих помещениях и объемах технологического оборудования. Прибор имеет по три канала подключения при измерении температуры и влажности и шесть каналов подключения при контроле запыленности. Информация, поступающая от всех датчиков, обрабатывается и представляется на экране дисплея в виде комментариев и значений параметров микроклимата, а при отклонениях от заданных норм отражается на пульте управления.