Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Книги_ФППч1 / %%%% МФТИ Митяшев Электронные приборы.pdf
Скачиваний:
114
Добавлен:
11.03.2016
Размер:
1.21 Mб
Скачать

валентных электронов и требуется меньше напряженность поля для разрыва валентной связи. Если напряжение пробоя диода лежит в пределах 4 В < uпр > 6 В, то могут проявиться оба механизма пробоя и знак нестабильности неопределѐнен. Возможны эффекты компенсации температурных уходов и повышенная стабильность uпр в этой области.

Диоды и другие приборы часто используются в режиме малых сигналов, т.е. малых приращений токов относительно заданного постоянного тока. Тогда удобно характеризовать прибор дифференциальными (иногда говорят динамическими) параметрами.

р-п переход можно характеризовать дифференциальной проводимостью:

g

 

di

 

x eu T

 

 

 

 

 

 

 

0

 

,

 

 

 

(2.22)

 

du

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

T

 

 

 

 

 

 

полученной из (2.19),

Если

i

» I0, то g

i

и

обратная величина –

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

T

 

дифференциальное сопротивление – равна

 

 

 

r

T

 

 

 

 

 

 

 

(2.23)

 

i

 

 

 

 

 

 

 

При Т = 300° K T uT

0,026 B и

 

 

 

 

 

 

 

 

r

26

 

 

(2.24)

 

 

 

 

 

i ma

 

 

Для германиевого перехода η ≈ 1 ( при токе i = 1 мА и r = 26 Ом). Для реального диода к этому сопротивлению добавляется сопротивление контактов и тела кристалла, при больших токах сравнимое с (2.24).

2.3. Барьерная емкость р-п перехода

Диод на основе р-п перехода является инерционным прибором. Обсудим процессы и определим параметры, определяющие инерционные свойства диода.

Запорный слой р-п перехода подобен электрическому конденсатору, емкость которого зависит от напряжения на нем. Распределение зарядов в запорном слое при u = 0 изображено на рис. 8.1 и воспроизведено для u ≠ 0 на рис. 2.4.

ρ/e=ND(x)–NA(x)

 

 

 

dQ

 

 

x

 

р

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

dQ

 

 

 

 

 

 

 

п

 

 

 

 

 

 

 

Δ=Δpп

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Рис. 2.4. Распределение заряда примесей в запорном слое

Распределение зарядов в запорном слое определяется профилем

легирования

 

 

 

 

D

 

 

 

A

 

 

 

 

 

 

N

 

 

 

x

 

e N

 

x

 

 

x

 

(2.25)

Заряды слева и справа от перехода по абсолютной величине одинаковы. Так, что

n

x dx 0

 

 

(2.26)

p

Увеличение напряжения на переходе расширяет запорный слой, увеличивая заряд. Изменение напряжения вызывает ток:

i

dQ

 

dQ

 

du

C u

du

(2.27)

dt

du dt

dt

 

 

 

 

Здесь С (u) есть дифференциальная емкость, зависящая от u. Вычислим эту зависимость. Для этого решим одномерное уравнение Пуассона:

dT

 

x

(2.28)

dx

 

 

 

На границах перехода E p E n 0 . Следовательно поле в переходе

 

E x

1

x

x dx

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(2.29)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

и полный потенциальный барьер:

 

 

 

 

 

 

 

 

n

n

 

x

x

 

x

x

 

n

 

x

 

 

 

 

 

 

uб E x dx dx

 

 

dx

x

 

dx

np

x

 

dx

 

 

 

p

p

 

p

 

p

 

p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

На основании (2.26) первое слагаемое равно нулю. Следовательно,

 

 

1

n

x x dx.

 

uб

 

 

(2.30)

 

 

 

p

 

 

 

 

 

 

 

Соотношения (2.26) и (2.30) в компактной форме описывают емкостные свойства р-п перехода.

На основании (2.26) и (2.30) находим дифференциалы:

 

 

 

du

 

 

 

 

n

d

 

 

 

p

d

 

 

,

 

 

 

б

n

 

 

 

n

p

 

p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

dQ S p d p S n d n ,

 

 

что дает

dQ

 

S Cб uб , или, с учетом uб = u0 u,

 

 

 

 

duб

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Cб

u

S ,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(2.31)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где полная ширина перехода

p n

определяется решением (2.30) при

конкретном распределении ρ(х). Рассмотрим случай резкого и плавного

переходов.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Распределение

заряда

в

 

резком переходе имеет

вид

x e ND NA (рис. 2.5а).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ρ (x)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ρ (x)

 

 

 

 

eND

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

p

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

–Δ/2

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

п

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Δ/2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

–eNA

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Рис. 2.5. Распределение зарядов в резком (а) и плавном (б) переходах

 

В случае резкого перехода

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

n

x dx

eN

D

2

 

eNA

2p

 

 

 

 

 

 

uб

 

x

 

 

 

n

 

 

 

,

 

 

 

 

 

 

 

2

2

 

 

 

 

 

p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Q SeNA p

SeND n .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Отсюда следует, что

 

n

 

NA

. Запорный слой глубже проникает в кристалл

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

p

ND

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

с меньшей концентрацией примесей (при NA >> ND и

п >>

р). Разность

потенциалов на переходе uб связана с полной шириной перехода

=

p + n

соотношением:

 

 

 

u

eNA ND

2 ,

(2.32)

 

б

NA ND

 

 

 

а ширина перехода c высотой барьера uб:

 

2 u

б

 

1

 

1

 

12

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

.

(2.33)

e

 

N

 

N

 

 

 

 

A

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

D

 

 

Барьерная емкость перехода определяется формулами (2.31) и (2.33). Учитывая uб = u0 u и обозначая емкость при u = 0

С0 = Сб (u0), получаем в явном виде зависимость барьерной емкости резкого перехода от напряжения

 

S

 

 

S

 

 

u

 

 

 

u

12

 

Cб

 

 

 

 

0

 

C0

 

 

0

 

(2.34)

u

 

u

 

 

u

 

u

u

 

б

 

0

 

 

б

 

 

 

0

 

 

 

С увеличением запирающего напряжения (u < 0) емкость уменьшается. В случае плавного перехода (рис. 2.5 б) при ρ(x) = ax

 

 

1

2

x x dx

1

2

a

 

 

uб

 

 

 

ax2 dx

3 .

(2.35)

 

 

12

 

 

2

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ширина перехода пропорциональна u1б3 и

 

C0

 

u

0

13

 

Сб

 

 

.

(2.36)

 

 

 

 

u0 u

 

Барьерная емкость мала в высокочастотных диодах (единицы пкФ) и велика в низкочастотных диодах с большой площадью перехода (до сотен пкФ),

Специально изготовляются резкие переходы (технология эпитаксиального выращивания кристаллов) с большой площадью, используемые в качестве конденсаторов, емкость которых зависит от напряжения. Такие конденсаторы называет варикапами. Для кремниевых варикапов u0 ≈ 0,8 B ; C0 = 50 – 500 пкФ и диапазон регулировки емкости в 4

– 5 раз.

Для уменьшения барьерной емкости в высокочастотных диодах создается р-i-п структура, в которой между р и п областями формируется слой кристалла с собственной беспримесной проводимостью, т.е. i-слой (рис.

2.6).

 

p

 

i

 

 

n

CБ

S

 

 

 

 

 

 

 

 

i

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ρ (x)

 

 

 

 

 

eND

Emax

 

uБ

 

 

 

 

 

 

 

eN

A

 

 

 

i

i

Рис. 2.6. Структура р-i-п и распределение заряда в ней

Введение достаточно широкого i-слоя уменьшает барьерную емкость, которая может достигать сотых долей пкФ, и понижает максимальную напряженность поля в переходе. Последнее уменьшает вероятность пробоя, что используется при конструировании высоковольтных диодов.

2.4. Диффузионная емкость р-п перехода
Основное ограничение скорости процессов в р-п диодах обусловлено диффузионным механизмом переноса носителей заряда. Ток пропорционален градиенту концентрации инжектированных неосновных носителей, а градиент, в свою очередь, пропорционален концентрации [(рис. 2.2), выражение (2.9)]. Несмотря на то, что инжектированный заряд неосновных носителей компенсируется соответствующим увеличением концентрации основных, и кристалл вне запорного слоя остается электрически нейтральным, удобно оперировать с зарядом неосновных носителей и связывать его с напряжением на переходе и с током через переход. При этом появляется параметр, связывающий заряд с напряжением – диффузионная емкость.
Полный установившийся при данном токе инжектированный заряд равен сумме зарядов дырок в п-области и электронов в р-области
Q Qp Qn (2,37)
Рассмотрим заряд дырок. Заряд равен (см (2.7) и рис. 2.2):

 

 

Qp Se pn 0 e x Lp dx SeLp pn 0

. (2.38)

0

 

Инжектированная концентрация рп(0) связана с напряжением на переходе соотношением

pn 0 pn0 eu uT 1 .

(2.10)

Изменение напряжения вызывает изменение заряда и, следовательно, емкостной ток через переход в дополнение к току, определяемому статической вольтамперной характеристикой диода.

Диффузионная емкость определяется как дифференциальная емкость:

 

 

 

 

 

dQp

 

 

dQ

dQ

 

 

 

 

C C

C

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

.

 

(2.39)

 

 

 

 

 

 

 

 

d

dp

 

dn

 

du

 

 

du

du

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

На основании (2.38) и (2.10)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

C

 

dQp

SeL

 

pn0

pn 0

 

dQp

 

 

 

 

 

p

 

 

 

 

 

 

 

 

dp

 

du

 

 

 

 

 

 

uT

 

 

uT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

или

 

Cdp

 

SeLp pn0

eu uT

Cdp 0 eu uT .

(2.40)

 

 

 

 

 

 

 

uT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Зависимость диффузионной емкости от напряжения на переходе сильно нелинейная, экспоненциальная.

Связь емкости с током через переход линейна. На основании (2.9) и (2.38) получаем

i

 

SeD

 

pn 0

 

Dp

Q

 

 

1

Q

.

(2.41)

 

p L

 

L2

 

 

 

 

p

 

p

 

 

p

 

p

p

 

 

 

 

 

 

 

 

p

 

 

 

 

 

 

 

В соответствии с экспоненциальным распределением инжектированных дырок получили, что

 

 

 

 

 

Qp ip p .

 

 

 

 

 

 

 

(2.42)

 

Следовательно, с учетом (2.10) и (2.41)

 

 

 

 

 

 

 

C

 

 

 

dQp

 

 

di

A

 

ip p

(2.43)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

dp

 

 

 

du

 

 

p

 

du

u

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

T

 

 

Таким образом, диффузионная емкость пропорциональна току через

 

переход и времени жизни неосновных носителей (здесь дырок).

 

Полная диффузионная емкость обусловлена полным зарядом(2.39)

 

 

 

 

 

 

C

ip p

 

i

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n n

.

 

 

 

 

(2.44)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

d

 

 

 

uT

 

uT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

при

 

 

 

 

C

 

 

i

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(2.45)

 

p

n

d

uT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Если i = I мА, η = 2,6 мксек, Т = 300° K (uТ = 0,026 В), то

 

С0 = 2,6 ·

10-9 – 2,6 · 10-2 = 10-7 = 0,1 мкФ.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Эквивалентная схема

 

 

р-п

перехода, смещенного в

прямом

направлении, для малых приращений тока представляет параллельное соединение дифференциального сопротивления перехода и диффузионной емкости. Поскольку дифференциальное сопротивление обратно пропорционально току через переход r uT i , а диффузионная емкость

прямо пропорциональна току, постоянная времени эквивалентной - цепочки равна времени жизни неосновных носителей

d = η.

(2.46)

Изменение напряжения на переходе вызывает реактивную iCd Cd dudt и

активную ir ur составляющие тока. Реактивная составляющая изменяет

величину заряда неосновных носителей, а активная пополняет заряд, исчезающий вследствие рекомбинации. В стационарном состоянии, когда через переход идет постоянный ток, заряд неосновных носителей и его распределение по кристаллу остаются неизменными; реактивный ток отсутствует и ток неосновных носителей через переход определяется скоростью их исчезновения вследствие рекомбинации

i

Q

.

(2.47)

 

 

 

 

В динамике Q =Q(t). Исходя из сохранения заряда можно написать уравнение:

момент переключения равен i1 E2 ud 0

 

dQ

i

Q

, или

dQ

Q i ,

(2.48)

 

 

 

 

 

dt

 

 

 

 

 

dt

 

 

 

что в стационарном случае

dQ

 

0

 

дает (2.47).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

dt

 

 

 

 

 

 

 

Соотношения (2.47) и (2.46) позволяют наглядно анализировать процессы в р-п диодах. Знак Q определяет направление смещения. Линейная зависимость заряда от тока упрощает анализ.

Усредненное время жизни носителей в р-п диоде определяет инерционность диода. В частности η определяет время переключения диода из закрытого состояния в открытое и обратно в ключевых импульсных устройствах. На рис. 2.7 приведена простая схема с диодом и временные диаграммы токов и напряжений в ней.

 

 

 

 

 

u1

 

 

 

 

 

а)

u1

 

 

R

E1

t1

 

t

 

 

 

–E2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ud0

(i1+i2)(Rn+Rp)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

i

 

 

 

ud

 

 

 

E2

t

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

б)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

tрасс

 

 

 

 

 

 

 

i

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

E1/R

 

 

 

 

 

 

 

t2

I0

t

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

u1

(E1–u d 0)/R

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ud0

E1

 

 

 

 

(E2+u d 0)/R

 

Рис. 2.7. Схема (а) характеристика диода (б) и временные диаграммы токов и напряжений (в)

При подаче прямого напряжения E1 в диоде установится прямой

ток i1 E1 ud 0 R . Напряжение на диоде, соответствующее этому току есть

ud0 (см. вольтамперную характеристику на рис. 2.7б). Прямому току соответствует заряд в диоде Ql = i1η. При подаче напряжения запирающего знака величиной E2 начинаются процессы переключения. Основным является процесс рассасывания накопленного заряда обратным током i2 , который в

R . Подстановка тока i в

уравнение (2.48) дает решение вблизи точки переключения:

Q t i1 i2 e t t1 i2 .

Можем оценить время рассасывания неосновных носителей, считая ток рассасывания i2 в течение времени рассасывания tp=t2–t1 постоянным и граничный заряд в момент t2 равным нулю(Q(t2)= 0)

tp ln i1 i2 i2

Соседние файлы в папке Книги_ФППч1