- •Введение
- •Глава 1. ПРОВОДИМОСТЬ ПОЛУПРОВОДНИКОВ
- •1.1. Проводимость беспримесных полупроводниковых кристаллов
- •1.2. Донорные и акцепторные примеси
- •1.3. Возбуждение и инжекция
- •Глава 2. ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ р-п ДИОДЫ
- •2.1. Запорный слой р-п перехода
- •2.2. Вольтамперная характеристика
- •2.3. Барьерная емкость р-п перехода
- •2.5. Туннельный диод
- •Глава 3. БИПОЛЯРНЫЕ ТРАНЗИСТОРЫ
- •3.1. Принципы действия
- •3.2. Аналитический вывод вольтамперных характеристик
- •3.3. Вольтамперные характеристики.
- •3.4. Транзистор на высоких частотах
- •3.5. Дрейфовые, транзисторы
- •3.6. Конструкция и технология
- •Глава 4. КОНТАКТ МЕТАЛЛ-ПОЛУПРОВОДНИК И
- •ДИОДЫ ШОТТКИ
- •4.1. Образование контакта металл-полупроводник
- •4.2. Вольтамперная характеристика контакта
- •металл - полупроводник
- •4.2. Конструкция и высокочастотные свойства
- •4.3. Применения
- •Глава 5. ПОЛЕВЫЕ ПРИБОРЫ
- •5.1. Транзистор с управляющим р-п переходом
- •5.2. Вольтамперная характеристика
- •5.3. Параметры и эквивалентные схемы
- •5.4. Полевой транзистор с изолированный затвором (МОП - транзистор)
- •5.5. Энергетические диаграммы МОП-структуры
- •5.6. Вольтамперные характеристики МОП-транзисторов
- •СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ
валентных электронов и требуется меньше напряженность поля для разрыва валентной связи. Если напряжение пробоя диода лежит в пределах 4 В < uпр > 6 В, то могут проявиться оба механизма пробоя и знак нестабильности неопределѐнен. Возможны эффекты компенсации температурных уходов и повышенная стабильность uпр в этой области.
Диоды и другие приборы часто используются в режиме малых сигналов, т.е. малых приращений токов относительно заданного постоянного тока. Тогда удобно характеризовать прибор дифференциальными (иногда говорят динамическими) параметрами.
р-п переход можно характеризовать дифференциальной проводимостью:
g |
|
di |
|
x eu T |
|
|
|
|
|||
|
|
|
0 |
|
, |
|
|
|
(2.22) |
||
|
du |
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
T |
|
|
|
|
|
|
полученной из (2.19), |
Если |
i |
» I0, то g |
i |
и |
обратная величина – |
|||||
|
|||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
T |
|
|
дифференциальное сопротивление – равна |
|
|
|
||||||||
r |
T |
|
|
|
|
|
|
|
(2.23) |
||
|
i |
|
|
|
|
|
|
|
|||
При Т = 300° K T uT |
0,026 B и |
|
|
|
|||||||
|
|
|
|
|
r |
26 |
|
|
(2.24) |
||
|
|
|
|
|
i ma |
|
|
||||
Для германиевого перехода η ≈ 1 ( при токе i = 1 мА и r = 26 Ом). Для реального диода к этому сопротивлению добавляется сопротивление контактов и тела кристалла, при больших токах сравнимое с (2.24).
2.3. Барьерная емкость р-п перехода
Диод на основе р-п перехода является инерционным прибором. Обсудим процессы и определим параметры, определяющие инерционные свойства диода.
Запорный слой р-п перехода подобен электрическому конденсатору, емкость которого зависит от напряжения на нем. Распределение зарядов в запорном слое при u = 0 изображено на рис. 8.1 и воспроизведено для u ≠ 0 на рис. 2.4.
ρ/e=ND(x)–NA(x) |
|
|
|
dQ |
|
|
x |
|
||||
– р |
|
|
|
0 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
dQ |
|
|
|
|
|
|
|
п |
|
|
|
|
|
|
|
Δ=Δp+Δп |
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
Рис. 2.4. Распределение заряда примесей в запорном слое |
||||||||||
Распределение зарядов в запорном слое определяется профилем |
||||||||||||
легирования |
|
|
|
|
D |
|
|
|
A |
|
|
|
|
|
|
N |
|
|
|||||||
|
x |
|
e N |
|
x |
|
|
x |
|
(2.25) |
||
Заряды слева и справа от перехода по абсолютной величине одинаковы. Так, что
n |
x dx 0 |
|
|
(2.26) |
p
Увеличение напряжения на переходе расширяет запорный слой, увеличивая заряд. Изменение напряжения вызывает ток:
i |
dQ |
|
dQ |
|
du |
C u |
du |
(2.27) |
|
dt |
du dt |
dt |
|||||||
|
|
|
|
||||||
Здесь С (u) есть дифференциальная емкость, зависящая от u. Вычислим эту зависимость. Для этого решим одномерное уравнение Пуассона:
dT |
|
x |
(2.28) |
|
dx |
|
|||
|
|
На границах перехода E p E n 0 . Следовательно поле в переходе
|
E x |
1 |
x |
x dx |
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
(2.29) |
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
|||||||
|
|
p |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
и полный потенциальный барьер: |
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||
n |
n |
|
x |
x |
|
x |
x |
|
n |
|
x |
|
|
|
|
|
|
|
|||||||||
uб E x dx dx |
|
|
dx |
x |
|
dx |
np |
x |
|
dx |
|||
|
|
|
|||||||||||
p |
p |
|
p |
|
p |
|
p |
|
|
||||
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||
На основании (2.26) первое слагаемое равно нулю. Следовательно,
|
|
1 |
n |
x x dx. |
|
|
uб |
|
|
(2.30) |
|||
|
||||||
|
|
p |
|
|
||
|
|
|
|
|
Соотношения (2.26) и (2.30) в компактной форме описывают емкостные свойства р-п перехода.
На основании (2.26) и (2.30) находим дифференциалы:
|
|
|
du |
|
|
|
|
n |
d |
|
|
|
p |
d |
|
|
, |
|
|
|
|
б |
n |
|
|
|
n |
p |
|
p |
|||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
dQ S p d p S n d n , |
|
|
|||||||||||||
что дает |
dQ |
|
S Cб uб , или, с учетом uб = u0 – u, |
|
||||||||||||||
|
|
|||||||||||||||||
|
duб |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Cб |
u |
S , |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
(2.31) |
|||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
где полная ширина перехода |
p n |
определяется решением (2.30) при |
||||||||||||||||
конкретном распределении ρ(х). Рассмотрим случай резкого и плавного
переходов. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Распределение |
заряда |
в |
|
резком переходе имеет |
вид |
||||||||||||||||
x e ND NA (рис. 2.5а). |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||||||
|
|
|
|
ρ (x) |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
ρ (x) |
|
|
|
|
|
eND |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||
– p |
|
0 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
–Δ/2 |
|
0 |
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
п |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Δ/2 |
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
–eNA |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Рис. 2.5. Распределение зарядов в резком (а) и плавном (б) переходах |
|
||||||||||||||||||||
В случае резкого перехода |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||
|
|
1 |
n |
x dx |
eN |
D |
2 |
|
eNA |
2p |
|
|
|
|
|
|||||||
|
uб |
|
x |
|
|
|
n |
|
|
|
, |
|
|
|
|
|||||||
|
|
|
2 |
2 |
|
|
|
|||||||||||||||
|
|
p |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
|
Q SeNA p |
SeND n . |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||||
Отсюда следует, что |
|
n |
|
NA |
. Запорный слой глубже проникает в кристалл |
|||||||||||||||||
|
|
|
|
|||||||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
p |
ND |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||
с меньшей концентрацией примесей (при NA >> ND и |
п >> |
р). Разность |
||||||||||||||||||||
потенциалов на переходе uб связана с полной шириной перехода |
= |
p + n |
||||||||||||||||||||
соотношением: |
|
|
|
u |
eNA ND |
2 , |
(2.32) |
|
|||
б |
NA ND |
|
|
|
|
||
а ширина перехода c высотой барьера uб:
|
2 u |
б |
|
1 |
|
1 |
|
12 |
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
. |
(2.33) |
|
e |
|
N |
|
N |
|
||||||
|
|
|
A |
|
|
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
|
D |
|
|
|||
Барьерная емкость перехода определяется формулами (2.31) и (2.33). Учитывая uб = u0 –u и обозначая емкость при u = 0
С0 = Сб (u0), получаем в явном виде зависимость барьерной емкости резкого перехода от напряжения
|
S |
|
|
S |
|
|
u |
|
|
|
u |
12 |
|
|
Cб |
|
|
|
|
0 |
|
C0 |
|
|
0 |
|
(2.34) |
||
u |
|
u |
|
|
u |
|
u |
u |
||||||
|
б |
|
0 |
|
|
б |
|
|
|
0 |
|
|
|
|
С увеличением запирающего напряжения (u < 0) емкость уменьшается. В случае плавного перехода (рис. 2.5 б) при ρ(x) = ax
|
|
1 |
2 |
x x dx |
1 |
2 |
a |
|
|
||
uб |
|
|
|
ax2 dx |
3 . |
(2.35) |
|||||
|
|
12 |
|||||||||
|
|
2 |
|
|
2 |
|
|
||||
|
|
|
|
|
|
|
|
||||
Ширина перехода пропорциональна u1б
3 и
|
C0 |
|
u |
0 |
13 |
|
Сб |
|
|
. |
(2.36) |
||
|
|
|||||
|
|
u0 u |
|
|||
Барьерная емкость мала в высокочастотных диодах (единицы пкФ) и велика в низкочастотных диодах с большой площадью перехода (до сотен пкФ),
Специально изготовляются резкие переходы (технология эпитаксиального выращивания кристаллов) с большой площадью, используемые в качестве конденсаторов, емкость которых зависит от напряжения. Такие конденсаторы называет варикапами. Для кремниевых варикапов u0 ≈ 0,8 B ; C0 = 50 – 500 пкФ и диапазон регулировки емкости в 4
– 5 раз.
Для уменьшения барьерной емкости в высокочастотных диодах создается р-i-п структура, в которой между р и п областями формируется слой кристалла с собственной беспримесной проводимостью, т.е. i-слой (рис.
2.6).
|
p |
|
i |
|
|
n |
CБ |
S |
||||
|
|
|
|
|||||||||
|
|
|
|
i |
||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
ρ (x) |
|
|
|
|
|
eND |
Emax |
|
uБ |
|||
|
|
|
|
|
|
|||||||
|
eN |
A |
|
|
|
i |
i |
|||||
Рис. 2.6. Структура р-i-п и распределение заряда в ней
Введение достаточно широкого i-слоя уменьшает барьерную емкость, которая может достигать сотых долей пкФ, и понижает максимальную напряженность поля в переходе. Последнее уменьшает вероятность пробоя, что используется при конструировании высоковольтных диодов.
|
|
Qp Se pn 0 e x Lp dx SeLp pn 0 |
. (2.38) |
0 |
|
Инжектированная концентрация рп(0) связана с напряжением на переходе соотношением
pn 0 pn0 eu uT 1 . |
(2.10) |
Изменение напряжения вызывает изменение заряда и, следовательно, емкостной ток через переход в дополнение к току, определяемому статической вольтамперной характеристикой диода.
Диффузионная емкость определяется как дифференциальная емкость:
|
|
|
|
|
dQp |
|
|
dQ |
dQ |
|
|
|
|
|||||
C C |
C |
|
|
|
|
|
|
|
n |
|
|
. |
|
(2.39) |
||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||||||
d |
dp |
|
dn |
|
du |
|
|
du |
du |
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||
На основании (2.38) и (2.10) |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||
|
|
C |
|
dQp |
SeL |
|
pn0 |
pn 0 |
|
dQp |
||||||||
|
|
|
|
|
p |
|
|
|
|
|
|
|||||||
|
|
dp |
|
du |
|
|
|
|
|
|
uT |
|
|
uT |
||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||
или |
|
Cdp |
|
SeLp pn0 |
eu uT |
Cdp 0 eu uT . |
(2.40) |
|||||||||||
|
|
|||||||||||||||||
|
|
|
|
|
uT |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Зависимость диффузионной емкости от напряжения на переходе сильно нелинейная, экспоненциальная.
Связь емкости с током через переход линейна. На основании (2.9) и (2.38) получаем
i |
|
SeD |
|
pn 0 |
|
Dp |
Q |
|
|
1 |
Q |
. |
(2.41) |
||
|
p L |
|
L2 |
|
|
|
|||||||||
|
p |
|
p |
|
|
p |
|
p |
p |
|
|
||||
|
|
|
|
|
|
p |
|
|
|
|
|
|
|
||
В соответствии с экспоненциальным распределением инжектированных дырок получили, что
|
|
|
|
|
Qp ip p . |
|
|
|
|
|
|
|
(2.42) |
|
|||||||||
Следовательно, с учетом (2.10) и (2.41) |
|
|
|||||||||||||||||||||
|
|
|
|
|
C |
|
|
|
dQp |
|
|
di |
A |
|
ip p |
(2.43) |
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||
|
|
|
|
|
dp |
|
|
|
du |
|
|
p |
|
du |
u |
|
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
T |
|
|
|
Таким образом, диффузионная емкость пропорциональна току через |
|
||||||||||||||||||||||
переход и времени жизни неосновных носителей (здесь дырок). |
|
||||||||||||||||||||||
Полная диффузионная емкость обусловлена полным зарядом(2.39) |
|
||||||||||||||||||||||
|
|
|
|
|
C |
ip p |
|
i |
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
n n |
. |
|
|
|
|
(2.44) |
|||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||||
|
|
|
|
|
d |
|
|
|
uT |
|
uT |
|
|
|
|
|
|
|
|
||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||
при |
|
|
|
|
C |
|
|
i |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
(2.45) |
|
|||
p |
n |
d |
uT |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
Если i = I мА, η = 2,6 мксек, Т = 300° K (uТ = 0,026 В), то |
|
С0 = 2,6 · |
|||||||||||||||||||||
10-9 – 2,6 · 10-2 = 10-7 = 0,1 мкФ. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||||||||||
|
|
Эквивалентная схема |
|
|
р-п |
перехода, смещенного в |
прямом |
||||||||||||||||
направлении, для малых приращений тока представляет параллельное соединение дифференциального сопротивления перехода и диффузионной емкости. Поскольку дифференциальное сопротивление обратно пропорционально току через переход r uT
i , а диффузионная емкость
прямо пропорциональна току, постоянная времени эквивалентной rС - цепочки равна времени жизни неосновных носителей
rСd = η. |
(2.46) |
Изменение напряжения на переходе вызывает реактивную iCd Cd dudt и
активную ir u
r составляющие тока. Реактивная составляющая изменяет
величину заряда неосновных носителей, а активная пополняет заряд, исчезающий вследствие рекомбинации. В стационарном состоянии, когда через переход идет постоянный ток, заряд неосновных носителей и его распределение по кристаллу остаются неизменными; реактивный ток отсутствует и ток неосновных носителей через переход определяется скоростью их исчезновения вследствие рекомбинации
i |
Q |
. |
(2.47) |
|
|||
|
|
|
|
В динамике Q =Q(t). Исходя из сохранения заряда можно написать уравнение:
|
dQ |
i |
Q |
, или |
dQ |
Q i , |
(2.48) |
|||||
|
|
|
|
|||||||||
|
dt |
|
|
|
|
|
dt |
|
|
|
||
что в стационарном случае |
dQ |
|
0 |
|
дает (2.47). |
|
||||||
|
|
|
|
|||||||||
|
|
|||||||||||
|
|
|
|
dt |
|
|
|
|
|
|
|
|
Соотношения (2.47) и (2.46) позволяют наглядно анализировать процессы в р-п диодах. Знак Q определяет направление смещения. Линейная зависимость заряда от тока упрощает анализ.
Усредненное время жизни носителей в р-п диоде определяет инерционность диода. В частности η определяет время переключения диода из закрытого состояния в открытое и обратно в ключевых импульсных устройствах. На рис. 2.7 приведена простая схема с диодом и временные диаграммы токов и напряжений в ней.
|
|
|
|
|
u1 |
|
|
|
|
|
а) |
u1 |
|
|
R |
E1 |
t1 |
|
t |
||
|
|
|
–E2 |
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
ud0 |
(i1+i2)(Rn+Rp) |
|
|||
|
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
i |
|
|
|
ud |
|
|
|
E2 |
t |
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
б) |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
tрасс |
|
|
|||
|
|
|
|
|
i |
|
|
|||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
E1/R |
|
|
|
|
|
|
|
t2 |
I0 |
t |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
u1 |
(E1–u d 0)/R |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
ud0 |
E1 |
|
|
|
|
(E2+u d 0)/R |
|
||
Рис. 2.7. Схема (а) характеристика диода (б) и временные диаграммы токов и напряжений (в)
При подаче прямого напряжения E1 в диоде установится прямой
ток i1 E1 ud 0
R . Напряжение на диоде, соответствующее этому току есть
ud0 (см. вольтамперную характеристику на рис. 2.7б). Прямому току соответствует заряд в диоде Ql = i1η. При подаче напряжения запирающего знака величиной E2 начинаются процессы переключения. Основным является процесс рассасывания накопленного заряда обратным током i2 , который в
R . Подстановка тока i в
уравнение (2.48) дает решение вблизи точки переключения:
Q t i1 i2 e t t1
i2 .
Можем оценить время рассасывания неосновных носителей, считая ток рассасывания i2 в течение времени рассасывания tp=t2–t1 постоянным и граничный заряд в момент t2 равным нулю(Q(t2)= 0)
tp ln i1 i2 i2
