
- •Введение
- •1. Физические основы работы приборов твердотельной электроники
- •1.1. Зонная структура полупроводников
- •1.2. Собственные и примесные полупроводники
- •1.3. Статистика электронов и дырок в полупроводниках. Концентрация носителей заряда и положение уровня Ферми
- •1.4. Концентрация электронов и дырок в собственном полупроводнике
- •1.5. Концентрация электронов и дырок в примесном полупроводнике
- •1.6. Определение положения уровня Ферми
- •1.7. Проводимость полупроводников
- •1.8. Токи в полупроводниках
- •1.9. Неравновесные носители. Генерация и рекомбинация носителей
- •1.10. Уравнение непрерывности
- •1.11. Электрические поля в кристаллах
- •2. Контактные явления
- •2.1. Разновидности электрических переходов и контактов
- •2.2. Электронно-дырочный переход
- •Равновесия
- •2.2.2. Контактная разность потенциалов
- •2.2.3. Ширина p-n-перехода
- •2.2.4. Прямое включение р-n-перехода
- •2.2.5. Уровень инжекции
- •2.2.6. Обратное включение р-n-перехода
- •2.2.7. Теоретическая вольт-амперная характеристика
- •2.2.8. Вольт-амперная характеристика реального
- •2.2.9. Вольт-амперная характеристика р-п-перехода в полулогарифмических координатах
- •2.2.10. Пробой р-п-перехода
- •2.2.11. Емкость p-n-перехода
- •2.2.12. Переходные процессы в p-n-переходах
- •2.2.13. Частотные свойства p-n-перехода
- •2.2.14. Эквивалентные схемы р-п-перехода
- •2.2.15. Влияние температуры на свойства
- •2.3. Разновидности электрических переходов
- •2.3.1. Гетеропереходы
- •2.3.2. Контакт полупроводников с одним типом электропроводности
- •2.3.3. Контакт металл – полупроводник. Барьер Шоттки
- •2.3.4. Омические контакты
- •2.3.5. Явления на поверхности полупроводников
- •3.2. Область пространственного заряда в равновесных условиях
- •3.3. Приповерхностная область пространственного заряда
- •3.4. Распределение плотности пространственного заряда, электрического поля и потенциала в идеальной
- •3.5. Вольт-фарадные характеристики идеальной
- •3.5.1. Емкость области пространственного заряда
- •3.5.2. Емкость мдп-структур
- •3.6. Компоненты заряда в реальном диоксиде кремния и их влияние на вфх мдп-структуры
- •3.7. Распределение плотности пространственного заряда, электрического поля и потенциала в реальной
- •3.8. Определение параметров мдп-структур на основе анализа c-V характеристик
- •4. Полупроводниковые диоды
- •4.1. Методы изготовления полупроводниковых диодов
- •4.2. Выпрямительные диоды
- •4.3. Варикапы
- •4.4. Стабилитроны
- •4.5. Туннельный и обращенный диоды
- •4.6. Высокочастотные и сверхвысокочастотные диоды
- •4.7. Импульсные диоды
- •5. Биполярные транзисторы
- •5.1. Структура и основные режимы работы
- •5.2. Схемы включения транзистора
- •5.3. Основные физические процессы в биполярных транзисторах
- •5.4. Модуляция сопротивления базы
- •5.5. Статические характеристики биполярных транзисторов
- •Как четырехполюсник
- •5.6. Эквивалентная схема биполярного транзистора
- •5.7. Дифференциальные параметры биполярных транзисторов в схеме с общей базой
- •5.8. Дифференциальные параметры биполярных транзисторов в схеме с общим эмиттером
- •5.9. Малосигнальные параметры биполярного транзистора
- •5.9.1. Система z-параметров
- •5.9.2. Система y-параметров
- •5.9.3. Система h-параметров
- •5.10. Частотные и импульсные свойства транзисторов
- •6. Тиристоры
- •6.1. Структура и принцип действия
- •6.2. Основные параметры тиристоров
- •6.3. Феноменологическое описание вах динистора
- •6.4. Способы включения и выключения тиристоров
- •7. Полевые транзисторы и приборы с зарядовой связью
- •7.1. Полевой транзистор с управляющим p-n-переходом
- •7.3. Эффект смещения подложки
- •7.4. Эквивалентная схема мдп‑транзистора
- •7.5. Подпороговые характеристики мдп-транзистора
- •7.6. Приборы с зарядовой связью
- •Заключение
- •Библиографический список
- •Оглавление
- •394026 Воронеж, Московский просп., 14
5.6. Эквивалентная схема биполярного транзистора
Эквивалентная схема – эта схема, в которой реальные процессы в нелинейных устройствах заменены на набор активных (источники тока и напряжения) и пассивных (резисторы, емкости) элементов, адекватно описывающих взаимосвязь входных и выходных параметров. На основе рассмотренных характеристик представим эквивалентную схему транзистора при включении по схеме с общей базой и общим эмиттером в следующем виде (рис. 5.12, 5.13). Приведенная эквивалентная схема справедлива для рассмотрения статических характеристик биполярного транзистора, а также для рассмотрения этих характеристик в области низких частот. Эта схема называется Т-образной эквивалентной схемой, отражает основные физические процессы, происходящие в транзисторе, и удобна для их анализа.
Рис. 5.12. Эквивалентная схема биполярного транзистора
при включении по схеме с общей базой
Рис. 5.13. Эквивалентная схема биполярного транзистора
при включении по схеме с общим эмиттером
На эквивалентных схемах изображены основные пассивные элементы (сопротивления rэ, rк, rб , емкости коллекторного СБ и эмиттерного Сдиф переходов), активные элементы (генераторы тока JЭ, JБ в коллекторной цепи, источник ЭДС экUк в эмиттерной цепи, отражающий обратную связь между эмиттером и коллектором).
Основные параметры эквивалентной схемы транзистора выражаются через конструктивно-технологические параметры следующим образом:
;
Величины коэффициентов , rэ, rк, эк для биполярного транзистора лежат в пределах: = 0,95 - 0,995, rэ = 1 - 10 Ом, rк = 10 - 106 Ом, эк = 10-3÷10-5.
Для биполярного транзистора при включении по схеме с общим эмиттером эквивалентная схема выглядит аналогично.
Основные параметры эквивалентной схемы имеют тот же вид, что и в схеме с общей базой, кроме Ск* и rк*, равных: Ск* = Ск( + 1), rк* = rк( + 1).
Формулы Эберса – Молла являются универсальными соотношениями, которые описывают характеристики биполярных транзисторов во всех режимах работы.
Для такого рассмотрения представим БТ в виде эквивалентной схемы, приведенной на рис. 5.14. Два диода и два источника тока включены навстречу друг другу. Источники токов управляют токами диодов, сами диоды считаются идеальными.
Рис. 5.14. Эквивалентная схема биполярных транзисторов во всех режимах работы
При нормальном включении через эмиттерный p-n-переход течет ток I1, через коллекторный переход течет ток αNI1 – меньший чем I1, вследствие рекомбинации части инжектированных носителей в базе. На рис. 5.14 этот процесс изображен как генератор тока αNI1, где αN – коэффициент передачи эмиттерного тока. При инверсном включении транзистора прямому коллекторному току I2 будет соответствовать эмиттерный ток αII2, где αI – коэффициент инверсии. Таким образом, токи эмиттера Jэ и коллектора Jк в общем случае состоят из инжектируемого (I1 или I2) и экстрагируемого (αNI1 или αII2) токов:
(5.18)
Величины токов I1 и I2 выражаются для p-n-переходов стандартным способом:
(5.19)
где Iэ0' и Iк0' – тепловые (обратные) токи p-n-переходов. Отметим, что токи Iэ0' и Iк0' отличаются от обратных токов эмиттера Iэ0 и коллектора Iк0 биполярного транзистора.
Оборвем цепь эмиттера (Jэ = 0) и подадим на коллекторный переход большое запирающее напряжение Uк. Ток, протекающий в цепи коллектора при этих условиях, будем называть тепловым током коллектора Iк0. Поскольку Jэ = 0, из (5.18) следует, что I1 = αII2, а из (5.19) I2 = - Iк0', поскольку U >> kT/q.
Полагая Jк = Iк0, получаем в этом случае:
,
.
(5.20)
Отличие обратных токов Iк0 и Iк0' состоит в том, что ток Iк0 определяется при короткозамкнутой цепи эмиттера (Uэ = 0), а ток Iк0' - при разомкнутой (Jэ = 0).
Обозначим ток эмиттера при большом отрицательном смещении и разомкнутой цепи коллектора через Iэ0' – тепловой ток эмиттера:
.
(5.21)
Величины теплового эмиттерного и коллекторного токов значительно меньше, чем соответствующие тепловые токи диодов.
Подставляя (5.19) в (5.18), получаем:
,
,
(5.22)
,
где Jб – ток базы, равный разности токов эмиттера Jэ и коллектора Jк.
Формулы (5.22) получили название формул Эберса – Молла и полезны для анализа статических характеристик биполярного транзистора при любых сочетаниях знаков токов и напряжений.
При измерении теплового тока коллектора Iк0 дырки как неосновные носители уходят из базы в коллектор: Jк = Jб (Jэ = 0). При этом поток дырок из базы в эмиттер не уравновешен и их переходит из эмиттера в базу больше, чем в равновесных условиях. Это вызовет накопление избыточного положительного заряда в базе и увеличение потенциального барьера на переходе эмиттер – база, что, в конце концов, скомпенсирует дырочные токи.
Таким образом, необходимо отметить, что при изменении теплового тока коллектора эмиттер будет заряжаться отрицательно по отношению к базе.