- •1. Элементарная ячейка
- •2. Основные типы кристаллических решеток
- •3. Кристаллографические плоскости и направления
- •4. Индексы Миллера
- •5. Решетка Бравэ
- •6. Кристаллические системы (сингонии)
- •7. Точечные дефекты. Равновесная концентрация вакансий
- •8. Краевые и винтовые дислокации
- •9. Зависимость плотности дислокаций от степени деформации
- •10. Вектор Бюргерса
- •11. Источники Франка-Рида
- •12. Границы зерен (наклона, кручения, специальные)
- •13. Методы определения разориентировок
- •14. Особенности спектра разориентирок в умз материалах
- •15. Объемные дефекты
- •16. Природа рентгеновских лучей (открытие рентгеновских лучей, возможности рса)
- •17. Формула Вульфа-Брэгга
- •18. Свойства рентгеновского излучения (длина волны и энергия рентгеновского излучения)
- •19. Спектр рентгеновского излучения
- •20. Закон Мозли
- •21. Получение рентгеновского излучения (рентгеновские трубки)
- •22. Метод Лауэ
- •23. Метод вращающегося кристалла
- •24. Метод Дебая-Шерера
- •25. Различия в рентгенограммах нанокристаллического и крупнозернистого образцов
- •26. Анализ уширения рентгеновских пиков
- •27. Различие в размере кристаллитов определяемом методами рса и пэм
- •28. Типичные значения окр, микроискажений кристаллической решетки и плотности дислокаций в никеле подвергнутом ипдк и ркуп
- •29. Взаимодействие электронов с веществом
- •30. Длина волны электронов для ускоряющих напряжений 100кВ, 200кВ
- •31. Устройство электромагнитной линзы, количество линз в современных пэм.
- •32. Функции линз в просвечивающем электронном микроскопе.
- •33. Закон Ричардсона
- •34. Устройство электронной пушки (из 33 взять начало)
- •35. Типы катодов применяемых в электронных микроскопах
- •36. Сферическая аберрация
- •37. Хроматическая аберрация
- •38. Астигматизм
- •39. Критерий Рэлея
- •40. Разрешающая способность электронного микроскопа
- •41. Виды изображений в электронном микроскопе
- •42. Толщинные контура экстинкции. Определение толщины фольги.
- •43. Изгибные контура экстинкции
- •44. Муаровы узоры
- •45. Кикучи-линии
- •46. Контраст на изображении дислокаций
- •47. Определение межплоскостных расстояний по электронограмме
- •48. Какую информацию можно извлечь из анализа дифракционных картин
46. Контраст на изображении дислокаций
Присутствие дислокаций вызывает появление внутренних упругих напряжений в кристалле вследствие смещения атомов из равновесного положения. Соответственно, амплитуда электронной волны проходящей через дислокацию в общем случае будет зависеть от величины от направления вектора смещения R, а также от вида дислокации (винтовой, краевой, смешанной). Для винтовой дислокации с вектором Бюргерса b выражение для вектора смещения R имеет следующий вид:
b z - y
R = ----- arctg (-------)
2p x
где физический смысл величин x, y, z разъясняется на рисунке слева: x – расстояние между дислокацией и колонкой CD, через которую проходит электронная волна; y – расстояние от линии дислокации до верхней поверхности фольги, z - расстояние, которое проходит электронная волна вдоль колонки.
47. Определение межплоскостных расстояний по электронограмме
Связь между межплоскостным расстоянием dhkl и расстоянием от точечного рефлекса hkl до центрального рефлекса можно вывести, используя схему представленную слева на рисунке. Из треугольника OO¢P следует:
tg2q = R/L (1)
где R – расстояние от точечного рефлекса до центрального рефлекса на электронограмме; L – дифракционная длина прибора (расстояние между образцом и фотопластинкой); 2q - угол между направлением первичного пучка электронов и дифрагированной электронной волной.
С другой стороны, в соответствии с уравнением Вульфа-Брэгга (при n=1):
l = 2dsinq (2)
При этом вследствие малой длины волны электронов (l = 0,0037 нм для ускоряющего напряжения 100 кВ) угол q имеет значения менее 2о. Поэтому в первом приближении можно считать, что
tg2q » 2q, а также sinq » q. Следовательно, из выражений (1) и (2) вытекает, что R/L=l/d, или:
Rd = lL (3)
48. Какую информацию можно извлечь из анализа дифракционных картин
Типичной особенностью дифракционных картин является:
большое количество точечных рефлексов
различие в их расположении и интенсивности
В общем случае анализ дифракционной картины позволяет ответить на следующие вопросы:
является ли структура образца аморфной или кристаллической?
является ли структура крупнозернистой или ультрамелкозернистой?
присутствуют ли в образце частицы выделений?
- каковы межплоскостные расстояния в кристалле?
какова симметрия кристаллической решетки?
какова ориентация зерна относительно направления электронного пучка?
В общем случае количество точечных рефлексов появляющихся на электронограмме зависит от количества зерен охваченных селективной диафрагмой, то есть от размера участка вырезанного селективной диафрагмой на светлопольном изображении структуры.
На электронограмму, полученную с аморфно-кристаллической части (б), накладываются дополнительные точечные рефлексы размытые по окружности вдоль колец имеющих больший диаметр по сравнению с аморфным гало.