- •1. Классификация методов исследования наноструктур и поверхности твердого тела
- •2. Общие сведения об электронной микроскопии
- •2.1. Дифракция отраженных быстрых электронов
- •3. Сканирующие электронные микроскопы
- •3.1. Увеличение и разрешающая способность
- •3.2. Изображение топографии образцов
- •4. Методы сканирующей зондовой микроскопии
- •4.1. Общие принципы сканирующей зондовой микроскопии
- •4.2. Принципы формирования сзм-изображения
- •4.3. Методы сканирующей зондовой микроскопии
- •5. Оптическая и колебательная спектроскопия
- •5.1. Оптическая спектроскопия
- •6. Рентгеноструктурный анализ
- •6.1. Возбуждение рентгеновского излучения
- •6.2. Рентгеновские спектры чистых элементов
- •6.3. Идентификация элементов
- •1 .Образец, 2 . Энергоанализатор, 3 . Детектор, 4 . Источник рентгеновского излучения, 5 . Регистрирующее устройство
- •7. Методы исследования химического состава поверхности
- •7.1. Электронная оже-спектроскопия
- •7.2. Вторичная ионная масс-спектроскопия
- •7.3. Ямр спектроскопия в полупроводниках
- •8. Измерительные системы и метрология
- •8.1. Средства измерения
- •8.2. Методы измерений. Виды контроля
- •8.3. Основные метрологические показатели средств измерения
5. Оптическая и колебательная спектроскопия
Оптическая и колебательная спектроскопия связана с электронными и фононными переходами между атомными и молекулярными уровнями. При этом возможно применение, как в растворах, так и в твердотельном вариантах для исследования нанокластеров, поверхности твердого тела и адсорбированных на ней атомов, молекул и кластеров. К оптической спектроскопии относятся электронная адсорбционная спектроскопия и спектроскопия отражения, спектроскопия кругового дихроизма и магнитного кругового дихроизма, а также спектроскопия с переносом заряда, когда излучение сопровождается переходом электрона с уровня одного атома на уровень другого атома. Колебательная и вращательная спектроскопия включает инфракрасную адсорбционную и отражательную спектроскопию, спектроскопию комбинационного рассеяния, а также спектроскопию характеристических потерь электронов.
Электронная спектроскопия применяется для длин волн = 2 100 -7 500 с энергиями в области 2-6 эВ, ультрафиолетовая область = 2000- 3 800 , волновые числа v = 1/А = 50 000 4-26 300 см-1, видимая область = 3 800 - 7 800 , v = 26 300 4- 12 800 см -1.
Инфракрасная спектроскопия (обычно используются волновые числа): ближняя область v = 12 800- 5 000 см -1, дальняя область v = 5 000- 100 см-1. Для удобства сравнения величин уместно напомнить соотношения:
1 см-1 = 2,858 кал/моль = 1,986 • 10-16 эрг/моль = 1,24 • 10-4 эВ/моль.
5.1. Оптическая спектроскопия
Происхождение оптических спектров легко понять из рассмотрения потенциальной энергии двухатомной молекулы на рис. 27.
При построении кривых потенциальной энергии Морзе принято, что за время электронных переходов (~ 10-15 с) не происходит изменения их положения в пространстве за счет колебаний или вращений (принцип Франка—Кондона). Поэтому все изображенные электронные переходы вертикальные. Каждое основное и возбужденное состояния включают также ряд колебательных уровней. Колебательный уровень vn описывается своей колебательной волновой функцией -Показаны для примера только четыре уровня.
Рисунок 27. Потенциальная энергия (потенциал Морзе) для основного и возбужденного состояний двухатомной молекулы; v0-3 и v'0-3 — колебательные уровни основного и возбужденного состояния молекулы. Штриховыми линиями показаны вероятностные колебательные функции . Стрелками показаны оптические переходы.
Квадрат волновой функции указывает вероятные межъядерные расстояния для отдельного колебательного состояния. Положение вращательных уровней более мелких, чем колебательные, не приводится.
На рис. 28 приведены три линии, соответствующие переходам на рис. 27.
Рисунок 28. Спектр, соответствующий электронно-колебательным переходам на рис. 27.
Три перехода, показанные стрелками, происходят с уровня vo на v'0, v'1,v'2 и обозначаются как переходы 0 —>0, 0 —>1, О --> 2 соответственно. Относительная интенсивность различных колебательных подполос зависит от колебательной волновой функции для различных состояний. В молекуле или кластере могут происходить множество переходов с основного состояния на различные возбужденные состояния, каждое из которых характеризуется своей потенциальной энергией, которая может не совпадать с потенциальной энергией основного состояния. Электронные переходы имеют обозначение в связи с классификацией молекулярных орбиталей, между которыми происходят переходы: это связывающие орбитали , ; не-связывающие орбитали , и разрыхляющие орбитали *, *.
Оптическая спектроскопия поглощения связана с регистрацией прохождения излучения через слой вещества так, что доля интенсивности света dl данной частоты dv, поглощенной слоем бесконечно малой толщины dl, прямо пропорциональна интенсивности падающего на этот слой излучения I, толщине слоя и концентрации поглощающего вещества (числу поглощающих молекул или кластеров в единице объема вещества, n0):
(2.40)
Интегрирование выражения (2.40) по длине слоя дает известный закон поглощения, называемый иногда законом Ламберта—Бера или Бугера—Ламберта—Бера:
(2.41)
где Io(v) и I(v) — интенсивность падающего и прошедшего излучения с частотой v.
Величина к(v) — коэффициент поглощения, зависящий от вещества, и определяется вероятностью электронно-колебательных переходов.
В спектроскопии часто используется запись закона Ламберта—Бера в форме
(2.42)
Если концентрация поглощающих молекул или кластеров выражена в единицах моль/л, а толщина слоя в см, то
(2.43)
где e(v) — коэффициент экстинкции (молярный коэффициент поглощения).
Величина D = lg(Io/I) называется оптической плотностью
(2.44)
которая удобна для многокомпонентного анализа.
Интегральная интенсивность спектра — А, или сила осциллятора, вводится как
(2.45)
Для оценки силы осциллятора однополосного спектра величина А ~ emax v1/2, где emах — коэффициент экстинкции в максимуме полосы, a v1/2, ее ширина на половине высоты. Таким образом, для идентификации спектров примеряются величины emax, v1/2, vmax и форма линии.
В случае спектров диффузного отражения появляются две компоненты — emах зеркальная, которая отражается от поверхности, и диффузная, которая поглощается твердым телом и появляется после многократного отражения. Обычно максимум полосы в спектре диффузного отражения совпадает с максимумом полосы поглощения. Спектроскопия многократного внутреннего отражения позволяет исследовать электронные уровни поверхности твердого тела.
При изучении поверхности, включающей комплексы металлов или кластеры с переходами между d-орбиталями, наблюдаются спектры в видимой области с различными коэффициентами экстинкции. Так, для октаэдрических комплексов е 10, а для тетраэдрических и других комплексов с пониженной симметрией е 102 -г 103.
Большей интенсивностью до е 104 -г 105 обладают спектры с переносом заряда. Эти спектры соответствуют переходу электрона из одного атома или кластера на другой. Переходы происходят между молекулярными орбиталями, локализованными на разных атомах. Электрон при этом переходит с лиганда L на металл М: ML - M-. Частоты в максимуме поглощения соответствуют ультрафиолетовой или видимой области с энергией 3 - 6 эВ. К спектрам с переносом заряда относятся переходы с -орбитали лиганда на d-орбиталь металла или с d-орбитали металла на разрыхляющие *-орбитали лиганда. По спектрам с переносом заряда можно определить положение d-уровней переходного металла в зонной структуре вещества. Так, например, для оксидов первого переходного периода возможны два типа переходов с переносом заряда: из 2р-зоны кислорода на 3d-уровни металла и с Зd-уровней в Зs-зону кислорода.
Спектры, использующие оптическое вращение света — круговой дихроизм (КД) и магнитный круговой дихроизм (МКД) используются как для отнесения линий оптических спектров, так и для определения абсолютных конфигураций молекул.
Плоскополяризованный свет, проходя через оптически активное вещество, меняет плоскость поляризации на угол а, выражаемый как
(2.46)
где нижние индексы обозначают направление вращения, п — соответствующий показатель преломления. Величина удельного вращения записывается как
(2.47)
где с — концентрация оптически активного вещества, d — толщина образца.
Кривая дисперсии оптического вращения (ДОВ) представляет собой зависимость удельного или мольного вращения от А. Если плоскость поляризации вращается по часовой стрелке (наблюдатель смотрит вдоль распространения света), то [а] принимается положительным, если против — отрицательным.
Метод КД основан на определении доли оптически активных веществ, поглощающих правую или левую компоненту поляризованного по кругу света. Все оптически активные вещества проявляют КД в области соответствующей полосы поглощения. Молярный КД ei — er определяется по формуле
(2.48)
где к — коэффициент поглощения, который определяется из соотношения
(2.49)
Построение зависимости ei - еr от дает кривую КД.
Для получения спектров МКД необходимо воздействие внешнего или внутреннего магнитного поля в образце. Если плоскополяризованный свет проходит через вещество, находящееся в магнитном поле, компонента которого в направлении распространения света отлична от нуля, то вещество становится оптически активным. Левая и правая компоненты поляризованного спектра взаимодействуют с полем разными способами. Например, для атомов левая компонента поляризованного по кругу света вызывает переходы с m = — 1, а правая компонента — с m = +1. В спектрах это проявляется в появлении линий ei и еr разного знака.
5.2. Колебательная спектроскопия
Колебания атомов на поверхности твердого тела и колебания или вращения молекул или кластеров, адсорбированных на поверхности, могут изучаться методами инфракрасной спектроскопии. Применяются методы адсорбционной спектроскопии с применением стандартных приборов. Однако для исследований поверхности эффективно применяются методы отражательно-адсорбционной инфракрасной спектроскопии (ОАИКС), спектроскопии комбинационного рассеяния света (КРС) и спектроскопия характеристических потерь энергии электронов высокого разрешения (СХПЭЭВР).
В методе ОАИКС измеряется поглощение инфракрасного излучения, связанного с возбуждением поверхностных колебаний адсорбата после отражения от плоской поверхности подложки, например металла. Когда частота света совпадает с собственной частотой дипольно активного осциллятора — молекулы или кластера на поверхности, у поля излучения отбирается энергия. Эта энергия переходит в тепло в результате ангармонического взаимодействия осциллятора с системой. Взаимодействие между излучением и колеблющимся диполем осуществляется через электрическое поле света, действующего на эффективный заряд осциллирующего адсорбата. Длина световой волны велика по сравнению с межатомным расстоянием, так что соседние диполи будут возбуждаться практически синфазно. Для решетки поверхностного адсорбата это соответствует тому, что волновой вектор к|| поверхностной волны мал (к|| — составляющая волнового вектора, параллельная поверхности). Можно выразить кц через волновой вектор падающего света kL и угол падения 0i по отношению к нормали в виде
(2.49)
Рисунок 29. Схема ОАИКС: 1 — ионная пушка; 2 — зонд измерения потенциала; 3 — окно; 4 — направление отраженного излучения к приемнику; 5 — фоновый свет; 6 — ионный монометр; 7 — образец; 8 — окно; 9 — входящий пучок излучения от монохроматора.
ИК спектр отражения адсорбированным слоем может быть получен из измерений потерь на отражение в области полос поглощения, что и составляет основу ОАИКС. Кроме того, можно измерять эллиптичность отраженного плоскополяризованного света, что является следствием изменения фаз и амплитуд при отражении от металла составляющих электрического поля, вектор напряженности которых параллелен плоскости падения (р-поляризация) и перпендикулярен ей (s-поляризация). Такого рода И К спектроскопия носит название эллипсометрии. Поглощение ИК излучения тонкими пленками усиливается при увеличении , и эффективно для р-поляризации. Таким образом, методом ОАИКС можно исследовать колебания, которые имеют нормальную к поверхности составляющую дипольного момента.
Схема применения ОАИКС приведена на рис. 29.
Увеличение чувствительности и накопления результатов поглощения в поверхностном слое требует применения техники многократного отражения. Однако каждое дополнительное отражение сопровождается потерей энергии, связанной с неидеальной отражательной способностью металлов. В связи с этим, большое число отражений уменьшает в результате величину сигнала и, кроме того, такая конструкция неудобна, особенно для исследования поверхности монокристаллов.
Поэтому в ряде случаев применяется однократное отражение типа установки на рис. 29, которая использовалась для исследования поверхности монокристалла меди. В обычных условиях интенсивность спектров отражения записывается до и после адсорбции, проводимой, например, с помощью ионной пушки, и затем измеряется их разность спектров. Остается, однако, проблема фона и шума, понижающих чувствительность. Здесь, как и во многих приборах и методах, применяется модуляция по длине волны или модуляция поляризации. Модуляция по длине волны может создаваться колебанием положения щели монохроматора, зеркала перед щелью или диспергирующего элемента. В результате модуляции на детекторе возникает сигнал, пропорциональный производной обычного спектра той же частоты. Сигнал производной быстро меняется при сканировании в области пиков поглощения адсорбата и усиливает слабые, но относительно узкие полосы поглощения, наложенные на интенсивный, но гладкий фон, обусловленный собственно металлической поверхностью. Таким способом чувствительность спектров однократного отражения достигает 10 -2 %.
Одним из адсорбатов, изученных методом ОАИКС, является молекула СО, которая имеет интенсивные полосы поглощения в ИК-области. На рис. 2.40 приведен спектр ОАИКС поглощения СО на поликристаллической и монокристаллической поверхности меди.
Для адсорбции СО на Си{100} характерна полоса при 2086 см-1, которая при насыщении заполнения поверхности сдвигается до частоты 2 094 см -1 без уширения. Узость полосы при 2 094 см-1 позволяет предположить, что связь между СО и поверхностью слабо меняется в зависимости от положения на поверхности. Эта полоса существенно отличается от полос, обнаруженных для поликристаллических пленок
Рисунок 30. Спектры ОАИКС на пол и кристаллической пленке меди (1) и положение полос поглощения СО на различных поверхностях монокристалла меди
и пленок, нанесенных на монокристаллическую медную подложку и расположенных при 2 100- 2 103 см -1. Подобные результаты получены и для грани Си{111}, для которой наблюдается еще большее отличие полосы при 2 075 см-1 от полос пленок. Так как результаты для граней с большими индексами {ПО}, {211} и {311} значительно ближе к результатам для поликристалла, можно сделать вывод о том, что в поликристаллических или в нанесенных на монокристалл пленках меди преобладают ступенчатые или высокоиндексные плоскости.
В методе СХПЭЭВР измеряются спектры характеристических потерь пучка электронов после его взаимодействия с колеблющимися на поверхности молекулами и кластерами. При приближении электрона к поверхности электрическое поле электрона обуславливает его взаимодействие с электрическим диполем подобно методу ОАИКС. Однако из-за дальнодействующего характера кулоновского поля основное взаимодействие возникает на больших по сравнению с атомными расстояниях от поверхности. В этих условиях поле на атомных масштабах практически однородно и возбуждаются только длинноволновые поверхностные волны. В ОАИКС поле периодично во времени и поэтому возбуждается только основная частота гармонического осциллятора. В спектроскопии потерь энергии электрона могут возбуждаться все частоты с пуассоновским распределением вероятностей возбуждения. Альтернативная трактовка взаимодействия электрона с поверхностными волнами основывается на том, что электрическое поле диполь-активной поверхностной волны инициирует взаимодействие, действующее на электрон. Это взаимодействие достигает максимума, когда скорость электрона вдоль распространения волны совпадает с фазовой скоростью w8 /к\\,где w8 — собственная частота поверхностной волны, т. е. электрон ведет себя подобно «серферу». Как и в ОАИКС, величина к\\ мала по сравнению с вектором обратной решетки. Такой механизм известен как дипольное рассеяние.
Хотя для малых углов вблизи зеркального направления рассеяния механизм дипольного рассеяния преобладает, вне этого дипольного лепестка или при больших углах рассеяния наблюдается рассеяние, объясняемое ударным механизмом. Вклад ударного рассеяния определяется короткодействующей частью взаимодействия электрона с молекулой и поэтому угловое распределение неупруго рассеянных электронов относительно широко. Фактически при короткодействующем взаимодействии электрон не реагирует на электрическое поле (колеблющиеся частицы адсорбата) на расстоянии большем, чем ~ 1А от поверхности металла, в которую электрон затем проникает на глубину около 10 А. Поэтому неупругое рассеяние происходит, когда электрон находится уже внутри твердого тела, а не в пространстве над ним.
Рисунок 31. Спектры характеристических потерь энергии электронов поверхности W{100} с адсорбированными молекулами СО при комнатной температуре [28]. Энергия электронов в падающем пучке 5 эВ и угле падения 75°. Аф — увеличение работы выхода электронов. В левом углу показана аппаратная функция спектрометра
Таким образом, рассеяние на малые углы вокруг зеркального направления дает потери энергии электронов, обусловленные возбуждением колебательных мод, которые связаны с изменением составляющей дипольного момента перпендикулярной поверхности металла. В процессе ударного рассеяния происходит переход к большим углам рассеяния на колебательных модах адсорбата как перпендикулярных, так и параллельных поверхности, что обусловлено короткодействующей частью потенциала рассеяния электрона и дает возможность получения информации о структуре наносистемы поверхность — адсорбат. Для исследований в области колебательной спектроскопии при использовании рассеяния низкоэнергетических электронов на поверхности твердого тела необходимы спектрометры с разрешением лучше, чем 30 мэВ при начальной энергии электронов 1 - 100 эВ.
В качестве примера метода на рис. 31 приведен спектр характеристических потерь энергии электронов для молекул СО, адсорбированных на поверхности W{100}.
При малых степенях заполнения поверхности наблюдаются два пика потерь — при 70 и 76 мэВ. Обе частоты относятся к колебаниям изолированных атомов С и О относительно поверхности. Это является свидетельством диссоциативной адсорбции. При возрастании экспозиции СО наблюдаются два дополнительных пика потерь, интенсивность которых зависит от парциального давления СО. Высокочастотный пик по частоте близок к колебаниям свободной молекулы и поэтому, вероятно, связан с колебаниями недиссоциированных молекул СО, находящихся в верти кальном положении, возможно, над атомом W.
Спектроскопия комбинационного рассеяния (СКР) также использует колебательные и вращательные переходы. В СКР образец облучают монохроматическим пучком света, например лазером, и получают спектр, излучения, рассеянного под прямым углом к направлению падающего света. В процессе рэлеевского упругого рассеяния квант падающего света с частотой v0 и энергией hvo сталкивается с молекулой и рассеивается с той же частотой. Если при этом фотон поглощается, а затем через определенное время жизни опять переизлучается с той же частотой, то это явление носит название флуоресценции.
При неупругом столкновении молекула или кластер в основном колебательном состоянии получает энергию от рассеиваемого фотона, возбуждающего их до более высокого колебательного состояния. Энергия рассеиваемого кванта теперь составляет h(v0 - vi). Рассеянный квант, регистрируемый под прямым углом к падающему, характеризуется частотой (v0 - vi) линий, называемых стоксовыми, показанными на рис. 32.
Рисунок 32. Линии СКР
Молекула в колебательно-возбужденном состоянии с v = 1 может столкнутся с квантом падающего света, имеющего частоту v0 и, отдав ему энергию hvv, вернуться в основное состояние. После рассеяния энергия фотона составляет h(v0 - vi), что соответствует частоте (v0 + vi). Спектральная линия с этой частотой называется антистоксовой (рис. 2.42). В соответствии с распределением Больцмана молекул в состоянии с v = 1 будет меньше, чем в состоянии с v = 0, поэтому интенсивность антистоксовых линий значительно ниже, чем стоксовых.
Как рэлеевское, так и комбинационное рассеяние света являются относительно неэффективными процессами. Рэлеевское рассеяние дает около 10 -3 интенсивности падающего света и только 10-6 в виде комбинационного рассеяния. Поэтому эксперименты по КРС требуют очень интенсивных источников излучения, например мощных лазеров.
При определенных условиях сечение комбинационного рассеяния значительно возрастает, что составляет основу гигантского КР. Условия возникновения этого эффекта недостаточно определены, однако одним из условий является наличие участия в нем нанокластеров с размерами 54- 50 нм.