- •Учебно-методический комплекс по дисциплине
- •II. Материалы, устанавливающие содержание и порядок изучения дисциплины.
- •I. Рабочая программа дисциплины
- •1.1. Цели освоения дисциплины
- •1.2. Место дисциплины в структуре ооп специалитета.
- •1.3. Компетенции обучающегося, формируемые в результате освоения дисциплины.
- •1.4. Структура и содержание дисциплины.
- •1.4.1. Структура дисциплины.
- •1.4.2. Темы дисциплины объем модулей.
- •1.5. Образовательные технологии
- •1.6. Учебно-методическое обеспечение самостоятельной работы студентов. Оценочные средства для текущего контроля успеваемости, промежуточной аттестации по итогам освоения дисциплины.
- •1.7 Учебно-методическое и информационное обеспечение дисциплины.
- •1.8 Материально-техническое обеспечение дисциплины
- •II. Материалы, устанавливающие содержание и порядок изучения дисциплины.
- •2.1. Распределение часов по темам и видам учебной работы
- •2.2. Содержание дисциплины
- •1. Понятие о р-п переходе
- •1.1. Определение и классификация р-п переходов
- •1.2. Структура р-п перехода
- •Основные результаты
- •Равновесное состояние р-п перехода
- •2.1. Энергетическая диаграмма р-п перехода
- •2.2. Токи через р-п переход в равновесном состоянии
- •2.3. Методика расчета параметров р-п перехода
- •2.4. Расчет параметров ступенчатого р-п перехода.
- •2.5. Переход с линейным распределением принеси
- •2.6. Диффузионные р-п переходы
- •2.7. Гетеропереходы
- •Основные результаты
- •3. Неравновесное состояние р-п перехода
- •3.1. Прямое и обратное включение диода
- •3.2. Квазиуровни Ферми для электронов и дырок
- •3.3. Энергетические диаграммы неравновесного р-п перехода.
- •3.4. Граничные условия.
- •3.5. Ширина р-п перехода.
- •Основные результаты.
- •4. Анализ идеализированного диода
- •4.1. Модель идеализированного диода
- •4.2. Методика анализа вах идеализированного диода
- •4.3. Распределения неосновных носителей заряда в квазинейтральных областях
- •4.4. Вах идеализированного диода
- •4.5. Тепловой ток.
- •4.6. Температурная зависимость прямой ветви вах диода.
- •4.7. Характеристические сопротивления диода и коэффициент качества вах диода.
- •4.8. Коэффициент инжекции.
- •Основные результаты.
- •5. Вах реального диода
- •5.1. Особенности вах реального диода
- •5.2. Термогенерация и рекомбинация носителей заряда в р-п переходе
- •5.3. Ток термогенерации (обратное смещение перехода)
- •5.4. Ток рекомбинации (прямое смещение перехода)
- •5.5. Сопротивление базы
- •5.6. Характеристики диода при высоком уровне инжекции
- •5.7. Вах реального диода
- •Основные результаты.
- •6. Пробой р-п перехода
- •6.1. Механизм пробоя р-п перехода
- •6.2. Тепловой пробой
- •6.3. Лавинный пробой
- •6.4. Туннельный (полевой) пробой
- •6.5. Особенности лавинного и туннельного механизмов пробоя
- •Основные результаты
- •2.4. Экзаменационные вопросы для итогового контроля по
- •2.4.1. Тесты для итогового контроля по дисциплине «Физика p-n переходов и поверхностно-барьерных структур»
3.4. Граничные условия.
Если р-п переход настолько узкий, что за время пролета через переход носители не успевают рекомбинировать, то каждая из плотностей тока ипостоянна в любой точке перехода. В соответствии с уравнениями (3.3):
,
.
На границе с п-областью значение минимально, а - максимально. В областир-п перехода концентрация дырок резко возрастает (), следовательно,. Поэтому в области перехода можно считать. Таким же образом. Следовательно,квазиуровни Ферми в области перехода примерно постоянны.
Из энергетической диаграммы (рис.3.2) видно, что при этом в области перехода
. (3.4)
Перемножив (3.1) и (3.2), получим для области перехода
. (3.5)
Это условие справедливо для любой точки перехода, а следовательно, и для его границ.
В частности, для границы р-п перехода с п-областью () имеем
. (3.6)
Граничные концентрации могут быть представлены в виде:
,
где индексом «0» отмечены равновесные концентрации. Условие нейтральности требует, чтобы избыточные концентрации ибыли одинаковы.
Если смещение не слишком велико, так что , то из (3.6) имеем:
, (3.7а)
. (3.7б)
Аналогично для границы р-области с р-п переходом:
, (3.8а)
. (3.8б)
Граничные условия(3.7) и (3.8) соответствуют так называемому низкому уровню инжекции, когда инжектированные через переход носители не изменяют существенно проводимость нейтральных областей. Условия (3.7) г (3.8) получили название граничных, условий Шокли.
Положительным напряжениям соответствует обогащение прилежащих к переходу областей неосновными носителями (,). В этом случае говорят обинжекции неосновных носителей через р-п переход. При отрицательных напряжениях происходит экстракция (отсасывание) неосновных носителей р-п переходом (,). Припрактически можно считать, что на границе с переходом концентрация неосновных носителей равна кулю.
Заметим, что избыточные граничные концентрации ипропорциональны равновесным концентрациями. Если эмиттер легирован значительно сильнее базы, то и . В этом случае инжекция носит односторонний характер - из эмиттера в базу.
При больших прямых смещениях, когда в п-области , можно считать, что. При этом из (3.6) имеем
. (3.9)
Аналогично для электронов в р-области при граничное условие имеет вид:
(3.10)
Заметим, что в случае, когда эмиттер диода легирован значительно сильнее, чем база (), уровень инжекции в эмиттере не может быть высоким, так как концентрация электронов не может превышать.