- •Введение
- •Глава 1. ПРОВОДИМОСТЬ ПОЛУПРОВОДНИКОВ
- •1.1. Проводимость беспримесных полупроводниковых кристаллов
- •1.2. Донорные и акцепторные примеси
- •1.3. Возбуждение и инжекция
- •Глава 2. ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ р-п ДИОДЫ
- •2.1. Запорный слой р-п перехода
- •2.2. Вольтамперная характеристика
- •2.3. Барьерная емкость р-п перехода
- •2.5. Туннельный диод
- •Глава 3. БИПОЛЯРНЫЕ ТРАНЗИСТОРЫ
- •3.1. Принципы действия
- •3.2. Аналитический вывод вольтамперных характеристик
- •3.3. Вольтамперные характеристики.
- •3.4. Транзистор на высоких частотах
- •3.5. Дрейфовые, транзисторы
- •3.6. Конструкция и технология
- •Глава 4. КОНТАКТ МЕТАЛЛ-ПОЛУПРОВОДНИК И
- •ДИОДЫ ШОТТКИ
- •4.1. Образование контакта металл-полупроводник
- •4.2. Вольтамперная характеристика контакта
- •металл - полупроводник
- •4.2. Конструкция и высокочастотные свойства
- •4.3. Применения
- •Глава 5. ПОЛЕВЫЕ ПРИБОРЫ
- •5.1. Транзистор с управляющим р-п переходом
- •5.2. Вольтамперная характеристика
- •5.3. Параметры и эквивалентные схемы
- •5.4. Полевой транзистор с изолированный затвором (МОП - транзистор)
- •5.5. Энергетические диаграммы МОП-структуры
- •5.6. Вольтамперные характеристики МОП-транзисторов
- •СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ
|
з |
l |
|
|
|
и |
|
с |
|
|
l |
Рис. 5.6. |
Конфигурация канала в области насыщения |
|
Увеличение uc не может сузить канал, что привело бы к уменьшению тока, а приводит к увеличению длины l сомкнутой части канала. Это сокращает участок канала до смыкания lЭ = l – l, что приводит к уменьшению падения напряжения на этом участке и небольшому росту тока iс с увеличением uс (отображено пунктиром на рис. 5.4).
Пробой затвора лавинного происхождения вызывает появление больших токов затвора, что сказывается и на выходных вольтамперных характеристиках.
5.3.Параметры и эквивалентные схемы
Врежиме усиления слабых сигналов используются дифференциальные параметры, аналогичные параметрам усилительных вакуумных ламп.
Основным параметром является крутизна
|
S |
|
ic |
|
uc const . |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
(5.15) |
||||||
|
uз |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||
В ненасыщенной области в соответствии с (5.12) имеем |
|
||||||||||||||||||||
|
|
|
|
|
u |
зc |
u |
12 |
|
u |
з |
u |
0 |
12 |
|
|
|||||
|
S S0 |
|
0 |
|
|
|
|
|
|
|
(5.16) |
||||||||||
|
|
|
|
u |
|
|
|
u |
|||||||||||||
|
|
|
|
|
u |
p0 |
|
u |
p0 |
|
|
|
|||||||||
|
|
|
|
|
|
|
0 |
|
|
|
|
0 |
|
|
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
где |
S0 |
|
|
2aв n |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
(5.17) |
||||||
|
|
l |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
есть максимальное значение S, которое формально получается при uз + u0 =0 и uзс = up0. Отметим, что S0 численно равна проводимости бруска размером
2 авl .
Формулу для крутизны в области насыщения получаем, подставляя в
(5.16) uзс = up0,
|
|
u |
з |
u |
0 |
12 |
|
|
S S0 1 |
|
|
|
. |
(5.18) |
|||
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
u0 |
|
|
|
|
up0 |
|
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Выходная дифференциальная проводимость в ненасыщенной области есть
gc ic
uc
|
|
|
|
u |
зc |
u |
12 |
|
|
|
|
|
|
u |
з |
u u |
0 |
12 |
|
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||||||||||
|
S |
|
1 |
|
0 |
|
|
или g |
|
S |
|
1 |
|
c |
|
|
.(5.19) |
|||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||||||
|
|
0 |
|
|
|
u0 |
|
|
|
c |
|
0 |
|
|
up0 u0 |
|
|
|
|
|||
|
u const |
|
|
up0 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
||||||||||||||||
Как видим, основное влияние на параметры оказывают размеры и степень легирования немодулированного бруска, определяющего проводимость S0.
При данном напряжении на затворе крутизна в области насыщения численно равна выходной проводимости на начальном участке характеристики (uc = 0)
gc0 S |
(5.20) |
Выходная проводимость в области насыщения отлична от нуля вследствие обсужденного выше эффекта укорочения канала.
Типовые значения параметров для маломощных транзисторов составляют S' = 0,1 – 10 мА/В, rc' = 0,1 – 1,0 мгОм (режим насыщения). Увеличивая площадь сечения канала или используя многоканальную структуру, получают S' до 0,1 А/В.
Эквивалентная схема полевого транзистора на низких частотах аналогична эквивалентной схеме электронной лампы (рис.5.7)
uЗ |
rЗ |
SuЗ |
|
|
rC |
||
|
|
||
|
|
|
Рис. 5.7. Низкочастотная эквивалентная схема полевого транзистора
Реальные конструкции транзисторов отличаются от рассмотренной модели в виде бруска рис. 5.3а. На рис. 5.8 приведена планарная конструкция, полученная эпитаксиальным выращиванием n-канала на p- подложке и последующей диффузией через маски всех электродов. Подложка в этой конструкции играет роль второго затвора. Затвор выполнен в виде замкнутого вокруг стока (или истока) электрода, что позволяет полностью перекрыть канал напряжением на затворе. В центре конструкции лучше размещать сток, что снижает его площадь и тем уменьшает утечку и емкость на подложку.
|
|
з |
|
|
С |
|
|
|
|
|
|
|
с |
|
и |
|
З2 |
|
|
|
З |
||
n+ |
n+ |
|
n+ |
|
|
|
|
|
|||
p+ |
p+ |
|
|
|
|
|
p |
|
|
|
И |
Затвор 2
Рис. 5.8. Пленарная конструкция полевого транзистора и схемное обозначение конструкции со вторым затвором
При анализе поведения транзистора на высоких частотах нужно учитывать реальную конструкцию. Большое влияние оказывают взаимные емкости электродов ( Сзс, Сзн, Сси). ѐмкость затвора является распределенной и подключена через распределенное сопротивление канала. Именно постоянные времени зарядных цепей определяют граничные частоты полевых транзисторовю
В полевых транзисторах нет эффектов накопления заряда неосновных носителей. Однако процесс изменения проводимости канала при изменении напряжения на затворе является инерционным. При изменении напряжения на затворе изменяется область пространственного заряда р-п перехода и необходимые для изменения зарядные токи текут через неперекрытую часть канала. Сопротивление канала у стокового конца значительно, особенно в области перекрытия канала, и постоянная времени заряда получается большой.
В эквивалентной схеме заменяют распределенные емкости и сопротивления сосредоточенными. Малосигнальная эквивалентная схема полевого транзистора на высоких частотах приведена на рис. 5.9. Здесь схема 5.7 дополнена емкостными цепями транзисторной структуры и сопротивлениями тела истока Ruu' и стока Rcc.
|
|
СЗС |
RЗС |
|
RСС´ |
|
|
|
|
|
|
з |
|
|
|
|
с |
|
|
|
|
|
|
|
rЗ |
RЗИ |
|
rС |
|
|
|
|
|||
uЗИ |
|
S |
|
|
|
|
|
VЗИ |
|
||
irЭ |
|
|
1 j |
η=2СЗИ RЗИ |
|
|
СЗИ |
|
|||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
RИИ´ |
|
|
|
|
и |
|
|
|
Рис. 5.9. Эквивалентная схема полевого транзистора на высоких частотах
Емкости имеют величину Сзи = I – 15 пкФ , Cзс= I – 10 пкФ. Полная схема включает также индуктивности выводов, емкости исток-край затвора, сток-край затвора и внешние емкости между выводами.
Часто оценивают граничную частоту усилительного элемента как частоту, на которой коэффициент усиления по мощности равен единице. Для прибора с крутизной характеристики S коэффициент усиления по току
k |
Iвых |
|
SUвх |
SZ |
|
, |
|
|
вх |
||||
i |
Iвх |
Uвх Zвх |
|
|||
|
|
|
||||
коэффициент усиления по напряжению
|
|
|
k |
|
|
Uвых |
|
Iвых Zвых |
|
SZ |
|
|
|
|
|
||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
вых |
|
|
|
|
|||||||||
|
|
|
u |
|
|
|
Uвх |
|
|
Iвх Zвх |
|
|
|
|
|
|
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||
и коэффициент усиления по мощности |
|
|
|
|
|
||||||||||||||||||
|
|
|
k |
p |
k k |
S 2 Z |
вых |
Z |
вх |
. |
|
|
|
(5.21) |
|||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
i u |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||
|
На высоких частотах входное и выходное сопротивления имеют в |
||||||||||||||||||||||
первом приближении емкостной характер. Пусть Zвх Zвых |
|
1 |
|
. |
|||||||||||||||||||
|
|
||||||||||||||||||||||
|
|
||||||||||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
j Cвх |
||
Тогда k |
p |
S 2 |
2C2 |
. При ω = ωгр |
и kП =1 |
|
|
|
|
||||||||||||||
|
|
|
|
вх |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
f |
|
|
|
|
гр |
|
|
|
S |
|
|
|
|
|
|
|
|
(5.22) |
||
|
|
|
гр |
|
2 |
2 Cвх |
|
|
|
|
|
|
|
||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||
Так, если S = 2 мA/В и Свх = I пкФ, то fгр = 300 мгц. Экспериментально измеренные граничные частоты высокочастотных
полевых транзисторов с управляющим переходом около 200 мгц.
5.4. Полевой транзистор с изолированный затвором (МОП - транзистор)
Управление проводимостью полупроводника электрическим полем, создаваемым металлическим затвором, изолированным от поверхности полупроводника тонким слоем диэлектрика является одним из самых ранних изобретений. Это предложение реализовано в виде серийных полевых приборов в 60 -е годы. Примеры конструкций транзисторов с п-каналом приведены на рис. 5.10.
Транзистор со встроенным п-каналом (рис. 5.10 а) формируется на р- подложке. Канал в виде тонкого (около I мкм) слоя п-кремния отделен от затвора изолирующим слоем двуокиси кремния. При напряжении па затворе, равном нулю, канал является проводящим. Подача отрицательного напряжения уменьшает проводимость канала, и функционирование транзистора аналогично уже рассмотренному случаю затвора в виде управляющего р-п перехода. Положительное напряжение на затворе увеличивает концентрацию электронов в канале и увеличивает его проводимость.
В транзисторе с наведенным (индуцированным) каналом (рис. 5.10 б) положительное напряжение на затворе притягивает электроны р-подложки к поверхности и соединяет п-области истока и стока тонким проводящим слоем. Рабочие напряжения на затворе и стоке одного знака, что упрощает связь между усилительными каскадами или логическими элементами. Следует отметить, что наведенный канал может появиться и при uзи = 0 под влиянием положительного заряда ионов в изолирующей пленке SiO2
