- •Методические указания к выполнению лабораторных работ на тему:
- •Содержание
- •2.1 Цель работы: 14
- •2.5 Задание на лабораторную работу 20
- •3.1 Цель работы 20
- •4.1 Цель работы 25
- •4.4 Контрольные вопросы 35
- •5.1 Цель работы 36
- •Введение
- •Требования по технике безопасности
- •«Полупроводниковые диоды»
- •1.3 Описание работы
- •1.4.4 Получение вах на экране осциллографа
- •2.3 Описание работы:
- •2.4 Порядок выполнения работы:
- •2.4.1 Измерение напряжения и вычисления тока через стабилитрон
- •2.4.2 Получение нагрузочной характеристики параметрического стабилитрона
- •2.4.3 Получение вах стабилитрона на экране осциллографа
- •Задание на лабораторную работу
- •2.6 Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа №3 «Исследование биполярного транзистора»
- •3.1 Цель работы
- •3.2 Теоретическая часть
- •3.3 Порядок выполнения работы
- •3.3.1 Определение статического коэффициента передачи тока транзистора
- •3.3.2 Измерение обратного тока коллектора
- •3.3.3 Получение выходной характеристики транзистора в схеме с оэ
- •3.3.4 Получение входной характеристики транзистора в схеме с оэ
- •3.3.5 Получение входной характеристики транзистора в схеме с общей базой
- •3.4 Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа №4 «Полевые транзисторы»
- •4.1 Цель работы
- •4.2 Теоретическая часть
- •Параметры полевых транзисторов с р-п переходом
- •Мдп транзисторы
- •4.3 Порядок выполнения работы
- •4.3.1 Схема (ои) для исследования вах полевого транзистора с управляющим p – n переходом
- •4.3.2 Схема для исследования вах мдп-транзистора со встроенным каналом
- •Исследование характеристик мдп – транзистора
- •4.4 Контрольные вопросы
- •Приложения
- •Лабораторная работа №5 «Триодный тиристор»
- •5.1 Цель работы
- •5.2 Теоретическое введение
- •5.3 Описание работы с пакетом
- •5.4 Порядок выполнения работы
- •Обработка результатов измерений:
- •5.6 Контрольные вопросы
- •6. Литература
Параметры полевых транзисторов с р-п переходом
Основные параметры полевого транзистора следующие: крутизна стоко-затворной характеристики, коэффициент усиления, внутреннее сопротивление, входное сопротивление, ток и напряжение насыщения при нулевом напряжении на затворе, напряжение отсечки, а также параметры предельных режимов: максимально допустимый ток стока Iсмакc при Uзи == 0, максимально допустимое напряжение сток—исток Uсимакс, максимально допустимое напряжение затвор—исток Uзимакс, максимально допустимая рассеиваемая мощность Рмакс, диапазон рабочей температуры.
Статическая крутизна характеристики S показывает влияние напряжения затвора на выходной ток транзистора и определяется как отношение приращения тока стока к вызвавшему его малому приращению напряжения затвор — исток при постоянном напряжении сток — исток:
S == DIc/DUзи при Uси == const
Крутизна определяет наклон стоко-затворной характеристики; по величине крутизны оценивают управляющее действие затвора. Численное значение крутизны можно найти по стоко-затворной характеристике, взяв для данной точки малое приращение напряжения DUзи и соответствующее ему приращение тока DIс (см. рис. 1,6). Наибольшее значение имеет крутизна характеристики в точке на оси тока при
Uзи == 0. С увеличением Uзи крутизна уменьшается. Примерная величина этого параметра S=0,1—8 мА/В.
Внутреннее (дифференциальное) сопротивление Ri показывает влияние напряжения сток — исток на выходной ток транзистора. Оно определяется по наклону стоковой характеристики на участке насыщения как отношение приращения напряжения сток — исток к вызываемому им малому приращению тока стока при постоянном напряжении затвор—исток (см. рис. 1, а):
Ri = DUси/DIc при Uзи = const.
Чем больше Ri, тем более полого идет характеристика в области насыщения. Внутреннее сопротивление полевых транзисторов составляет десятки и сотни килоом и более. Оно определяет выходное сопротивление Rвых.
Входное сопротивление Rвх полевого транзистора очень велико; оно определяется обратным сопротивлением р-п перехода и составляет 108—109 Ом. Большое входное сопротивление является преимуществом полевых транзисторов перед биполярными. Преимуществом является также малый собственный шум.
Усилительные свойства полевых транзисторов характеризуются статическим коэффициентом усиления напряжения и, который может быть найден как произведение крутизны на внутреннее сопротивление: m = SRi.
Коэффициент усиления показывает, во сколько раз изменение напряжения затвор — исток сильнее влияет на ток стока, чем такое же изменение напряжения сток — исток. Его можно определить как отношение приращения напряжения сток — исток к приращению напряжения затвор — исток при неизменном токе:
m = DUси/Uзи при Iс = const
Мдп транзисторы
Металл-Диэлектрик-Полупроводник /МДП/. В качестве диэлектрической прослойки между металлом и полупроводником часто используют слой оксида (или диэлектрика), например диоксид кремния. Такие структуры носят название МОП-структур. Металлический электрод обычно наносят на диэлектрик вакуумным распылением. Этот электрод называется затвором.
Значение тока насыщения зависит от напряжения на затворе: чем выше, тем шире канал и тем больше ток насыщения. Это типично транзисторный эффект - напряжением на затворе (во входной цепи) можно управлять током стока (током в выходной цепи). Характерной особенностью МДП-транзисторов является то, что его входом служит конденсатор, образованный металлическим затвором, изолированным от полупроводника. В рассматриваемом транзисторе используется эффект поля, поэтому такие транзисторы называются ПОЛЕВЫМИ. В отличии от транзисторов типа p-n-p или n-p-n, в которых происходит инжекция неосновных носителей тока в базовую область, в полевых транзисторах ток переносится только основными носителями. Поэтому такие транзисторы называются также УНИПОЛЯРНЫМИ.
Канал в них сохраняется даже при подаче на затвор некоторого отрицательного смещения. В отличие от них в транзисторах, изготовленных на n-под-
ложке, в которой для образования инверсионного слоя требуется слишком большой заряд оксида, канал возникает только при подаче на затвор напряжения, превышающего некоторое пороговое напряжение. По знаку это смещение на затворе должно быть отрицательным для транзисторов с n-подложкой и положительным в случае р-подложки.
Входное сопротивление полевых транзисторов на низких частотах является емкостным. Входная емкость образуется затвором и неперекрытой частью канала со стороны истока. При достаточно большом напряжении на стоке может также возникнуть обычный пробой стокового p-n-перехода.
МДП-транзисторы со встроенным (а) и индуцированным (б) каналом.
Рис. 2 - Семейство стоковых характеристик (а) и стоко-затворная характеристика (б) МДП-транзистора со встроенным каналом n-типа
Рис. 3 Семейство стоковых характеристик (а) и стоко-затворная характеристика (б) МДП-транзистора с индуцированным каналом n-типа