- •1. Механизм конденсация тонких металлических пленок на поверхности
- •4. Среднее время релаксации и жизни адатома
- •5.Средняя длина диффузионного пробега
- •6. Технология синтеза нанопроволочек по механизму пар-жидкость-кристалл (пжк)
- •8.Технология висячих углеродных нанотрубок
- •9.Технология микроструйного выстраивания нанопроволок
- •10.Достоинства транзисторов на углеродных нанотрубках
- •12.Квантовые ямы
- •13. Квантовая нить
- •14. Квантовые точки
- •15. Схема формирования двумерных электронов на гетеропереходе
- •16) Сравнение электронных систем разной размерности
- •17) Баллистическая проводимость
- •18) Одноэлектронный транзистор
- •19. Аллотропные формы углерода: определения, примеры
- •20.Графен,свойства графена.
- •21.Принцип работы стм, блок-схема
- •22. Факторы, влияющие на качеств изображения стм
- •23. Режимы постоянного тока и постоянной высоты в стм
- •24. Суть метода Ленгмюра, коэффициент растекания.
- •26. Стабильность и состояния монослоев
- •27. Понятие коллапса
- •28.Перенос монослоев на твердые тела.
- •30.Метод поверхностного потенциального барьера
- •31. Классификация нанотехнологий
- •32. Проблемы, связанные с уменьшением размеров
- •33. Рассеяние света – определение, возможности методов, основная идея рассеяния
- •34.Рэлеевское рассеяние
- •35.Рассеяние Ми
- •36.Рассеяние Мандельштама-Бриллюэна
- •37.Комбинационное рассеяние
- •38.Индикатриса
- •40 Какие процессы включает в себя литография?
- •41.Негативная литография
- •42Позитивная литография
- •43. 10 Шагов фотолитографии
- •44. Какие вещества являются предшественниками углеродных наноструктур
- •45. Методы получения и свойства углеродных нанотрубок и нановолокон
- •46.Какими факторами определяются выдающиеся механические и термические свойства оунт
- •47.Две основные группы методов получения унт
- •49. Получение унт методом каталитического пиролиза.
- •50. Непосредственное получение унт из газовой фазы
- •51. Процесс получения макроскопических волокон, содержащих оунт и полимер
- •55 Определения нжк, хжк, сжк
- •56.Переход Фредерикса и основные виды деформации
12.Квантовые ямы
Размерное квантование возникает тогда, когда движение электрона ограничено по одному из направлений. При этом необходимо, чтобы характерный размер системы в этом направлении d был меньше волны де Бройля, т.е. d0щ9<λ.((это когда ограничен по одному направлени.
В соответствии с принципом Паули при добавлении в нашу систему электронов они будут распределяться по состояниям с увеличивающейся энергией. Это распределение характеризуется функцией плотности состояний g, которая определяется как число состояний N для электронов, приходящиеся на единичный интервал энергий. g = dN/dE,
Плотность состояний двумерных электронов не зависит от энергии: G(E) = dN/dE = m/πħ2
13. Квантовая нить
Если в структуре с двумерными электронами изготовить одномерные каналы, в которых электрон может двигаться только вдоль одного направления, то можно получить, так называемые квантовые нити.(вдоль одного направления)
Рис. Материал квантовых проволок(нитей) обозначен желтым цветом, барьерных слоев между ними – голубым.
Плотность электронных состояний в квантовой нити пропорциональна 1/Е1/2
14. Квантовые точки
Квантовую нить можно разделить на отдельные изолированные с точки зрения движения электрона участки, тогда возникают так называемые квантовые точки или нульмерные объекты. Это должны быть участки со средним размером 5-20 нм по всем трем направлениям. В таком полупроводнике существуют уровни энергии для электрона, подобные атомным.
Материал квантовых точек обозначен желтым цветом, барьерных слоев между ними – голубым.
Плотность электронных состояний в квантовой точке — это уровень или уровни энергии. Квантовые точки часто сравнивают с атомами и называют их искусственными атомами по той причине, что они также, как и атомы имеют отдельные электронные энергетические уровни.
15. Схема формирования двумерных электронов на гетеропереходе
Двумерные электроны образуются на плоской границе контакта двух полупроводников с разной шириной запрещенной зоны. Часто в качестве пары таких полупроводников выбирают GaAs и Ga1-XAlXAs. Ширина запрещенной зоны Eg2 увеличивается при увеличении х. Гетероструктурой называется многослойная система из полупроводников с разнойшириной запрещённой зоны, но с одинаковой работой выхода(А=Евакуума-Еферрми). а – зонная диаграмма двух различных полупроводниковых материалов (GaAs и Ga1-XAlXAs). ЕС – дно зоны проводимости, EV – потолок валентной зоны, Eg – ширина запрещенной зоны. Индексы 1 и 2 относятся к GaAs и Ga1-XAlXAs соответственно. Все энергии отсчитываются от уровня энергии электрона в вакууме; б – профиль дна зоны проводимости Ес гетероперехода. ΔЕС – разрыв зоны проводимости, Ео и Е1 –уровни размерного квантования. «Двумерные» электроны в гетеропереходе заштрихованы. Светлые кружки – ионизованные, темные – неионизированные примеси.
Электрическое поле, создаваемое электронами в арсениде галия и ионизованными примесями в твердом растворе арсенида галия с алюминием, показанные на рисунке светлыми кружочками, приводит к изгибу зон, и в возникающей квантовой яме образуются несколько уровней энергии.
Характерный размер потенциальной ямы в GaAs в направлении перпендикулярном гетерогранице, порядка или меньше длины волны де Бройля для электронов в данном полупроводнике, поэтому движение электронов в этом направлении квантовано. При этом электроны свободно двигаются вдоль границы раздела материалов, т.е. ведут себя как двумерные. Ширина запрещенной зоны Eg в GaAs составляет 1,52 эВ. При добавлении Al Eg растет. При концентрации алюминия х = 0,3 разность ширин запрещенных зон достигает 0,4 эВ. На границе возникает скачок потенциала, 60% которого приходится на зону проводимости и 40% на валентную зону.