Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Физика твердого тела. Учебное пособие

.pdf
Скачиваний:
0
Добавлен:
15.08.2026
Размер:
1 Мб
Скачать

5.2.2. Токи при прямом включении p–n-перехода

Вычислим токи, которые текут через p–n-переход при прямом включении. Результирующие плотности токов электронов и дырок уже отличны от 0:

jn пр jn диф jn др 0, jp пр jp диф jp др 0.

Плотность диффузионного тока электронов на границе перехода в p-области

j

eD

np

.

(5.18)

 

n диф

n

x

 

В уравнении (5.18) написаны частные производные, поскольку концентрация зависит не только от координаты, но и от времени.

Плотность дрейфового тока электронов на границе перехода такая же, как при равновесии, поскольку дрейфовый ток создается неосновными носителями заряда, и для них высота потенциального барьера не играет никакой роли (неосновным электронам все равно, «с какой высоты скатываться»). Следовательно, вместо плотности дрейфового тока при прямом включении можно записать плотность диффузионного тока при равновесии:

j

j

eD

np0

.

(5.19)

 

n др

n диф0

n

x

 

Результирующая плотность электронного тока

jn пр jn диф jn др eDn np eDn np0

x x

eD

(np np0)

eD

np

.

(5.20)

x

 

n

n

x

 

71

Избыточная концентрация электронов np определяется уравне-

нием (5.17):

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

x

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

x

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

L

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

np

 

 

 

(0)e

 

 

 

 

np

 

 

 

 

L

 

 

 

np

 

 

 

 

 

np

 

 

n

 

 

(0)e

n

 

 

.

(5.21)

 

x

 

 

 

 

x

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

L

 

 

 

 

 

 

 

L

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

 

n

 

 

После подстановки (5.21) в (5.20) и замены np

по формуле (5.16)

получим

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

eU

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

eD n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

p0

e kT

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

j

n пр

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

 

.

 

 

 

 

 

 

 

(5.22)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ln

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Аналогичное выражение можно получить для плотности дырочно-

го тока:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

eU

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

eD

 

 

p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

jp пр

 

p

n0

e kT

1

.

 

 

 

 

 

 

 

(5.23)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Lp

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Суммарная плотность прямого тока

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

eU

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

eD n

 

 

 

eD

 

 

 

p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

p0

 

p

e kT

1

 

 

 

j

j

n пр

j

p пр

 

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

 

n0

 

 

 

 

.

(5.24)

 

 

 

 

 

L

 

 

 

 

L

 

 

 

 

 

 

пр

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

 

 

 

p

 

 

 

 

 

 

 

5.2.3. Обратное включение p–n-перехода

Приложим к p–n-переходу обратное внешнее напряжение U , подключив к p -области «–» источника напряжения, а к n -области – «+»

источника напряжения (рис. 5.8). Электрическое поле Eout , созданное внешним источником напряжения, при обратном включении направлено в ту же сторону, что и поле Ein . Следовательно, потенциальный барьер в области p n -перехода увеличится. Из-за увеличения потен-

циального барьера

диффузионный поток

основных

электронов из

n -полупроводника

в p -полупроводник и

обратный

диффузионный

72

поток дырок уменьшатся, поскольку уменьшится количество носите-

лей заряда, обладающих достаточной энергией для преодоления по-

тенциального барьера. Поток неосновных носителей не изменится, по-

скольку он не зависит от высоты потенциального барьера.

 

Зонная диаграмма p n -перехода показана на рис. 5.9.

 

 

 

Ein

 

jn диф

 

 

p

 

+

jp диф

 

 

 

 

 

n

 

 

jn др

Ein

+

 

 

 

 

Ein

 

 

 

 

 

jp др

+

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Eout

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

U

 

 

 

 

 

Рис. 5.8

 

 

 

EС

 

 

 

 

 

 

EFp

e( к U )

 

 

 

 

EС

 

 

 

eU

 

EV

 

 

 

 

EFn

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

EV

 

 

 

d2

 

 

 

 

p

 

 

 

n

 

 

 

Рис. 5.9

 

 

 

 

 

73

 

 

 

Ширина потенциального барьера при обратном включении увеличивается и равна

 

2

0

e( U ) nn0 pp0

 

 

d2

 

к

 

,

(5.25)

 

 

e2

nn0 pp0

 

 

 

 

 

следовательно, увеличивается сопротивление переходной области. Проведя вычисления, аналогичные расчету плотности прямого то-

ка, для плотности обратного тока можно получить следующее уравнение:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

eU

 

 

 

 

 

 

 

 

eD n

 

 

eD

 

p

 

kT

 

 

 

 

 

 

 

 

p0

 

 

e

 

1

 

 

j

j

j

p обр

 

n

 

 

p n0

 

 

 

 

 

 

.

(5.26)

L

 

L

 

 

 

 

 

 

обр

n обр

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

 

p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

U

 

 

 

При обратном включении p–n-перехода величина

e

 

 

 

 

kT стремится

к нулю, и плотность обратного тока очень мала.

5.2.4. Вольт-амперная характеристика p–n-перехода

Уравнение вольт-амперной характеристики p–n-перехода можно получить, объединив уравнения (5.26) и (5.24) в одно и умножив их на площадь перехода S :

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

eU

 

 

 

 

 

 

 

 

eD n

 

 

eD

 

p

 

kT

 

 

 

 

 

 

 

 

p0

 

 

e

 

1

 

 

 

 

I

jS S

 

 

n

 

 

 

p n0

 

 

 

 

,

 

 

 

 

L

 

 

L

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

eU

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

kT

 

 

 

 

 

 

 

(5.27)

 

 

 

 

 

 

 

I IS e

1 ,

 

 

 

 

где I

 

 

eDnnp0

 

eDp pn0

 

– обратный ток насыщения (очень ма-

S

S

 

 

L

 

 

 

 

L

p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ленькая величина), обусловленный неосновными носителями заряда, знак «+» соответствует прямому включению, знак «–» – обратному.

74

График вольт-амперной характеристики p–n-перехода показан на рис. 5.10.

I

Прямая ветвь

Обратная ветвь

U

Пробой

Рис. 5.10

При увеличении прямого напряжения ток через переход возрастает, поскольку высота потенциального барьера с ростом прямого напряжения уменьшается, а количество основных носителей заряда, обладающих достаточной энергией для преодоления барьера, увеличивается.

Обратный ток меньше прямого на несколько порядков, он создается неосновными носителями заряда, равен обратному току насыще-

ния IS и при росте обратного напряжения практически не меняется.

При больших напряжениях наступает пробой p–n-перехода – резкое увеличение обратного тока.

Оценим отношение прямого и обратного токов при одинаковом

напряжении

 

U

 

0,5 В

и

температуре

T 300 К .

Величина

 

 

kT 8,6 10 5 300 0,026 эВ.

 

 

 

 

 

0,5

 

 

Прямой ток

Iпр IS e

0,026

,

обратный

 

 

 

 

 

 

 

0,5

 

 

 

 

 

 

 

Iобр IS . Отношение

Iпр

 

IS e

0,026

 

e

19

. Таким образом, p–n-пе-

Iобр

IS

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

реход обладает выпрямляющими свойствами: он пропускает ток только в одном направлении, а в обратном не пропускает.

75

6. ПРИМЕРЫ РЕШЕНИЯ ЗАДАЧ

6.1. Концентрация носителей заряда в собственных полупроводниках

Задача 1. Вычислить концентрацию электронов вблизи дна зоны проводимости в Si при температуре T 100 К , если уровень Ферми расположен ниже дна зоны проводимости на 0,01 эВ.

Дано:

Концентрация электронов в зоне прово-

T 100 К ,

димости вычисляется по формуле (2.21)

EC EF 0,01эВ

 

 

 

EC EF

n ?

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n NСe

kT ,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2 m kT 3/2

 

 

где N

С

2

 

 

n

 

– эффективная плотность состояний.

 

2

 

 

 

h

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Эффективная масса электронов приведена в табл. 2.1 и составляет для кремния (Si ) mn 1,08m0 1,08 9,1 10 31 кг 9,83 10 31 кг, m0

масса свободного электрона.

Тогда эффективная плотность состояний

N

 

2

 

2 m kT 3/2

 

С

 

 

n

 

 

 

 

h

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2 2 9,83 10 31 1,38 10 23 100 3/2 5,4 1024 м 3.

(6,63 10 34)2

76

Теперь можно вычислять концентрацию электронов в зоне проводимости

 

 

 

 

 

 

n NCe

 

EC EF

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0,01

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

5

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

kT

 

5,4 1024e

8,610

1,7 1024м 3.

 

 

 

Ответ: n 1,7 1024м 3 .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Задача 2. Вычислить отношение концентраций электронов вблизи дна

зоны проводимости в

Ge

 

 

при температурах T1

300 К и T2

100 К,

если уровень Ферми расположен ниже дна зоны проводимости на 0,01 эВ.

Дано:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Концентрация электронов в зоне проводимо-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

T1 300 К,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

сти вычисляется по формуле (2.21)

 

 

T

 

100 К,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

EC EF

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0,01эВ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n N

 

 

 

 

e

 

 

 

kT

,

 

 

 

 

E E

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

С

 

 

 

 

 

 

 

 

 

C

 

 

F

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n1

 

?

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где N

 

 

2 m kT

3/2

– эффективная плотность состояний.

 

C

2

 

n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

h

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Запишем отношение концентраций при двух температурах:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2 m kT

3/2

 

EC EF

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

E

E

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

n

1

 

e

 

 

kT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

C

 

F

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

kT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n1

 

 

 

 

 

 

 

 

h

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

T1

e

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

EC EF

 

 

 

EC EF

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n2

 

 

 

 

2 m kT

3/2

 

 

 

 

 

 

 

T2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

kT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

n

2

 

e

kT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

e

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

h

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

e

 

 

 

 

0,01

 

 

 

 

 

 

e

 

 

0,01

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

3

 

8,610 5 300

 

3

8,610 5 300

 

 

3

0,68

6,58.

 

 

 

 

 

 

 

 

e

 

 

 

0,01

 

 

 

 

e

 

 

0,01

 

 

 

 

 

 

 

0,31

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

8,610 5100

 

 

 

 

8,610 5100

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ответ: n1 6,58. n2

77

Задача 3. Вычислить отношение концентраций электронов вблизи дна зоны проводимости для Ge и Si при одинаковой температуре, если в обоих полупроводниках уровень Ферми расположен ниже дна зоны проводимости на 0,1 эВ.

Дано:

 

 

 

 

 

Концентрация электронов в зоне проводимо-

 

 

 

 

 

T 300 К ,

 

 

сти вычисляется по формуле (2.21)

EC EF 0,1эВ

 

 

 

EC EF

 

 

 

 

 

n

 

?

 

 

 

 

n NСe

 

kT

,

n

 

 

 

 

 

 

 

Ge

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Si

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где

N

 

2

 

2 m kT 3/2

 

 

 

C

 

 

n

 

– эффективная плотность состояний.

 

 

 

 

h

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Запишем отношение концентраций для двух полупроводников, учитывая что температура одинакова:

 

 

 

 

 

2 m

kT

3/2

 

 

 

E

 

E

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

C

 

F

 

 

2

 

 

nGe

 

 

 

 

e

 

 

 

 

kT

 

 

 

 

 

h2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

nGe

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

2 m

kT

3/2

 

 

E

 

 

E

F

 

 

Si

 

 

 

 

 

 

e

 

C

 

 

 

 

 

 

2

 

nSi

 

 

 

 

 

 

 

 

kT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

h2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ответ:

nGe

1,93.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Si

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

mnGe 1,08 1,93. mnSi 0,56

Задача 4. Вычислить концентрацию дырок вблизи потолка валентной зоны в Si при температуре T 100 К , если уровень Ферми расположен выше потолка валентной зоны на 0,01 эВ.

Дано:

Концентрация электронов в зоне проводи-

T 100 К ,

мости вычисляется по формуле (2.22)

EF EV 0,01эВ

 

 

 

EF EV

 

 

 

 

p N e

 

kT

,

n ?

 

 

 

 

 

 

 

V

 

 

 

 

 

2 mpkT 3/2

 

 

 

где N

2

 

– эффективная плотность состояний.

 

V

 

h2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

78

Эффективную массу дырок для кремния (Si ) можно взять из табл. 2.1: mp 0,37m0 0,37 9,1 10 31 кг 3,37 10 31 кг , m0 – мас-

са свободного электрона.

Тогда эффективная плотность состояний

NV 2 2 mpkT 3/2

h2

2

 

2 3,37 10

31

1,38

10

23

100

3/2

1,08 1024

м 3.

 

 

 

 

 

 

(6,63 10

34

)

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Теперь можно вычислять концентрацию дырок в валентной зоне:

 

e

EF EV

 

0,01

 

 

8,6 10 5

 

p N

kT

1,08 1024e

3,38 1024м 3 .

V

 

 

 

 

 

Ответ: p 3,38 1024м 3 .

Задача 5. Вычислить собственную концентрацию носителей заряда в кремнии при температуре T 300 К , считая, что ширина запрещенной зоны не зависит от температуры.

Дано: Собственная концентрация носителей заряда вы- T 300 К числяется по формуле (2.24)

ni pi ?

 

 

 

 

 

 

 

Eg

 

 

 

 

n p

 

N

N e

2kT .

 

 

 

 

 

 

 

i i

 

 

С V

 

 

 

Эффективные плотности состояний NC

и NV

при T 300 К при-

ведены в табл. 2.2: N

С

2,8 1025 м3,

N

5,6 1024 м 3. Ширина за-

 

 

 

V

 

 

 

 

прещенной зоны для Si

Eg EC EV

1,21эВ (см. табл. 2.1),

kT 8,6 10 5 300 0,026 эВ.

79

Вычислим собственную концентрацию носителей заряда:

 

 

 

 

N e

Eg

 

2,8 1025 5,6 1024e

1,21

 

 

 

 

 

 

 

0,052

 

n p

 

N

2kT

 

 

i

i

 

 

С V

 

 

 

 

 

1,25 1025e 23,27 9,80 1014 м 3.

Ответ: ni pi 9,80 1014 м 3.

Задача 6. Вычислить собственную концентрацию носителей заряда в Si при температуре T 100 К , считая, что ширина запрещенной зоны не зависит от температуры.

Дано:

Собственная концентрация носителей заряда

T 100 К

вычисляется по формуле (2.24)

ni pi ?

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Eg

 

 

 

 

 

 

n p

 

N

N e

2kT .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

i

 

i

 

 

С V

 

 

 

Необходимо вычислить эффективные плотности состояний NС и

NV при T 100 К

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

N

 

2

 

2 m kT

3/2

 

 

 

 

 

C

 

 

 

n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

h

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2 9,83 10

31

 

1,38 10

23

100

3/2

5,4 1024

м 3.

2

 

 

 

 

 

 

 

 

(6,63 10

34

)

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2 m kT 3/2

 

 

 

 

 

 

 

N

 

 

2

 

 

 

 

p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

V

 

 

 

 

 

h

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

31

 

 

 

 

 

23

 

 

3/2

 

 

2

 

2 3,37 10

1,38 10

100

 

1,08 1024

м 3.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

6,63 10 34

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

80

Соседние файлы в предмете [НЕСОРТИРОВАННОЕ]