
- •Учебно-методический комплекс по дисциплине
- •II. Материалы, устанавливающие содержание и порядок изучения дисциплины.
- •I. Рабочая программа дисциплины
- •1.1. Цели освоения дисциплины
- •1.2. Место дисциплины в структуре ооп специалитета.
- •1.3. Компетенции обучающегося, формируемые в результате освоения дисциплины.
- •1.4. Структура и содержание дисциплины.
- •1.4.1. Структура дисциплины.
- •1.4.2. Темы дисциплины объем модулей.
- •1.5. Образовательные технологии
- •1.6. Учебно-методическое обеспечение самостоятельной работы студентов. Оценочные средства для текущего контроля успеваемости, промежуточной аттестации по итогам освоения дисциплины.
- •1.7 Учебно-методическое и информационное обеспечение дисциплины.
- •1.8 Материально-техническое обеспечение дисциплины
- •II. Материалы, устанавливающие содержание и порядок изучения дисциплины.
- •2.1. Распределение часов по темам и видам учебной работы
- •2.2. Содержание дисциплины
- •1. Понятие о р-п переходе
- •1.1. Определение и классификация р-п переходов
- •1.2. Структура р-п перехода
- •Основные результаты
- •Равновесное состояние р-п перехода
- •2.1. Энергетическая диаграмма р-п перехода
- •2.2. Токи через р-п переход в равновесном состоянии
- •2.3. Методика расчета параметров р-п перехода
- •2.4. Расчет параметров ступенчатого р-п перехода.
- •2.5. Переход с линейным распределением принеси
- •2.6. Диффузионные р-п переходы
- •2.7. Гетеропереходы
- •Основные результаты
- •3. Неравновесное состояние р-п перехода
- •3.1. Прямое и обратное включение диода
- •3.2. Квазиуровни Ферми для электронов и дырок
- •3.3. Энергетические диаграммы неравновесного р-п перехода.
- •3.4. Граничные условия.
- •3.5. Ширина р-п перехода.
- •Основные результаты.
- •4. Анализ идеализированного диода
- •4.1. Модель идеализированного диода
- •4.2. Методика анализа вах идеализированного диода
- •4.3. Распределения неосновных носителей заряда в квазинейтральных областях
- •4.4. Вах идеализированного диода
- •4.5. Тепловой ток.
- •4.6. Температурная зависимость прямой ветви вах диода.
- •4.7. Характеристические сопротивления диода и коэффициент качества вах диода.
- •4.8. Коэффициент инжекции.
- •Основные результаты.
- •5. Вах реального диода
- •5.1. Особенности вах реального диода
- •5.2. Термогенерация и рекомбинация носителей заряда в р-п переходе
- •5.3. Ток термогенерации (обратное смещение перехода)
- •5.4. Ток рекомбинации (прямое смещение перехода)
- •5.5. Сопротивление базы
- •5.6. Характеристики диода при высоком уровне инжекции
- •5.7. Вах реального диода
- •Основные результаты.
- •6. Пробой р-п перехода
- •6.1. Механизм пробоя р-п перехода
- •6.2. Тепловой пробой
- •6.3. Лавинный пробой
- •6.4. Туннельный (полевой) пробой
- •6.5. Особенности лавинного и туннельного механизмов пробоя
- •Основные результаты
- •2.4. Экзаменационные вопросы для итогового контроля по
- •2.4.1. Тесты для итогового контроля по дисциплине «Физика p-n переходов и поверхностно-барьерных структур»
3.4. Граничные условия.
Если
р-п
переход настолько узкий, что за время
пролета через переход носители не
успевают рекомбинировать, то каждая из
плотностей тока
и
постоянна в любой точке перехода. В
соответствии с уравнениями (3.3):
,
.
На
границе с п-областью
значение
минимально, а
- максимально. В областир-п
перехода концентрация дырок резко
возрастает (
),
следовательно,
.
Поэтому в области перехода можно считать
.
Таким же образом
.
Следовательно,квазиуровни
Ферми в области перехода примерно
постоянны.
Из энергетической диаграммы (рис.3.2) видно, что при этом в области перехода
.
(3.4)
Перемножив (3.1) и (3.2), получим для области перехода
.
(3.5)
Это условие справедливо для любой точки перехода, а следовательно, и для его границ.
В
частности, для границы р-п
перехода с п-областью
()
имеем
.
(3.6)
Граничные концентрации могут быть представлены в виде:
,
где
индексом «0» отмечены равновесные
концентрации. Условие нейтральности
требует, чтобы избыточные концентрации
и
были одинаковы.
Если
смещение не слишком велико, так что
,
то из (3.6) имеем:
,
(3.7а)
.
(3.7б)
Аналогично для границы р-области с р-п переходом:
,
(3.8а)
.
(3.8б)
Граничные условия(3.7) и (3.8) соответствуют так называемому низкому уровню инжекции, когда инжектированные через переход носители не изменяют существенно проводимость нейтральных областей. Условия (3.7) г (3.8) получили название граничных, условий Шокли.
Положительным
напряжениям соответствует обогащение
прилежащих к переходу областей неосновными
носителями (,
).
В этом случае говорят обинжекции
неосновных носителей через р-п
переход. При отрицательных напряжениях
происходит экстракция
(отсасывание) неосновных носителей р-п
переходом (
,
).
При
практически можно считать, что на границе
с переходом концентрация неосновных
носителей равна кулю.
Заметим,
что избыточные граничные концентрации
и
пропорциональны равновесным концентрациям
и
.
Если эмиттер легирован значительно
сильнее базы, то
и
.
В этом случае инжекция носит односторонний
характер - из эмиттера в базу.
При
больших прямых смещениях, когда в
п-области
,
можно считать, что
.
При этом из (3.6) имеем
.
(3.9)
Аналогично
для электронов в р-области
при
граничное условие имеет вид:
(3.10)
Заметим,
что в случае, когда эмиттер диода
легирован значительно сильнее, чем база
(),
уровень инжекции в эмиттере не может
быть высоким, так как концентрация
электронов не может превышать
.