
- •Компонентна база радіоелектронної апаратури методичні рекомендації
- •1. Загальні вказівки до виконання ргр
- •2. Фізичні властивості напівпровідників
- •2.1. Основи зонної теорії
- •2.2. Концентрація носіїв заряду
- •2.3. Струми в напівпровіднику
- •2.4. Приклади розв’язання задач розділу «Фізичні властивості напівпровідників»
- •3. Напівпровідникові діоди
- •3.1. Електронно-дірковий перехід
- •3.2. Контактна різниця потенціалів
- •3.3. Вольт-амперна характеристика ідеального переходу
- •3.4. Приклади розв’язання задач розділу «Напівпровідникові діоди»
- •4. Транзистори
- •4.1. Приклади розв’язання задач розділу «Транзистори»
- •5. Електронні прилади
- •5.1. Приклади розв’язання задач розділу «Електронні прилади»
- •6. Індивідуальні завдання на розрахунково-графічну роботу
- •Тема 1. Фізичні властивості напівпровідників
- •Тема 2. Напівпровідникові діоди
- •Тема 3. Транзистори
- •Тема 4. Електронні прилади
- •7. Література
- •7.1. Список основної рекомендованої літератури
- •7.2. Список допоміжної рекомендованої літератури
2.4. Приклади розв’язання задач розділу «Фізичні властивості напівпровідників»
Задача 2.1.1.
Обчислити
положення рівня Фермі
відносно дна зони провідності
при температурі 400 К для кристалу кремнія
з концентрацією донорних домішок
.
Розв’язання.
Потенціальна
діаграма напівпровідника з електронною
провідністю має вигляд приведений на
рис.4. Необхідно визначити значення
.
Рис. 4. Потенціальна діаграма напівпровідника з електронною провідністю
Рівень
Фермі відносно дна зони провідності
визначається залежністю
,
.
В
невиродженому напівпровіднику з
електронною провідністю концентрація
електронів
менша ніж максимально можлива концентрація
електронів в зоні провідності
,
тобто
і рівень Фермі розташований нижче
.
Для
визначення
необхідно обчислити
,
,
для умови завдання.
Температурний
потенціал
,
В дорівнює
.
Для
визначення концентрації основних носіїв
електронів
необхідно обчислити концентрацію
власних електронів
в кремнії при
.
.
Ефективні
маси електрона і дірки по відношенню
до маси вільного електрона
та
,
а також ширину забороненої зони
для спрощення будемо вважати незалежними
від температури і використаємо їх
значення при
.
;
;
,
Тоді
1/см3.
Оскільки
концентрація власних електронів значно
менша концентрації донорів
,
то
,
;
1/см3.
Підставляємо
значення в вираз для
В.
Висновок.
В
напівпровіднику з електронною провідністю
рівень Фермі лежить вище середини
забороненої зони. Для кремнію
В.
Отримана
відповідь
В
, що відповідає теорії.
Задача 2.1.2.
Визначити концентрацію основних та неосновних носіїв заряду, питомий опір домішкового напівпровідника, відношення питомої електронної і діркової провідностей для умов задачі 2.1.1. Рухливість носіїв заряду припустити однаковою для власного та домішкового напівпровідника, тобто вплив домішок на рухливість не враховувати, а враховувати тільки вплив температури. Як зміниться результат задачі, якщо цього припущення не робити? Виконайте ще раз всі обчислення з урахуванням концентрації домішок і температури, порівняйте результати і зробіть висновки.
Розв’язання.
Концентрацію
основних носіїв заряду взяти із умов
задачі 2.1.1:
;
1/см3;
1/см3
Визначимо
концентрацію неосновних носіїв заряду
при
.
,
1/см3.
Питомі
електронна та діркова провідності
визначаються виразами
,
.
В умові задачі сказано, що необхідно
спочатку обчислити
та
без врахування впливу домішок, але з
врахуванням температури.
Температура
впливає на рухливість електронів і
дірок. Для кремнію згідно з виразами
та
при
,
см2/Вс,
см2/Вс
маємо:
см2/Вс
см2/Вс.
Питома електронна провідність обчислюється за формулою
.
Зробимо перетворення розмірностей.
.
Обчислимо значення
См/см
См/см.
Відношення
провідностей складає
.
Питомий опір домішкового кремнію n-типу визначається виразом
.
Підставивши числові значення отримаємо
Омсм.
З
урахуванням впливу температури і домішок
на питому провідність і питомий опір
результати обчислень зміняться. Необхідно
спочатку визначити рухливість носіїв
заряду для заданої концентрації донорних
домішок
1/см3.
при
,
а потім для знайдених зменшених значень
рухливості обчислити, як вони ще
зменшаться при нагріванні до
.
Домішки
зменшують рухливість рухомих носіїв
заряду відповідно з виразом
,
де
1/см3.
В кремнії при
для
електронів складає 1500 см2/(Вс),
для дірок – 450 см2/(Вс).
Отже
для
1/см3
маємо
см2/(Вс)
та
см2/(Вс).
Під впливом збільшення температури ці рухливості електронів та дірок ще зменшаться, отже
см2/(Вс)
та
см2/(Вс).
З урахуванням впливу температури і концентрації домішок
См/см
См/см.
Відношення
.
Питомий
опір зразка
,
де повна провідність
.
Для зразка з електронною провідністю
при
1/см3
та
,
тоді
і
Омсм.
Висновок.
Порівнюючи
результати розрахунків провідностей
та питомого опору в умовах, коли
концентрація основних носіїв
визначається
концентрацією донорів
,
а вплив концентрації
незначний,
бачимо що збільшення концентрації
домішок при сталій температурі зразка
приводить до зменшення рухливості
носіїв заряду, а отже до зменшення
питомої провідності і збільшення
питомого опору.
При
збільшенні температури зразка при
сталій концентрації домішок, різко
збільшується концентрація неосновних
носіїв
за рахунок збільшення концентрації
.
Ті властивості напівпровідникових
приладів, які залежать від концентрації
неосновних носіїв, також будуть різко
змінюватися із зміною температури.
Максимальна робоча температура – це
така температура, при якій величина
власної провідності стає сумірною з
домішковою провідністю, тобто коли
.
При аналізі результатів розрахунків видно, що зменшення рухливості носіїв при збільшенні температури виявляє основний вплив на збільшення опору зразка.
Задача 2.1.3.
При
якій температурі концентрація власних
носіїв заряду
у бездомішковому напівпровіднику буде
дорівнювати концентрації основних
носіїв в домішковому напівпровіднику
для умов задачі 2.1.1. Пояснити отриманий
результат.
Розв’язання.
З
задачі 2.1.1 концентрація електронів
складає
,
1/см3.
Знайдемо
температуру, при якій
1/см3.
Підставимо значення з задачі 1.1 у формулу
,
тоді
1/см3.
Необхідно
знайти таке значення температури
,
при якому виконується це рівняння.
Найпростіше розв’язати рівняння методом
підбору. Для кремнію концентрація
1/см3
досить велика, бо при
,
1/см3
тобто шукана температура значно
перевищувати
.
Максимальна робоча температура
кремнійових напівпровідникових приладів
досягає
.
Починати підбір необхідно саме з цієї
температури (табл.2.1).
Таблиця 2.1. Результати розрахунків концентрації власних носіїв
Температура
|
Концентрація
|
500 |
3,541013 |
600 |
4,061014 |
700 |
2,401015 |
800 |
1,01016 |
Висновок.
Отримати
таку концентрацію власних носіїв в
кремнієвому приладі практично неможливо,
бо температура при якій вона досягається,
на
перевищує максимально допустиму.
Задача 2.1.4.
Визначити значення дрейфового струму через стержень довжиною 5 см з площею поперечного перерізу 0,5 см2 до кінців якого прикладена різниця потенціалів 10 В (рис.5). Визначити середню дрейфову швидкість електронів і дірок. Числові значення взяти з умови задачі 2.1.1
Розв’язання.
Рис. 5. До умови задачі 1.4
Під
дією різниці потенціалів в зразку з
електронною провідністю виникає
дрейфовий струм електронів та дірок.
Середня дрейфова швидкість рухливих
носіїв заряду в напівпровідниках
залежить від напруженості електричного
поля. В слабких електричних поля, для
яких дрейфова швидкість рухливих носіїв
заряду значно менша теплової швидкості
,
дрейфова швидкість лінійно залежить
від напруженості електричного поля
.
Ця залежність зберігається до критичного
значення напруженості електричного
поля
,
при якій дрейфова швидкість стає сумірною
з тепловою швидкістю
.
Значення
для кремнію та германію при
наведена в табл.2.2.
Таблиця 2.2. Значення критичної напруженості
-
Критична напруженість поля, В/см
Кремній
Германій
Для електронів
2500
900
Для дірок
7500
1400
За
умовою завдання напруженість електричного
поля значно менше критичної
В/см,
що дозволяє застосувати закон Ома для
визначення сили дрейфового струму
.
Питомий
опір зразка при температурі
і концентрації донорів
1/см3
обчислений в завданні 1.2
Омсм.
Тоді
А.
Середня
дрейфова швидкість електронів і дірок
обчислюється для рухливостей визначених
при
і
1/см3
;
см/с
;
см/с.
Висновок.
Невелика
дрейфова швидкість руху носіїв заряду
в напівпровідниках є одним з обмежувальних
факторів швидкодії напівпровідникових
приладів. В сильних електричних полях
В/см
вона наближається до середньої теплової
швидкості. Для кремнію при
максимальна швидкість складає для
електронів 1107
см/с, для дірок 0,8107
см/с.
Задача 2.1.5.
Визначити густину дифузійного струму для стержня з геометричними розмірами з задачі 1.4, якщо концентрація домішок змінюється за лінійним законом від одного кінця стержня до іншого на порядок. Пояснити рівноважний стан такого стержня (рис.6). Побудувати потенціальну діаграму. Визначити величину і напрям внутрішнього електричного поля цього неоднорідно легованого напівпровідника. Використати числові значення умови задачі 2.1.1. Пояснити отримані результати.
Розв’язання.
Пояснення рівноважного стану стержня.
Рис. 6. До умови задачі 1.5
В
робочому діапазоні температур
напівпровідникових приладів всі домішки
іонізовані. Концентрація електронів
на кінці 2 зразка (рис.6) більша ніж на
кінці 1, тобто існує градієнт концентрації
електронів і виникає дифузія, яка
породжує внутрішнє електричне поле
в зразку. Поле створюється некомпенсованими
об’ємними зарядами нерухомих іонів
і
об’ємним зарядом електронів, які
перейшли в результаті дифузії ліворуч
.
Напрям поля позначений на рис.6. Електричне
поле в зразку породжує зворотний
дрейфовий рух електронів, тобто дифузійний
струм компенсується зворотним дрейфовим
струмом. Струм в зовнішньому колі зразка
відсутній
.
На потенціальній діаграмі напівпровідника
стан рівноваги характеризується
горизонтальністю рівня Фермі.
Обчислення густини дифузійного струму.
Струм в зразку створюється не тільки основними, а і неосновними носіями – дірками.
,
де
та
- градієнти концентрацій основних та
неосновних носіїв заряду,
та
- середні по довжині зразка коефіцієнти
дифузії електронів та дірок.
см-4.
Концентрації
неосновних носіїв дірок на кінцях зразка
визначаються з умови термодинамічної
рівноваги
,
.
Концентрація
власних носіїв в кремнії при
визначені в задачі 2.1.1.
1/см3.
1/см3
1/см3
см-4
Градієнт концентрації неосновних носіїв дірок значно менший ніж градієнт концентрації електронів і при розрахунку густини дифузійного струму ним можна знехтувати.
Коефіцієнт дифузії в неоднорідно легованому напівпровіднику змінюється по довжині зразка, бо змінюється рухливість електронів по довжині зразка.
На
кінці 1 зразка маємо
.
для
та
1/см3
визначено в задачі 2.1.2 і складає
см/Вс.
В.
Тоді
см2/с.
Визначимо коефіцієнт дифузії на кінці 2 зразка.
Для
його визначення необхідно розрахувати
рухливість електронів
для концентрації донорів
1/см3
і температурі
.
При
см2/Вс.
При
см2/Вс.
Коефіцієнт дифузії
см2/с.
Середнє значення коефіцієнту дифузії електронів
,
см2/с.
Густина дифузійного струму
,
А/см.
Побудова потенціальної діаграми.
Побудову
діаграми необхідно почати з проведення
горизонтального рівня Фермі (рис.7.),
тому що зразок знаходиться в рівноважному
стані
.
Оскільки
на кінці 2 зразка концентрація донорних
домішок більша ніж на кінці 1, рівень
Фермі наближається ближче до дна зони
провідності на кінці 2 ніж на кінці 1, де
і
потенціали
дна зони провідності на кінцях 1 та 2
зразка. Різниця потенціалів
обчислена в задачі 2.1.1. Вона складає
0,25 В.
Рис. 7. Потенціальна діаграма до задачі 1.5
Різниця потенціалів на другому кінці зразка визначається виразом
і складає
В.
Обравши
відповідний масштаб відкладемо на
діаграмі від рівня Фермі
і
та отримаємо точки
та
.
Сполучивши точки визначаємо розташування
дна зони провідності відносно рівня
Фермі.
На
потенціальній діаграмі відкладемо в
масштабі від потенціалів точок
та
ширину забороненої зони кремнію
В
і отримаємо точки
та
.
Пряма лінія між точками
та
визначає розташування стелі валентної
зони відносно рівня Фермі. Перепад
електричних потенціалів по довжині
зразка визначаємо як
.
В.
Напруженість електричного поля в зразку дорівнює:
;
В/см.
Висновок.
При
будь якому розподілі концентрації
домішок в зразку і будь якій температурі
зразок знаходиться в рівноважному стані
і не є джерелом електричного струму.
При наявності градієнтів електричного
та хімічного потенціалів, тобто при
наявності дрейфового та дифузійного
струмів основних та неосновних носіїв
в зразку таке можливо лише при одній
умові
і ці струми течуть в протилежних
напрямках.