- •Предисловие
- •1. Расчет концентрационных профилей
- •Введение
- •Механизмы диффузии
- •Уравнения диффузии
- •Диффузия из постоянного источника
- •Часто вместо выражения (1.15) используют
- •Диффузия из слоя конечной толщины (из непостоянного источника)
- •Диффузия из равномерно насыщенного тела
- •Диффузия из “концентрационной ступеньки”
- •1.4. Методы исследования диффузии в полупроводниках
- •1.4.1. Радиоактивные методы
- •1.4.2. Микрозондовые методы
- •1.4.3. Электрические методы
- •1.4.4. Емкостные методы
- •1.5. Последовательность выполнения работы
- •1.5.1. Диффузия из постоянного источника
- •1.5.2. Диффузия из равномерно насыщенного тела
- •1.5.3.Диффузия из слоя конечной толщины
- •1.5.4.Диффузия из «концентрационной ступеньки»
- •2. Расчет основных параметров легированного полупроводника
- •2.1. Закон действующих масс
- •2.2.Уровень Ферми
- •2.4. Последовательность выполнения работы
- •2.4.1. Необходимо определить
- •2.4.2. Пример расчета
- •3. Расчет основных параметров и характеристик p-n-перехода
- •3.1. Эффект поля
- •3.2. Концентрация электронов и дырок в области пространственного заряда
- •3.3. Образование и зонная диаграмма р-n перехода
- •Распределение свободных носителей в p‑n переходе
- •Поле и потенциал в p‑n переходе
- •Вольт‑амперная характеристика р‑n-перехода
- •Емкость p‑n перехода
- •3.8. Последовательность выполнения работы
2.4.1. Необходимо определить
Концентрацию каждой примеси в образце [см -3].
Тип проводимости.
Концентрацию каждой примеси, при которой Si становится вырожденным [см -3].
Подвижность носителей заряда в каждом случае [см 2 / Вс].
Равновесную концентрацию электронов и дырок в каждом случае [см -3].
Положение уровня Ферми [эВ] и изобразить его на энергетической диаграмме.
Удельное сопротивление образца [Ом см].
Свет, падающий на пластину, приводит к возникновению стационарной концентрации фотогенерированных электронов и дырок 1012 см -3. Считая, что толщина пластины мала по сравнению с глубиной поглощения света, так что свободные носители распределены равномерно по ее объему, найти результирующие концентрации электронов и дырок в пластине, а также рассчитать и изобразить положение квазиуровней Ферми для обоих типов носителей.
Рассчитать Eg и ni, используя формулы температурной зависимости и определить расхождение с табличными данными.
Рассчитать длину волны [мкм] излучения, необходимого для создания электронно-дырочных пар в собственном Si и идентифицировать спектральный диапазон (т.е. инфракрасный, видимый, ультрафиолетовый или рентгеновский).
Результаты вычислений занести в таблицу.
2.4.2. Пример расчета
Данные:
Таблица 1.
вариант |
Размеры образца, см см мкм |
Донорная примесь |
Масса донор-ной примеси, 10-6 г |
Акцепторная примесь |
Масса акцеп-торной примеси, 10-6 г |
1 |
0,50,70,09 |
ртуть (Hg) |
2 |
алюминий (Al) |
5 |
Результат расчета:
Таблица 2.
№ п/п |
Параметр |
Si |
Si + Hg |
Si + Al |
Si +Hg+Al |
1. |
Концентрация примеси в образце [см -3]. |
ni=1,45 1010 |
Nd=1,91 1017 |
Na=3,54 1018 |
Naрез=3,35 1018 |
2. |
Тип проводимости. |
Собствен-ный |
n |
p |
p |
3. |
Концентрация примеси, при которой Si становится вырожденным [см -3]. |
- |
Nc=2,8 1019 |
Nv=1,04 1019 |
- |
4. |
Подвижность носителей заряда [см 2 / Вс]. |
n=1417 p=471 |
n=624,34 |
p=70,45 |
pрез=71,29 |
5. |
Равновесная концентрация электронов и дырок [см -3] |
- |
n=1,91 1017 p=1,1103 |
n=59,39 p=3,54 1018 |
n=62,76 p=3,35 1018 |
6. |
Положение уровня Ферми [эВ] (рис. 1). |
Ei =0,562 |
Ef -Ei = 0,423 |
Ei -Ef = 0,498 |
Ei -Ef = 0,497 |
7. |
Удельное сопротивление образца [Ом см]. |
- |
=0,0524 |
=0,025 |
=0,0262 |
8. |
Воздействие света (рис. 2-4): концентрация носителей [см -3], квазиуровни Ферми [эВ]. |
- |
n=1,91 1017 p 1012 Efn –Ei = 0,552 Ei -Efp = 0,109 |
n 1012 p=3,54 1018 Efn -Ei = 0,109 Ei -Efp = 0,498 |
n 1012 p=3,35 1018 Efn -Ei = 0,109 Ei -Efp = 0,497 |
9. Табличные данные:
Eg=1,124 эВ; ni=1,451010см -3.
Расчетные значения:
Eg= .эВ; ni=,1010см -3.
Погрешность:
|Egрасч. - Egтабл.| / Egтабл.= %
|niрасч. - niтабл.| / niтабл.= %
10. Расчет длины волны излучения.
= ……
Спектральный диапазон − ……
Контрольные вопросы
Закон действующих масс.
Концентрация носителей заряда в собственном полупроводнике ni.
Функция распределения Ферми-Дирака.
Концентрация носителей заряда в ЗП и ВЗ (n и p).
Вырожденные полупроводники. Способы вырождения. Положение уровня Ферми.
Что такое квазиуровни Ферми? Где используется это понятие?
Температурная зависимость подвижности носителей заряда. Механизмы рассеяния.