Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Металлы и сплавы. Анализ и исследование. Физико-аналитические методы исследования металлов и сплавов. Неметаллические включения

.pdf
Скачиваний:
10
Добавлен:
19.11.2023
Размер:
45.19 Mб
Скачать

Таблица 3.3.5

Формулы для определения межплоскостных расстояний и углов между плоскостями

Межплоскостные расстояния <4*/

Орторомбическая система (а ф Ь ф с):

r h 2

k 2

l2

Л 7

dhkl —

 

2

 

i 2

2

 

 

—7 “I—

r H— 7

 

у А

 

и

С

j

Тетрагональная система (а = ЬФ с):

^ Ч * 2

/2V^

dhki

' +7

 

 

 

Кубическая система (а = Ь = с)

 

 

1

dhki ~

 

2

J

 

я2

 

Гексагональная система:

r 4_h2 + hk + k 2

12 \ ~ 2

dm - 3

а 2

' + с2

Для плоскостей (hkO), параллельных оси с:

a^j3

di,ki ~

2 yjh2 + hk + k 2

Углы (р между плоскостями h\k\l\ и /г2А2/2

 

 

КК |

*1*2

|

hh

 

 

coscp = -

 

2 '

;2

'

2

 

 

 

Q

О

 

С

1

 

 

 

/ L2

 

 

 

к]

/? V

*2

2 ^

 

 

/2

 

а2

й2

с2

ТТ+^ Н т

 

а

 

о

с

 

 

^1^2 +кхк2

 

/}/2

 

 

coscp = -

 

а2

1

 

с2

 

 

 

 

 

 

2 Л7

 

( U2

2 Л7/ |2

 

 

 

К ± К Л

 

 

Л I

Л

 

V

- 2

^

 

 

 

 

 

COS =-

h fa + к хк2 + / j / 2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(к,2+к2+/2) ( ^ + к 2+/2)2

 

 

-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/

2\

 

№ + кА+^(Ь1к2+/Ьк,) + ^

COS(p =

 

 

 

 

 

J

 

 

 

 

 

 

 

За2 , 2 V

+ к 2 + hlkl + - - p - l 2 Aj +£2 +A^2+ - — /2

4 с

Расчетные методы применяют, когда на микродифрактограмме мало рефлексов и геометрия их расположения не очень ясна. Индицирование микродифракционных картин может быть выполнено с помощью других методик, которые рассматри­ ваются в специальной литературе. Проведение из­ мерительных и вычислительных операций целесо­ образно осуществлять с помощью компаратора и программируемого вычислительного устройства.

Приведенные способы индицирования допус­ кают замену всех индексов hkl на обратные. Эта замена равносильна повороту кристалла на 180° вокруг направления первичного пучка и изменяет его ориентировку, если указанное направление не является осью симметрии второго порядка. Суще­ ствует способ, позволяющий исключить эту не­ определенность. Он применим, если на микродифрактограмме есть рефлексы от двух или более нулевых зон, что бывает при наклоне фольги на

небольшой угол. Выбор знака основан на том, что векторно-скалярное произведение должно быть положительным. Это следует из того, что угол между выбранным вектором и осью зоны, опреде­ ляемой из векторного произведения двух других векторов, должен быть острым:

g, ( & • & ) = g 2(g3-g,) = g3(gi ■&) > 0 •

Для уточнения знака необходимо выполнить следующие операции:

проиндицировать микродифрактограмму (электронограмму);

выбрать три сильных рефлекса, из которых, по крайней мере, один принадлежит не к той зоне,

ккоторой относятся два других;

найти векторно-скалярное произведение. Если оно положительное, индексы оставить с

стереографических проекций, которые отвечают данному ориентационному соотношению, или матриц размерного и структурного соответствия, вычисленных для различных конкретных вариан­ тов, находят искомое соотношение.

Если же ориентационное соотношение между фазами неизвестно, то устанавливают точную вза­ имную ориентировку трех-четырех пар кристаллов исследуемых фаз. Эти ориентировки наносят на стереографическую проекцию и отыскивают одно­ типные взаимно параллельные плоскости и на­ правления решеток обеих фаз по возможности с малыми индексами. Если такие плоскости и на­ правления найти не удастся, то ориентационной связи между решетками фаз нет.

Описанная процедура нахождения ориентиров­ ки кристалла универсальна. Она пригодна для ра­ боты с объектами разных кристаллографических сингоний. Однако этот широко распространенный метод определения ориентировки и разориентировки имеет существенные недостатки.

Во-первых, из-за малой толщины фольги узлы обратной решетки сильно растянуты в направле­ нии, параллельном падающему пучку. Поэтому на картине рефлексов получается одно и то же сече­ ние дифракционной решетки в интервале углов

± 5° от точной (симметричной) ориентации. Отсю­ да следует, что для более точного определения ориентировки фольги этим методом необходимо либо путем наклона объекта использовать сим­ метричную ориентировку, когда интенсивность всех рефлексов, ближайших к следу первичного пучка, одинакова, либо измерять относительную интенсивность рефлексов, присутствующих на электронограмме.

Во-вторых, индексы плоскости обратной ре­ шетки, получаемой на микродифракционной кар­ тине, соответствуют индексам плоскости фольги только при строго горизонтальном ее расположе­ нии. При наклонном положении объекта относи­ тельно первичного пучка или при наличии некон­ тролируемых изгибов фольги в объектодержателе индексы плоскости дифракционной решетки отве­ чают индексам проекции плоскости фольги на плоскость экрана прибора. Поэтому использовать результаты определения ориентировки фольги, особенно для проведения кристаллографического

анализа следов (плоскостей скольжения,

фаз и

т. д.), расположенных на поверхностях

фольги,

надо очень осторожно, перепроверяя результаты при разных наклонах гониометра.

Известны другие практические приемы, позво­ ляющие с помощью картин микродифракции определить разориентировки в структурах метал­ лов и сплавов. Например, можно определить не­ большие углы разориентации между соседними кристаллами. Для этого вначале на картине мик­ родифракции выбирается какой-либо сильный рефлекс как правило, с малыми индексами. В этом рефлексе наблюдается темнопольная кар­ тина участка вблизи исследуемой субграницы. Если два или более соседних кристаллов разориентированы между собой на углы в несколько градусов, то система расположения рефлексов одинакова. Далее с помощью гониометра добиваются того, чтобы в одном из зерен участок вблизи субграни­ цы находился точно в отражающем положении. При этом на изображении изгибный (экстинкционный) контур, соответствующий выбранному рефлексу, должен находиться на этой субгранице. Затем с помощью гониометра измеряют угол, на который необходимо наклонить объект так, чтобы экстинкционный контур «перескочил» с одной стороны субграницы на другую. Такой прием воз­ можен, если рефлекс не находится на проекции оси наклона фольги на плоскость экрана. Подоб­ ная операция повторяется для другого, независи­ мого рефлекса (Лг^г^г). Азимутальный разворот между данными субзернами определяется из микродифрактограммы путем измерения угла между дифракционными векторами в двух субзернах. Таким образом, находятся три угла, которые однозначно определяют пространственный угловой разворот одного субзерна относительно другого. Ошибка в определении угла разориентировки этим методом не превышает нескольких угловых минут.

В случае, когда изучаются взаимные разориен­ тации зерен, методика определения углов услож­ няется. Это вызвано не только величиной углов, которая может оказаться достаточно большой, но и различиями дифракционных картин зерен. Так, после однозначного и по возможности точного установления ориентировок полученные направ­ ления помещают в центр одной и той же стерео­ графической проекции. С ее помощью находят полюсы осевых направлений решеток и вектор разориентировки, определяющий ось наклона и величину угла, на который необходимо повернуть

решетку одного зерна до совмещения ее с решет­

кой второго зерна.

Если исследуемый объект является многофаз­ ным, то каждая из фаз дает на микроэлектронограмме свою дифракционную картину. Расшифро­ вывая эти дифракционные картины, можно уста­ новить взаимные ориентационные соотношения между фазами, имеющимися в данном материале. Для этого производится индицирование микродифрактограмм с помощью методики темного поля. Селекторная диафрагма ставится последовательно на каждый рефлекс, и по микроизображениям уста­ навливается принадлежность рефлексов к той или иной фазе. После этого находят индексы плоскостей обратной решетки для каждой из фаз. В реальной решетке каждой из фаз направления, имеющие те же индексы, что и найденные из электронограммы индексы соответствующих плоскостей обратных решеток, будут параллельны друг другу. Взаимно параллельные плоскости для каждой фазы также находятся из микроэлектронограммы: они соот­ ветствуют совпадающим по направлению векто­ рам обратной решетки. Для приведения получен­ ных ориентационных соотношений к стандартным (т. е. для приведения к плоскостям и направлениям с малыми индексами) необходимо использовать стереографическую проекцию.

В случае обнаружения фаз с некубической симметрией необходимо исследовать не одну, а две или три ориентировки образца. Точность определения ориентационных соотношений такая же, как и точность определения ориентировки фольги по симметрии плоскости обратной решет­ ки, получаемой из микроэлектронограммы. Она не превышает 3°

Одним из эффективных способов установления ориентационных соотношений в структурах, со­ держащих дисперсные выделения, является метод «одиночных» рефлексов. Он основан на анализе серии единичных рефлексов и этим принципиаль­ но отличается от других известных методов. Про­ цедура сбора первичных данных заключается в следующем. Вначале, ограничив селекторной диафрагмой изучаемую область фольги и меняя дифракционные условия, обнаруживают хотя бы один рефлекс, сформированный в результате ди­ фракции в частице. В положении сильного брэг­ говского отражения производится съемка микродифрактограммы и фиксируются показания гонио­

метра: угол ф наклона фольги и угол а, который характеризует положение оси наклона. Эти опера­ ции необходимо повторить для возможно больше­ го (и > 3) числа одиночных рефлексов. Критерием принадлежности рефлекса условию дифракции от назначенного выделения является наибольшая яр­ кость темнопольного изображения. Конечным ре­ зультатом эксперимента является п микроэлектронограмм, соответствующих условию дифракции п различных узлов обратной решетки частицы, и п пар угловых характеристик (ф, а)„ описывающих пространственную ориентацию образца в момент /-й съемки (/= 1, 2,... ,п). По этим первичным данным производится расчет мсжплоскостных уг­ лов и расстояний, а также определяется наиболее вероятная кристаллографическая структура фазы. Задача имеет аналитическое решение, для которо­ го разработаны программы ЭВМ, позволяющие быстро и с заданной точностью найти ориентаци­ онные соотношения между фазами.

Частным случаем определения ориентацион­ ных соотношений фаз является анализ структур с двойниками. Они возникают в металлах и сплавах при пластической деформации, отжиге и других технологических операциях. Двойники имеют вид прослоек. Так, в результате однородных согласо­ ванных сдвигов в части объема кристалла образу­ ется двойник, который имеет такую же кристалли­ ческую структуру, как и остальная его часть (матрица), но отличается от нее лишь кристалло­ графической ориентацией (рис. 3.3.30). При двой­ никовом превращении сохраняются симметрия, размеры и форма элементарной ячейки. При этом плоскость двойникования не является плоскостью симметрии кристаллической решетки. Существен­ ная особенность этих структур заключается в том, что решетки двойника и матрицы имеют не только определенное взаимное ориентационное соотно­ шение, но и связаны друг с другом кристаллогра­ фически. Например, плоскость двойникования (A’I) связывает матрицу с двойником. В процессе сдви­ га происходит согласованное кооперативное пере­ мещение атомов в смежных плоскостях в направ­ лении двойникования (т]|) на долю межатомного расстояния. В результате атомная плоскость (Кг) с принадлежащим ей вектором (г)г) переходит без искажения в новое положение. В табл. 3.3.6 при­ ведены характеристики двойникования для рас­ пространенных структур металлов и сплавов.

а— в кубической гранецентрированной структуре; б— в объемно центрированной структуре. Показаны следующие положения атомов: / — перед превращением; 2 — после сдвига;

3— совпадающие положения атомов до и после двойникования. Другие условные обозначения приведены в тексте

сы у таких рефлексов будут дробными. Кроме возникновения «лишних» рефлексов, которые мо­ гут ввести в заблуждение, на картинах микроди­ фракции от многофазных структур возможно про­ явление динамических эффектов. Одним из дина­ мических эффектов, которые обнаруживаются на микродифракционных изображениях совершен­ ных кристаллов большой толщины, являются пары из параллельных черных и белых линий. Их назы­ вают линиями Кикучи (рис. 3.3.33).

Рис. 3.3.32. Связь индексов оси двойникования [pqr]

срадиусами-векторами отражений от матрицы [hkf\

иот двойника [h'k'l']

Втабл. 3.3.7 приведены схемы электронограмм от двойниковых кубических кристаллов. На схе­ мах точками обозначены рефлексы матричного кристалла, светлыми кружками — рефлексы двойника, крестиками — дополнительные (экст­ ра) рефлексы, вызванные двойной дифракцией, линиями — направления следов плоскостей двой­ никования на горизонтально расположенной фоль­ ге. На следах также указаны индексы плоскостей двойникования.

Если на микродифрактограмме появление экст­ ра-рефлексов вызвано двойникованием, то индек­

Рис. 3.3.33. Схема возникновения линий Кикучи: А — кристалл; В — отражающие плоскости (hkl):

cti и а2 — углы направлений, под которыми рассеянные лучи встречают плоскости {hid); 0 — угол дифракции; знаки «+»

и«-» обозначают «избыточные» (+Д/) и +Д/2)

и«недостаточные» (—Д/, и -Д/г) интенсивности фона вследствие нсупругого рассеяния электронов при углах сч

иа2 с последующей дифракцией в плоскостях {hkl)

вобъеме толстого кристалла; сч > а2, I\ < h- Дh < Д/г

Продолжение табл. 3.3.7

Схема расположения рефлексов

Ось зоны

Плоскость

Направление

Ось зоны

матрицы

двойникования

следа двойников

двойников

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Двойникованные ОЦК кристаллы

 

 

\(211), (т),

(ni)

 

 

 

 

 

 

 

«V

332

 

330

 

 

332

JJ4

 

 

 

О

Г*Т О

 

 

 

яг х А

 

 

 

 

^ х

220

у

 

 

 

 

 

 

v

 

О

 

 

X

[ПО]

(211)

[222]

[ 101]

т

о

 

 

по

х

<•>

О

 

 

112 О

114

 

 

 

 

 

 

X

 

 

X

 

(112)

[222]

[ПО]

т

у

002

х

озоо

 

002 х

 

( 121)

[222]

[Oil]

О

X

 

$ X

 

 

О

 

 

 

 

т у Ф112 О ж \ " 112 х т

 

 

 

х

 

X

 

о

 

 

X

 

 

 

 

ф22Ь О

222

х

220

хК

>220

224

 

 

 

X

 

О

 

X

 

 

X

 

 

 

 

334

 

332

 

Ф

 

 

332 V 334

 

 

 

 

 

330

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(112/

11121

 

 

 

(211) ®

[ 110]

(112)

[ПО]

[114]

 

(Т Т 2)

[ПО]

[П4]

 

(121)

[ПЗ]

[4П]

 

(121)

[113]

[4П]

 

(211)

[ПЗ]

[Ш ]

 

(2П)

[113]

(Половина микродифракциониой картины)

[ 120]

(112)

[421]

[012]

 

(121)

[214]

201

 

 

[ ]

 

(2 Т Т )

[2Т5]

[120]

Схема расположения рефлексов

Ось зоны

Плоскость

Направление

Ось зоны

матрицы

двойникования

следа двойников

двойников

 

Двойникованные ОЦК кристаллы

[120]

(112)

[421]

[012]

 

( 211)

[215]

20]

 

(121)

[214]

[201]

[ 120]

(211)

[213]

[524]

 

012)

[423]

[452]

 

(12Т)

[210]

[245]

 

(121)

[210]

[245]

 

(112)

[423]

[452]

 

(211)

[213]

[524]

on )

cizi)u(w)

ah )

an)

[113]

(112)

[512]

[131]

 

(121)

[741]

[ТТз]

 

(211)

[251]

[3iT]

[113]

(T21)

[543]

[755]

 

( 2 l l )

[453]

[575]

 

(112)

[П0]

[557]

 

(112)

[ П О ]

[77T]

 

(211)

[273]

[7Г7]

 

(121)

[723]

[Г77]

Продолжение табл. 3.3.7

 

 

Ось зоны

Плоскость

Направление

Ось зоны

Схема расположения рефлексов

двойникования

следа двойников

двойников

 

 

матрицы

 

 

Двойнишэванные ОЦК*кристаллы

 

 

0 6 2 \^1 5 2

И г Я ? л <22 512

602^712

 

 

 

- ® —

* ----- *----- ® — * ------

1-------

 

 

 

 

 

[113]

(121)

[521]

[131]

 

 

 

(21Т)

[47Т]

[ТТЗ]

 

 

 

012)

[152]

[ЗП]

[ 111]

(

121

[ 101]

[111]

 

)

 

( 112)

[ПО]

[IT T ]

 

( 211)

[Oil]

[IT T ]

[ 111]

(

121

[123]

[511]

 

)

 

(2fl)

[2l3]

[15f]

 

(112)

[TlO]

[115]

[ 111]

(211)

[Oil]

[511]

 

(ll2)

[312]

[T51]

 

(12T)

[321]

[Tl5]