Новая процедура проектирования для определения перехода конусности для согласования импеданса между микрополосковой линией и компонентом siw

Аннотация Обычно физические размеры конического перехода, который реализует согласование импеданса между импедансом питающей линии, построенной по технологии микрополосковой линии, и импедансом компонента, построенного по технологии Substrate Integrated Waveguide (SIW), получаются с помощью процессов вычислительной оптимизации из-за сложности аналитической обработки. Эта исследовательская работа представляет новый эмпирический подход для определения всех физических размеров этого конкретного плоского перехода без использования какого-либо процесса вычислительной оптимизации. Четко определенная процедура проектирования основана на приближении в соответствии с электромагнитным моделированием и теорией электромагнетизма. Основная цель — облегчить интеграцию технологии SIW и планарных схем. Вся процедура проектирования учитывает центральную частоту для рекомендуемой полосы пропускания в режиме распространения TE10 и определение импеданса мощность-напряжение для SIW. На RT/duroid 5880 спроектированы две структуры для работы в диапазонах X и Ku, а частотные характеристики обеих структур сравниваются с помощью электромагнитного моделирования и экспериментальных результатов. Структура, работающая в X-диапазоне, продемонстрировала обратные потери лучше 10,0 дБ при 61,67% рассматриваемой полосы пропускания, а структура, работающая в Ku-диапазоне, продемонстрировала обратные потери лучше 10,0 дБ при 72,88% рассматриваемой полосы пропускания. и частотные характеристики обеих структур сравниваются с помощью электромагнитного моделирования и экспериментальных результатов. Структура, работающая в X-диапазоне, продемонстрировала обратные потери лучше 10,0 дБ при 61,67% рассматриваемой полосы пропускания, а структура, работающая в Ku-диапазоне, продемонстрировала обратные потери лучше 10,0 дБ при 72,88% рассматриваемой полосы пропускания. и частотные характеристики обеих структур сравниваются с помощью электромагнитного моделирования и экспериментальных результатов. Структура, работающая в X-диапазоне, продемонстрировала обратные потери лучше 10,0 дБ при 61,67% рассматриваемой полосы пропускания, а структура, работающая в Ku-диапазоне, продемонстрировала обратные потери лучше 10,0 дБ при 72,88% рассматриваемой полосы пропускания.

Новая процедура проектирования для определения перехода конусности для согласования импеданса между микрополосковой линией и компонентом siw

Обычно физические размеры конического перехода, который реализует согласование импеданса между импедансом линии питания, построенной по технологии микрополосковой линии, и импедансом компонента, построенного по технологии Substrate Integrated Waveguide (SIW), получаются с помощью процессов вычислительной оптимизации из-за сложности аналитическая обработка. Эта исследовательская работа представляет новый эмпирический подход для определения всех физических размеров этого конкретного плоского перехода без использования какого-либо процесса вычислительной оптимизации. Четко определенная процедура проектирования основана на приближении в соответствии с электромагнитным моделированием и теорией электромагнетизма. Основная цель — облегчить интеграцию технологии SIW и планарных схем. Вся процедура проектирования учитывает центральную частоту для рекомендуемой полосы пропускания в режиме распространения TE10 и определение импеданса мощность-напряжение для SIW. На RT/duroid 5880 спроектированы две структуры для работы в диапазонах X и Ku, а частотные характеристики обеих структур сравниваются с помощью электромагнитного моделирования и экспериментальных результатов. Структура, работающая в X-диапазоне, продемонстрировала обратные потери лучше 10,0 дБ при 61,67% рассматриваемой полосы пропускания, а структура, работающая в Ku-диапазоне, продемонстрировала обратные потери лучше 10,0 дБ при 72,88% рассматриваемой полосы пропускания. и частотные характеристики обеих структур сравниваются с помощью электромагнитного моделирования и экспериментальных результатов. Структура, работающая в X-диапазоне, продемонстрировала обратные потери лучше 10,0 дБ при 61,67% рассматриваемой полосы пропускания, а структура, работающая в Ku-диапазоне, продемонстрировала обратные потери лучше 10,0 дБ при 72,88% рассматриваемой полосы пропускания. и частотные характеристики обеих структур сравниваются с помощью электромагнитного моделирования и экспериментальных результатов. Структура, работающая в X-диапазоне, продемонстрировала обратные потери лучше 10,0 дБ при 61,67% рассматриваемой полосы пропускания, а структура, работающая в Ku-диапазоне, продемонстрировала обратные потери лучше 10,0 дБ при 72,88% рассматриваемой полосы пропускания.