Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Мотт, Н. Электронные процессы в некристаллических веществах

.pdf
Скачиваний:
99
Добавлен:
22.10.2023
Размер:
18.34 Mб
Скачать

270

Глава 7

исследовал оптическое поглощение в германии. В модели Филлипса рассматривается энергетическая щель, связанная с тетраэдрическим окружением, причем считается, что в аморфной фазе она имеет такой же вид, как и в кристаллической. Предполагается,

2

Энергия

фотона,

эЬ

Ф и г . 7.37. Оптическое поглощение аморфного

селена, изученное с помо­

щью синхротронного

излучения [79].

Сплошная кривая — результат эксперимента;

штрихпунктирная— расчетные данные.

что отсутствие дальнего порядка приводит к изотропности энерге­ тического спектра Е (к). Щель шириной порядка 2,5 эВ располо­ жена на краю сферической зоны. По существу это модель Пенна [406] (см. также [42]), в которой поглощение имеет вид, показан­ ный на фиг. 7.36, б. Филлипс вводит лоренцево уширение и пока­ зывает, что путем соответствующего интегрирования можно полу­ чить спектр аморфного германия, близкий к экспериментальному.

В работе Кардоны и др. [79] был получен спектр поглощения селена при очень высоких энергиях (50—70 эВ), связанный с воз­ буждением электронов из узкой, глубоко лежащей полосы d-уров- ней в зону проводимости (фиг. 7.37). В пределах эксперименталь­ ных ошибок спектры поглощения кристаллической и аморфной фаз совпадают. Был проделан теоретический расчет спектра поглощения, в котором использовалась плотность состояний, вычисленная для кристалла. Полученные результаты хорошо

Некристаллические полупроводники

271

согласуются с экспериментальной кривой поглощения. Отсюда следует (по крайней мере, для селена), что полная ширина зоны проводимости почти не изменяется при переходе из кристалли­ ческого состояния в аморфное.

7.6.4. М О Д У Л Я Ц И О Н Н Ы Е ЭКСПЕРИМЕНТЫ

Чувствительность и разрешение оптических методов значитель­ но возрастают при использовании модуляционной техники. Этими методами были исследованы некоторые аморфные полупроводники [291, 413, 535]. В модуляционной технике осуществляется периоди­ ческое возмущение какого-либо внешнего параметра (электриче­ ского поля, температу­ ры, деформации) и при этом наблюдается из­ менение оптических свойств на той же час­ тоте (или в некоторых случаях на удвоенной).

Метод электроотраже­ ния для кристалличес­ ких полупроводников позволяет наблюдать тонкую структуру, ко­ торая не может быть разрешена статически­ ми методами. Полный обзор этой экспери­ ментальной техники имеется в книге Кардоны [78].

Результаты, полу­ ченные для аморфных Ge, A s 2 S 3 и Se, описа­ ны в гл. 8—10.

7.6.5. В Н У Т Р И З О Н Н О Е ПОГЛОЩЕНИЕ

На фиг. 7.38 пред­ ставлена кривая погло­ щения вблизи фунда­ ментального края амор­ фного As2 Se3, измерен­ ная в работе Эдмонда [148]. В твердом стекло-

w - w

 

 

 

Волновое

число

к,

см'

 

Ф л г.

7.38. Температурная зависимость оп ­

тического поглощения в жидком

и

стеклооб­

 

 

разном

A s 2 S e 3 .

 

 

 

 

Кривые 1—3 соответствуют тонким

пленкам

с т е к ­

лообразного полупроводника

при

различных

темпе­

1

при

 

ратурах

[148Г.

при 80 °С. При.

—196 9 С ; г — при

24 °С; 3

более высоких температурах

стекло

становится

ж и д ­

ким;

4 — при 288 "С;

5 — при 349 "С; 6

при 386 °С;.

7

при

438 °С;

8

при

478 °С;

9 — при

524 "С:.

 

10 — при

554 "С; 11 — при

597 "С.

 

 

272

 

Глава

7

 

 

 

 

образном состоянии

(кривые 1—3)

коэффициент поглощения

под­

чиняется спектральному правилу Урбаха (см. 7.6.1), и при

повы­

шении температуры зависимость логарифма коэффициента

погло­

щения от волнового числа испытывает

параллельный

сдвиг.

Ко­

эффициент поглощения при

значении

порядка Ю - 1

с м - 1

 

опре­

деляется, по-видимому, остаточными иеоднородиостями, и

его

ВОО'С

500 X

400

300"С

 

 

 

(1) и зависимость электропроводности

от обратной температуры для жидкого

A s 2 S e 3 (2) (Эдмонд,

частное сообщение).

значение зависит от способа приготовления образца. В жидком состоянии (кривые 4—11) сильное поглощение возникает при го­ раздо меньшей энергии фотона и с повышением температуры про­ исходит расширение и сдвиг области края фундаментального поглощения в соответствии с правилом Урбаха. Было, однако, найдено, что при заданной энергии фотона (0,5 эВ, что соответ­ ствует 4000 с м - 1 ) величина а пропорциональна электропровод­ ности на постоянном токе по крайней мере при температурах выше 450 °С (фиг. 7.39). Таким образом, весьма вероятно,что в этих условиях наблюдается поглощение на свободных носителях.

Поглощение на свободных носителях в кристаллических полу­ проводниках обычно наблюдается тогда, когда значение энергии меньше края фундаментального поглощения. При заданной тем­ пературе оно возрастает с уменьшением энергии фотона, так что

Некристаллические полупроводники

273

а ~ л.2; в справедливости этого утверждения легко убедиться, исходя из формулы Друде для электропроводности на перемен­ ном токе

 

i

\

°~ (0)

/ \

=

,

ч

 

°"

(<*>)

=

л I

9 9 1

а (со)

 

о (со) .

 

При использовании этой формулы в задаче

о

поглощении

света

на свободных носителях в полупроводниках

предполагается, что

существует время

релаксации

носителей по

импульсу т.

Как

было указано в 7.4.4, формула Друде несправедлива для тех аморфных полупроводников, в которых значения х очень малы.

Мы предполагаем, что рост коэффициента поглощения с увели­ чением энергии фотона, показанный на фиг. 7.38, происходит благодаря увеличению плотности конечных состояний. Для расче­ та коэффициента поглощения будем следовать ходу рассуждений, приведенных в 2.13, и используем обозначения фиг. 7.4, а, тогда

оо

а

( ( о ) = 2 £ Е ^ £

j N

{ Е

_

щ

N

(E)[f(E-

 

 

Лео) -

/

( £

) ]

- g - .

 

 

ЕА

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Поскольку / (£) =

ехр [ -

EF)lkT]

 

и

N (Е)

 

=

N

с)

(Е —

— ЕА)/АЕ,

то максимальное

значение функции / (Е)

N (Е)

дости­

гается

при

Е = ЕА

+

кТ.

Таким

образом,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ЕА

 

 

 

 

 

 

 

 

Эта формула при Тмл ^>кТ

принимает вид

 

 

 

 

 

 

 

„ ^ -

)

\ х

р

[

_

<

Ы

]

в х

р (

-

)

,

 

(7.38)

где в

соответствии

с

(2.29)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

a o =

^

l

[ N

{

E c )

]

2 .

 

 

 

 

 

( 7.39)

Из выражения (7.38) следует, что коэффициент поглощения про­ порционален электропроводности на постоянном токе и экспонен­ циально возрастает с увеличением энергии фотона. Предположе­ ния, сделанные при выводе этой формулы, заключаются в том, что плотность состояний является линейной функцией энергии и что матричный элемент перехода из локализованного состояния на дпе зоны в распространенные состояния, расположенные в зоне при больших энергиях, не зависит от энергии, а его значение определяется по формуле из 7.6.2. Близкое выражение для а было получено в работе Хиндли [245]. Отметим, что формула (7.38) дает

неправильное

значение

наклона

зависимости, показанной на

фиг. 7.38, и

требуется

дальнейшее

уточнение этого вопроса.

18— 01142

274

Глава 7

Аналогичные свойства наблюдались у твердых стекол состава As 2 (Se, Те)зх ). Во всех случаях проводимость на частоте порядка 7-101 4 с - 1 оказалась примерно в 20 раз больше, чем электропровод­ ность на постоянном токе. В работе Бишопа и др. [54] были полу­ чены сходные результаты на системе Tl2 SeAs2 Te3.

7.6.6. ФОНОННОЕ ПОГЛОЩЕНИЕ

Обобщение результатов, касающихся влияния неупорядоченно­ сти вещества на его колебательный спектр, оказывается затруд­ нительным, поскольку чпсло исследований оптических свойств

Волновое число, см'

600 ш

зоо

гоо

500 Ь

25

33

W

50

ЮО ZOO 1000

 

 

Длина

волны,

мим

Ф н г. 7.40. Колебательные

спектры аморфного

(а) и кристаллического (б)

A s 2 S e 3 при

различных

температурах [31].

1 при 290 к; г прп

90 К ; з

при ю к.

аморфных полупроводников в инфракрасной области спектра неве­ лико. Экспериментальные результаты будут приведены в других главах, здесь же мы отметим следующие особенности.

а) В веществах, построенных из молекул, не происходит суще­ ственных качественных изменений спектра поглощения, когда материал переходит из кристаллического состояния в аморфное. В аморфном селене спектр поглощения почти во всех деталях совпадает со спектром моноклинного селена, поскольку он связан с колебательными модами молекул Se8 (гл. 10).

х) Edmond, частное сообщение.

 

 

Некристаллические

полупроводники

275

б) В As2 Se3 и аналогичных хапькогеиидных сплавах при пере­

ходе

в

аморфное состояние сохраняются основные

особенности

колебательного спектра, но исчезает тонкая структура

(фиг. 7.40)

(из

работы [31]).

 

 

 

 

в) В CdGeAs2 , а также в других материалах с преимущест­

венно ковалентиой связью, в аморфной фазе

отсутствуют колеба­

тельные

полосы, характерные для

кристалла

(см. фиг. 8.41). Это

обусловлено уширением вследствие статистического разброса частот осцилляторов.

Исследование рамановских спектров селена также показывает, что молекулярные колебания сохраняются неизменными при пере­ ходе в неупорядоченное состояние. У германия и кремния тоже наблюдается значительное сходство рамановских спектров кри­ сталлической и аморфной фаз 1 ) .

Спектры поглощения аморфного S i 0 2 и аналогичных ему сте­ кол в далекой инфракрасной области изучались в работах Стоулена [477], Уонга и Волли [546], Белла и др. [49]. Белл и Дин [50] рассчитали колебательные спектры ряда неупорядоченных струк­ тур н показали, важную роль локальных колебаний (например, для ЭЮг).

7.7.ДРУГИЕ РЕЗУЛЬТАТЫ ИЗМЕРЕНИЙ

7.7.1.ФОТОЭМИССИЯ ИЗ АМОРФНЫХ ПОЛУПРОВОДНИКОВ

Фотоэмиссия является одной из наиболее ценных эксперимен­ тальных методик для изучения зонной структуры электронов полупроводника. Электроны эмиттируются в вакуум, совершив предварительно переход из валентной зоны в проводящее состоя­ ние. Экспериментальное исследование оказывается наиболее пол­ ным, когда измеряется энергетическое распределение эмиттированных электронов при различных энергиях фотона. К сожалению, такие эксперименты довольно сложны и для их интерпретации тре­ буется большое мастерство. К моменту написания этой книги с помощью такой методики был тщательно исследован только аморфный германий.

Если падающий пучок света монохроматичен (энергия фотона равна Tia), то энергетическое распределение эмиттировэнных электронов дается выражением

N {Е, ha) dE =

Т (Е) S (Е, ha) Ne (Е) Nv (Е -

ha)dE.

Здесь К (%а) — множитель, характеризующий спектральную чув­ ствительность аппаратуры, а (Йсо) коэффициент поглощения, Т (Е) — вероятность выхода электрона с энергией Е, S (Е, Йю) —

х) Smith, Brodsky, Crowder, Nathan, частное сообщение.

18*

276

Глава 7

доля электронов, сохраняющих энергию Е после различных про­ цессов рассеяния. Фотоэмиссия пропорциональна присоединен­ ной плотности состояний валентной зоны и зоны проводимости; при этом предполагается, что не существует ограничений, связан­ ных с законом сохранения квазиимпульса.

Метод фотоэмиссии имеет два важных преимущества перед другими методами. Первое заключается в том, что энергию элек­ трона, соответствующую максимуму произведения NcNv, можно связать с энергией, которая соответствует вершине валентной

NC(E)

Nv(E-nco)

NCNV

T(Ej

NCNV Г

Ф и г. 7.41. Схематическое изображение функций, описывающих экспери­ менты по фотоэмиссии.

зоны. В экспериментах по оптическому поглощению измеряются только разности энергий, тогда как в методе фотоэмиссии могут быть измерены абсолютные значения энергии. При этом требует­ ся знать электронное сродство, которое может быть измерено с помощью методики задерживающего потенциала. На практике, однако, максимальное значение задерживающего потенциала (для данной энергии кванта % со), которое соответствует верхней гра­ нице энергетического распределения электронов, непосредствен­ но связано с энергией электрона в вершине валентной зоны. Второе преимущество методики фотоэмиссии можно оценить, рас­ смотрев схемы плотностей состояний, изображенные на фиг. 7.41. Плотность состояний в валентной зоне (площадь под ней заштри­ хована) приподнята на энергию Йсо, что позволяет легко изобра­

зить произведение NQNV.

Эта величина умножается на функцию

Т ( Е ) , что позволяет

получить энергетический спектр эмиттиро-

Некристаллические полупроводники

277

ванных электронов, если считать,что S=const . При другом значе­ нии энергии фотона спектр электронов изменяется. Пики спектра электронов, положения которых не меняются при изменении энергии фотонов, связаны с положениями максимумов в плотности состояний в зоне проводимости. Те же пики, положение которых смещается с изменением энергии фотона, связаны с максимумами

1,0

0,8

V 0,6

О,*

о, г

-4

о

2

4

Ф п г. 7.42. Оптическая плотность состояний аморфного гермаипя, определен­ ная по фотоэмисспи (сплошная кривая взята из работы [135]).

П у н к т и р ом изображена расчетная кривая [239] .

плотности состояний в валентной зоне. Таким образом оказывает­ ся возможным в принципе определить функции Nc (Е) и Nv (Е) по отдельности. Обычно трудно получить существенную информацию относительно Nc (Е), поскольку состояния зоны проводимости, расположенные ниже вакуумного уровня полупроводника, ие могут наблюдаться с помощью такой методики. При нанесении на поверхность слоя цезия происходит изменение работы выхода, и, таким образом, появляется возможность расширения наблюдае­ мого участка зоны проводимости.

Оптическая плотность состояний аморфного германия, опреде­ ленная в работе Доиована и Спайсера [135] методом фотоэмиссии, приведена на фиг. 7.42. Эти результаты будут обсуждаться в гл. 8.

7.7.2. ЭЛЕКТРОННЫЙ ПАРАМАГНИТНЫЙ РЕЗОНАНС

Бродский и Тайтл [70] исследовали ЭПР на пленках аморфных германия, кремния и карбида кремния. Сравнивая значения g-фактора, ширину и форму линии ЭПР, полученные на аморфном

278 Глава 7

веществе и на свежесколотой поверхности монокристалла, эти авторы пришли к заключению, что сигнал ЭПР обусловлен нали­ чием разорванных связей. Их результаты приведены в табл. 7.6.

Высокая плотность спинов ( ~ 1 0 2 0 см - 3 )

является

истинно объем-

 

 

 

 

 

 

 

Таблица

7.6

 

Сравнение данных по ЭПР, получеипых на пленках аморфных

 

 

полупроводников и на кристаллических материалах

 

 

Плотности сппнов даются с точностью до множителя

порядка

2. Данные по

аморфным

пленкам взяты из работы [ 7 0 ] , данные для

кристаллов — из

р а б о т ы [ 5 3 1 ]

(см.

также

 

Аморфные пленки (77 К )

Кристаллические

Кристаллы,

облу ­

 

поверхности

 

ченные нейтронами

 

 

 

 

 

М а т е ­

 

плотность

 

 

 

 

 

 

риал

 

ширина

 

ширина

 

ширина

 

^-фактор

сппнов,

g-фактор

g-фактор

 

линии, Г с

с м - з

линии,

Г с

линии, Г с

S i

2,0055

4,7

2-102 °

2,0055

7 - 8

2,0055

1 6 - 2 0

± 0 , 0 0 0 5

 

 

± 0 , 0 0 2

 

 

 

 

 

 

 

1-1020

 

 

 

 

 

Ge

2,021

39

2,023

50

 

 

 

 

± 0 , 0 0 1

 

 

± 0 , 0 0 3

 

 

 

 

 

 

6

 

 

 

 

 

 

S i C

2,003

 

2,0027

5,5

 

 

 

 

± 0 , 0 0 1

 

 

± 0 , 0 0 2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ной плотностью. При отжиге аморфного кремния (см. 8.1.4) эту плотность можно уменьшить в 10—100 раз, когда температура приближается к температуре перехода в кристаллическое состо­ яние (~ 450 °С). Наблюдаемая ширина линии сравнительно неве­ лика; это позволяет предположить существование обменного ме­ ханизма сужения линии вследствие перемещения неспаренного электрона оборванной связи с одного атома на другой.

Аналогичные исследования халькогенидных

стекол г ) показа­

ли, что в них имеется значительно меньшая

плотность таких

центров.

 

7.7.3. М А Г Н И Т Н А Я ВОСПРИИМЧИВОСТЬ

В работе Червинка и др. [85] была измерена температурная зависимость магнитной восприимчивости стекол типа CdGex As2 (гл. 8). В отличие от кристаллов CdAs2 и CdGeAs2 , у которых диамагнитная восприимчивость не зависит от температуры, вос­ приимчивость стекол имеет слагаемое, зависящее от температуры и подчиняющееся закону Кюри. Полную магнитную восприимчи-

) Friizsche, частное сообщение.

IIекристаллические

полупроводники

279

востъ можно представить в виде

 

 

Х = Хо +

4 »

(7-40)

где

 

 

Здесь п — концентрация магнитных моментов и.,

р — плотность

вещества. Используя эту формулу, Червинка и др. получили, что концентрация парамагнитных центров в стекле CdGeAs2 состав­ ляет 102 0 с м - 3 . Аналогичные измерения Тауца и др. [498] иа стекле As 2 S 3 показали, что в этом материале концентрация свободных спинов равна 6-101 7 см~3 . Диамагнитная составляющая %0 стекол As2Sx была измерена Цимплом и др. [98].

7.8. НЕОМИЧЕСКИЙ РЕЖИМ ПРОВОДИМОСТИ В СИЛЬНЫХ П О Л Я Х

Как показали многие эксперименты, плотность тока в тонких пленках аморфных полупроводников, так же как и в большинстве кристаллических материалов, в сильном электрическом поле воз­ растает сверхлинейно. Мы не стремимся дать обзор эксперимен­ тальных работ; для этой цели можно порекомендовать Journal of Non-Crystalline Solids (Vol. 4), где помещены доклады конферен­ ции по этим вопросам, состоявшейся в Кембридже в 1969 г. Однако отметим возможные механизмы, приводящие к сверхлинейиости, и опишем некоторые эксперименты.

а) Эффект Френкеля — Пула. Если полупроводник —кристал­ лический или аморфный — содержит доноры, то, как было пока­

зано Френкелем [178]

вслед за более ранними работами

Пула

[422 , 423], электрическое поле F уменьшает энергию ионизации

центра на величину

где

 

 

Р = ^ -

(7-42)

Потенциальная энергия электрона показана на фиг. 7.43. При вы­ воде формулы (7.42) предполагалось, что возможностью туннелироваиия сквозь барьер можно пренебречь. Модель, приводящая к (7.42), является одномерной. Трехмерные задачи рассматрива­ лись Джоншером [262] и Хартке [230]. Однако при понижении температуры эффект туннелирования становится существенным; соответствующие формулы были выведены в работе Хилла [242], где они были применены для объяснения экспериментальных результатов, полученных различными авторами на пленках аморф­ ного SiO. Теория оказалась в хорошем согласии с экспериментом. Предполагалось, что электрон, освободившись из ямы, не захва­ тывается более никакой другой ловушкой в пленке.

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ