Скачиваний:
414
Добавлен:
15.03.2015
Размер:
9.87 Mб
Скачать

Относительное изменение ΔК(Е) /K(E) = (220160) /220 = 27,2%

хотя толщина стенки изменилась в 104 раз.

Отсюда следует, что при конструировании электростатических экранов марка материала и его толщина выбираются исходя из удобств изготовления, коррозионной стойкости, механической прочности. В табл. 6.2 приведены основные электрические характеристики конструкционных материалов для РЭС и их металлические покрытия.

Таблица 6.2

Материал

ρ 106,

μ

Материал

ρ 106,

μ

экрана

Ом

покрытия

Ом мм

 

 

Ст 10

120

100

Серебро

15

1

АМц

30

1

Алюмини

26

1

Д16

47,6

1

Медь

17

1

АЛ4

46,8

1

Никель

68

59.. 530

АЛ9

45,7

1

Хром

130

1

МА2

120

1

Кадмий

74

1

ВТЗ

1360

1

Цинк

59

1

Л90

45

1

Олово

113

1

Л68

72

1

Золото

22,5

1

ЛЖС58-1-1

70

1

Палладий

108

1

Пример 6.1. Определить размеры электростатического экрана для функционального узла на печатной плате с размерами 120x80x20 мм. Ослабление помехи на частоте 100 кГц не менее 120 дБ.

Выберем зазоры между печатной платой и экраном согласно обозначениям рис. 6.21: XI = Х2 = Y2 = 5 мм , Y1 = 15 мм для установки разъема. Раз-

меры экрана составят: ХЕ - 120 + 5 + 5 = 130 мм , YE = 80 + 5 + 15 = 100 мм, ZE = 20 + 5 + 5 = 30MM, откуда R = max {AE, YE, ZE}= 130мм.

Толщину экрана XT находим из формулы (6.13) после ее преобразо-

вания: t= 1,11•1O-12-K(E)fρR.

В качестве материала выбираем латунь Л68:

XТ=1,11- 10-12·106·105·72·10-6·130=1,04·10-3 мм≈1 мкм.

Из условий механической прочности, жесткости и технологии пластической деформации толщину стенки выбираем равной 0,4...0,5 мм.

Рассмотрим расчет конструкций электромагнитных экранов. Как следует из рассмотренных принципов конструирования электростатических и магнитных экранов, их работа основана на замыкании энергии соответствующих полей в материале экрана вследствие лучшей электропроводности или магнитопроводности материала по сравнению с окружающей средой.

273

 

Такой способ экранирования пригоден и

 

оправдан в области только низких частот. С

 

ростом

частоты

растет

величина вихревых

то-

 

ков в материале, наведенных полем помехи.

 

Энергия

помехи,

достигая

поверхности

экра-

 

на, вызывает появление этих токов. Глубина

 

проникновения токов наводки в стенку экрана

 

зависит от частоты из-за

явления

поверхност-

 

ного эффекта. По этим причинам величина

 

высокочастотного

тока

изменяется

по

сече-

 

нию

стенки по

закону, который для однород-

 

ного

материала

можно

 

считать

экспоненци-

 

альным (рис. 6.28):

 

 

 

 

 

 

 

 

I(x)=I(0)∙ехр{-αx},

(6.15)

 

где I(х) — амплитуда тока помехи на расстоянии x от

Рис. 6.28.

поверхности экрана; 7(0) — амплитуда тока помехи на

Поглощение

наружной поверхности экрана; а — коэффициент

электромагнитной

вихревых токов: α = [0,5ωμа/ρ]1/2, где μа = μ0μ.,

 

помехи за счет

0= 1,256- 10-8 Гн/см — магнитная проницаемость

 

скин-эффекта

вакуума; μ — относительная магнитная проницаемость.

 

Выполним преобразование: I (0) /I (х) = ехр {α х}.

 

Если I(0)/I(x) = е, то

 

х =1/α.

(6.16)

Толщина стенки экрана х, на которой ток наводки

ослабляется в е

раз, носит название скин-слоя, где е — основание натурального логарифма. Толщина скин-слоя находится по формуле

δ=x[I(0)/I(x) = e] =1/a Ом·м2/м.

(6.17)

Если выбрать единицы измерения f— в МГц, ρ — в Ом • мм2 /м , то

для магнитных материалов (μ>>1), таких как сталь,

пермаллои, фер-

риты, формула приобретает вид

 

δ ≈ 0,5 [ρ/(fμ)]1/2 мм.

(6.18)

Для немагнитных материалов (Al, Cu, Mg) μ= 1, и

 

δ ≈ 0,5 [ρ/f]1/2 мм.

(6.19)

 

274

Задаваясь величиной ослабления помехи К(э), можно по величине скин-слоя определить минимальную толщину стенки электромагнитного экрана:

t = lnK[э]/δ

В соответствии с энергетическими принципами [32, 33] коэффициент электромагнитного экранирования К(э) можно представить в виде совокупности двух составляющих: составляющей коэффициента экранирования за счет коэффициента отражение К(о) и составляющей экранирования за счет поглощения в материале экрана К(п). Анализ вклада каждой составляющей в суммарный коэффициент можно сделать на основании графиков рис. 6.29:

1 . Наибольший коэффициент электромагнитного экранирования достигается для материалов с волновым сопротивлением минимальной величины Z м . Поэтому при выборе материала следует соблюдать условие

Zд>>ZM,где Zд = 377 Ом.

(6.20)

Рис. 6.29.

Эффективность медного и алюминиевого покрытий при экранировании в зависимости

2.На частотах больше 1 МГц резко увеличивается вклад поглощения помехи за счет скин-эффекта, который, в

свою очередь, для материалов с меньшим удельным сопротивлением усиливается.

3.Тонкие проводящие пленки толщиной до 0,1 мм обеспечивают

достаточно высокое и постоянное ослабление помехи в широком диапазо-

не частот f< 100МГц.

Низкий уровень Z м обеспечивается материалами, имеющими в

своем составе высокое содержание алюминия, меди, серебра, золота, бериллия, марганца, т.е. металлов с удельным сопротивлением

ρ ≤50 • 10-6 Ом • мм. В общем случае толщина стенки экрана, обеспечивающая необходимую механическую прочность и жесткость конструкции, вполне достаточна для значительного подавления помехи от электромагнитной волны для К(э) = 100...200 дБ. Нетрудно видеть из графиков на рис. 6.30—6.32, что обычная алюминиевая, медная, латунная фольга толщиной 20...30 мкм обеспечивает высокую степень экранирования уже на частоте 100 кГц. В случае применения литых пластмассовых корпусов такую фольгу можно наклеивать на стенки специ-

275

Рис. 6.30. Эффектив-

Рис. 6.31. Эффективность

Рис. 6.32. Эффектив-

ность алюминиевых эк-

экранов из АРМКО

ностьэкранов излатуни

рановвзависимостиот

взависимостиотчастоты

ЛЖС58-1-1взависимости

частоты

отчастоты

 

альными клеями: фенольными (БФ, ВК), эпоксидными (ЭД, ВК-7, Л-4), полиамидными (МПФ-1), перхлорвиниловыми (ХВС22А, Д10, М-10). Другой способ экранирования пластмассовых корпусов РЭС заключается в нанесении на них тонких проводящих пленок. Так, с помощью вакуумного напыления можно нанести слой меди или алюминия до 4...5 мкм. Можно также использовать химическое осаждение меди. Реальный экран нельзя сделать абсолютно замкнутой металлической оболочкой. Так, для соединения с внешними цепями необходимы отверстия, чтобы вывести проводники. Для размещения электронного устройства экран необходимо делать разъемным. При соединении разъемных частей возможно появление щелей. Щели также могут появиться при неудачной пайке, сварке. Для отвода тепла с помощью естественной и принудительной конвекции конструктор вынужден предусмотреть отверстия. В результате на поверхности экрана неизбежно на-

личие отверстий различных форм и

размеров,

которые, естественно,

вызо-

вут снижение

экранирующих

свойств

конструкции. Необходимо свести к

минимуму

эти

нежелателпные

явле-

ния.

 

 

 

 

Типичными

формами

отверстий

в

 

экране можно считать прямоугольную щель

Рис. 6.33. Типичные

с размерами X

и Y

(рис. 6.33,

б)

и круглое отверстие диаметром D (рис. 6.33,

а).

отверстия

в экране: а — круглое

При наличии прямо-

 

 

 

отверстие;

 

 

 

 

б — прямоугольная щель

 

 

 

 

угольной щели эффективность электрически негерметичных экранов можно подсчитать по формуле

æ

 

 

 

ö

 

t

 

 

 

XY

 

 

K(э) = -20lgç

4.16

 

 

 

÷

+ 27.3

 

дБ>> 2X

 

 

 

 

ç

 

 

λ

÷

 

X

 

è

 

 

ø

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(6.21)

Для вентиляции и установки индикаторов и органов регулировки в экране делаются круглые отверстия. В этом случае эффективность экрана вычисляется по формуле

K(э)=-20lg(3.3D/λ) +32t/D, дБ; λ>>πD (6.22)

Появление отверстий в экране не окажет значительного влияния, если Х≤ 0,05 λ

7. КОНСТРУИРОВАНИЕ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ СОЕДИНЕНИЙ

7.1. Особенности конструирования электрических соединений

Конструкция электрических соединений в значительной степени определяет качество и надежность конструкции РЭС. Искажение, затухание и задержка сигнала в электрической линии связи, а также помехи могут нарушить нормальное функционирование РЭС: вызвать сбой цифрового или изменить параметры аналогового изделия. Кроме того, методы монтажа [34, 35] влияют на массогабаритные показатели РЭС. От монтажа фактически зависят в настоящее время трудоемкость и стоимость изделий: только операции сборки составляют 50...70% от общей трудоемкости изделий; в результате монтажа чаще всего возника-

ет потребность в использовании драгоценных металлов, а также таких остродефицитных материалов, как вольфрам, ковар и др. Нельзя также забывать, что надежность РЭС во многом определяется числом сварных и паяных соединений, т.е. процессом монтажа.

Развитие методов монтажа оказывает существенное влияние на конструктивное исполнение устройств РЭС; в свою очередь, методы монтажа в значительной мере зависят от назначения РЭС.

Поиск оптимального конкретного конструктивно-технологического варианта должен проводиться с учетом элементной базы и техники монтажа. В соответствии с ТЗ на конкретный вид РЭС должны быть последовательно рассмотрены следующие вопросы, связанные с процессами монтажа: общая компоновка, компоновочная совместимость принятой элементной базы и межсоединений; обеспечение защиты изделий от дестабилизирующих факторов, обеспечение технологичности, удобства эксплуатации и ремонта.

277

К основным этапам конструирования электрических соединений, удовлетворяющих требованиям ЭМС, относятся:

расчет электрофизических параметров линий связи; построение математических моделей линий, плат, элементной базы,

узлов и изделий в целом, пригодных для анализа их работы на ЭВМ; оценка помехозащищенности узлов с помощью расчета помех в ли-

ниях связи коммутационных плат и межблочных соединениях и сопоставление ее с допустимой.

При расчете параметров линий связи исходят из квазистатистического приближения, что позволяет существенно упростить решаемую задачу, сводя ее к статическому режиму. При этом применяется наиболее общая модель элементарного отрезка линии, состоящая из последовательно соединенных индуктивности L и активного сопротивления R и параллельно включенных емкости С и проводимости а (табл. 7.1, п. 1). При использовании диэлектриков в составе линии с очень малой проводимостью (σ ≈ 0 модель упрощается (табл. 7.1, п. 2), и для большинства случаев рассматриваются линии без потерь (табл. 7.1, п. 3), для которых активное сопротивление пренебрежимо мало по сравнению с индуктивным. При проектировании линии связи можно характеризовать физическими параметрами: волновым сопротивлением Z, коэффициентом распространения волны в линии γ, коэффициентом фазы β, коэффициентом затухания а, фазовой скоростью V^ , удельным временем задержки распространения сигнала t'3 = l/VФ,. Модели элементарных звеньев линии связи и их параметры представлены в табл. 7.1.

При анализе внутриаппаратурной ЭМС полезными оказываются некоторые фундаментальные соотношения между электрическими параметрами линий связи без потерь, справедливые при квазистатическом приближении [33]. Эти соотношения приведены в табл. 7.2.

Недостаточное внимание, уделяемое вопросам искажения сигналов

влиниях связи, приводит к неполному использованию скоростных возможностей электронных логических элементов и вносит ненадежность

вработу аппаратуры за счет появления ложных сигналов (помех).

7.2. Помехи и связи между элементами в РЭС

Помехой для РЭС является внешнее или внутреннее воздействие, приводящее к искажению информации во время ее хранения, преобразования, обработки или передачи.

Существует большое число различного рода помех, которые могут быть классифицированы по причине наведения, характеру проявления и пути распространения (рис. 7.1). Характерными особенностями помех

278

Таблица 7.1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Таблица 7.2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Наименован

Обозн

 

 

 

 

Расчетная формула

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Примечание

п/ п

ие

 

а-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

параметра

чение

Основная

 

 

Через

 

 

Через е t

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

базовый

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

параметр

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

Погонная

емкость

С

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

C0ε r эф

 

 

 

 

 

линии,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Диэлектрическая

 

Ф/м

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Погонная

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

постоянная -12

2

индуктивность

L

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ε0 = 8,85 ∙10

Ф/м

линии, Гн/м

 

 

 

1 VC C0

 

 

 

 

 

Магнитная

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

постоянная

-6 Гн/м

 

Волновое

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

μ0= 1,256∙10

 

 

 

 

L/C

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

3

сопротивле-

Z

 

 

1/vc

 

 

C0 C

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Скорость света в вакууме

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

VC C0

 

 

εrээ

 

ние, Ом

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Vc =

1

 

= 3×108 м / с

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

με0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

VC

Эффективная

 

 

 

 

1/ L/C

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

4

Фазовая

скорость,

VФ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

относительная

 

 

V

 

C

 

C

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

диэлектрическая

м/с

 

 

0

 

 

 

 

 

εrээ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

C

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

проницаемость

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Удельное

время

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ε r эф=C/C0

 

 

 

L/C

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

задерж-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

εrээ

 

 

 

 

 

5

 

t'з,

 

 

 

 

C0 C

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ки распространения

 

 

 

 

 

 

 

 

VC

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

V

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

сигнала в линии, с/и

 

 

 

 

 

 

 

C

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Рис. 7.1. Классификация помех в РЭС

в линиях связи являются относительно малая длительность и большая интенсивность. Существенное отрицательное воздействие оказывают также и менее интенсивные, но более длительные возмущения.

Основные причины, вызывающие искажения сигналов при прохождении их по линиям связи РЭС, следующие:

искажение формы сигнала при прохождении по цепям связи; отражения от несогласованных нагрузок и неоднородностей; перекрестные наводки из-за наличия паразитной связи между со-

седними цепями; паразитные связи по цепям питания и земли;

наводки от внешних электрических, магнитных и электромагнитных полей.

Степень влияния каждого из перечисленных факторов на искажение сигналов зависит от характеристики линий связи, логических элементов и сигналов.

Связи между элементами в РЭС можно выполнить различными способами:

281

ввиде печатных или навесных проводников — для сравнительно медленных РЭС;

ввиде печатных полосковых линий, свитых пар (бифиляров) — в РЭС с повышенными скоростями работы.

Рассмотрим однородную линию связи, представляющую собой два параллельных провода, с волновым сопротивлением Z0 .

При прохождении сигнала вдоль линии будут наблюдаться его искажения, выражающиеся в виде изменения амплитуды и формы. Точный анализ переходных процессов в линии с распределенными параметрами аналитическим способом сложен даже для простейшей схемы, состоящей из приемного или передающего элементов (рис. 7.2,а).

Рис. 7.2. Принципиальная (а), эквивалентная (б) схемы связи двух элементов играфикипереходныхпроцессов (в)всогласованнойлиниисвязи:

/ — RT и RH = Z0; 2Rr и RX>Z0 или Дг и RK<Z0;

3 — RT>Z0, RK<Z0 или Rr<Z0, Rn>Z0

При анализе переходных процессов передающий элемент моделируется источником напряжения и выхс последовательно подключенным

сопротивлением R г , приемный — сопротивлением R н (рис. 7.2, б). Минимальные искажения сигнала, выраженные в задержке на вели-

 

tз =

l

чину (где / — длина линии, Кф — фазовая скорость

 

Vф

 

электромагнитной волны), и некоторое уменьшение

амплитуды сигнала до

U н =

Rн

будут иметь место в режиме согласованной линии (кривая

RГ + RН

 

 

 

282