- •Введение
- •1. Физические основы работы приборов твердотельной электроники
- •1.1. Зонная структура полупроводников
- •1.2. Собственные и примесные полупроводники
- •1.3. Статистика электронов и дырок в полупроводниках. Концентрация носителей заряда и положение уровня Ферми
- •1.4. Концентрация электронов и дырок в собственном полупроводнике
- •1.5. Концентрация электронов и дырок в примесном полупроводнике
- •1.6. Определение положения уровня Ферми
- •1.7. Проводимость полупроводников
- •1.8. Токи в полупроводниках
- •1.9. Неравновесные носители. Генерация и рекомбинация носителей
- •1.10. Уравнение непрерывности
- •1.11. Электрические поля в кристаллах
- •2. Контактные явления
- •2.1. Разновидности электрических переходов и контактов
- •2.2. Электронно-дырочный переход
- •Равновесия
- •2.2.2. Контактная разность потенциалов
- •2.2.3. Ширина p-n-перехода
- •2.2.4. Прямое включение р-n-перехода
- •2.2.5. Уровень инжекции
- •2.2.6. Обратное включение р-n-перехода
- •2.2.7. Теоретическая вольт-амперная характеристика
- •2.2.8. Вольт-амперная характеристика реального
- •2.2.9. Вольт-амперная характеристика р-п-перехода в полулогарифмических координатах
- •2.2.10. Пробой р-п-перехода
- •2.2.11. Емкость p-n-перехода
- •2.2.12. Переходные процессы в p-n-переходах
- •2.2.13. Частотные свойства p-n-перехода
- •2.2.14. Эквивалентные схемы р-п-перехода
- •2.2.15. Влияние температуры на свойства
- •2.3. Разновидности электрических переходов
- •2.3.1. Гетеропереходы
- •2.3.2. Контакт полупроводников с одним типом электропроводности
- •2.3.3. Контакт металл – полупроводник. Барьер Шоттки
- •2.3.4. Омические контакты
- •2.3.5. Явления на поверхности полупроводников
- •3.2. Область пространственного заряда в равновесных условиях
- •3.3. Приповерхностная область пространственного заряда
- •3.4. Распределение плотности пространственного заряда, электрического поля и потенциала в идеальной
- •3.5. Вольт-фарадные характеристики идеальной
- •3.5.1. Емкость области пространственного заряда
- •3.5.2. Емкость мдп-структур
- •3.6. Компоненты заряда в реальном диоксиде кремния и их влияние на вфх мдп-структуры
- •3.7. Распределение плотности пространственного заряда, электрического поля и потенциала в реальной
- •3.8. Определение параметров мдп-структур на основе анализа c-V характеристик
- •4. Полупроводниковые диоды
- •4.1. Методы изготовления полупроводниковых диодов
- •4.2. Выпрямительные диоды
- •4.3. Варикапы
- •4.4. Стабилитроны
- •4.5. Туннельный и обращенный диоды
- •4.6. Высокочастотные и сверхвысокочастотные диоды
- •4.7. Импульсные диоды
- •5. Биполярные транзисторы
- •5.1. Структура и основные режимы работы
- •5.2. Схемы включения транзистора
- •5.3. Основные физические процессы в биполярных транзисторах
- •5.4. Модуляция сопротивления базы
- •5.5. Статические характеристики биполярных транзисторов
- •Как четырехполюсник
- •5.6. Эквивалентная схема биполярного транзистора
- •5.7. Дифференциальные параметры биполярных транзисторов в схеме с общей базой
- •5.8. Дифференциальные параметры биполярных транзисторов в схеме с общим эмиттером
- •5.9. Малосигнальные параметры биполярного транзистора
- •5.9.1. Система z-параметров
- •5.9.2. Система y-параметров
- •5.9.3. Система h-параметров
- •5.10. Частотные и импульсные свойства транзисторов
- •6. Тиристоры
- •6.1. Структура и принцип действия
- •6.2. Основные параметры тиристоров
- •6.3. Феноменологическое описание вах динистора
- •6.4. Способы включения и выключения тиристоров
- •7. Полевые транзисторы и приборы с зарядовой связью
- •7.1. Полевой транзистор с управляющим p-n-переходом
- •7.3. Эффект смещения подложки
- •7.4. Эквивалентная схема мдп‑транзистора
- •7.5. Подпороговые характеристики мдп-транзистора
- •7.6. Приборы с зарядовой связью
- •Заключение
- •Библиографический список
- •Оглавление
- •394026 Воронеж, Московский просп., 14
2.2.7. Теоретическая вольт-амперная характеристика
р-n-перехода
Вольт-амперная характеристика представляет собой график зависимости тока во внешней цепи p-n-перехода от величины и полярности напряжения, прикладываемого к нему. Этна зависимость может быть получена экспериментально или рассчитана на основании уравнения вольт-амперной характеристике. Для облегчения расчетов обычно выбирают упрощенную модель реального p-n-перехода, то есть идеальный p-n-перехода.
p-n-переход считается идеальным при следующих условиях:
1) в обедненном слое нет генерации, рекомбинации и рассеяния носителей; носители проходят через обедненный слой мгновенно, то есть токи носителей одного знака на обеих границах одинаковы;
2) вне обедненного слоя нет электрического поля, здесь носители движутся только вследствие диффузии; сопротивление нейтральных областей пренебрежимо мало по сравнению с сопротивлением обедненного слоя; уровень инжекции низкий;
3) границы p-n-перехода плоские, носители движутся только в направлении перпендикулярном этим границам, краевые эффекты не учитываются, то есть p-n-переход плоскопараллелен, бесконечной протяженности;
4) внешние области за границами p-n-перехода электрически нейтральны, заряд инжектированных неосновных носителей быстро нейтрализуется основными носителями, поступающими из внешней цепи. Толщина нейтральных областей много больше диффузионной длины неосновных носителей в этих областях.
Получим вольт-амперную характеристику p-n-перехода. Для этого запишем уравнение непрерывности в общем виде:
. (2.26)
Будем рассматривать стационарный случай .
Рассмотрим ток в квазинейтральном объеме полупроводника n-типа справа от обедненной области p‑n перехода (x > 0). Темп генерации G в квазинейтральном объеме равен нулю: G = 0. Электрическое поле E тоже равно нулю: E = 0. Дрейфовая компонента тока также равна нулю: IE = 0, следовательно, ток диффузионный . Темп рекомбинации R при малом уровне инжекции описывается соотношением
. (2.27)
Воспользуемся следующим соотношением, связывающим коэффициент диффузии, длину диффузии и время жизни неосновных носителей: D = Lp2.
С учетом отмеченных выше допущений уравнение непрерывности имеет вид
. (2.28)
Граничные условия для диффузионного уравнения в p-n-переходе имеют вид:
при x = 0, ; при x → ∞, . (2.29)
Решение дифференциального уравнения (2.28) с граничными условиями (2.29) имеет вид:
. (2.30)
Соотношение (2.30) описывает закон распределения инжектированных дырок в квазинейтральном объеме полупроводника n‑типа для электронно-дырочного перехода (рис. 2.11). В токе p-n-перехода принимают участие все носители, пересекшие границу ОПЗ с квазинейтральным объемом p-n-перехода. Поскольку весь ток диффузионный, подставляя (2.30) в выражение для тока, получаем:
. (2.31)
Рис. 2.11. Распределение неравновесных инжектированных
из эмиттера носителей по квазинейтральному объему базы
p-n-перехода
Соотношение (2.31) описывает диффузионную компоненту дырочного тока p-n-перехода, возникающую при инжекции неосновных носителей при прямом смещении. Для электронной компоненты тока p-n-перехода аналогично получаем:
. (2.31, а)
На рис. 2.12 изображены диффузионные токи в несимметричном p-n-переходе при прямом смещении.
При VG = 0 дрейфовые и диффузионные компоненты уравновешивают друг друга. Следовательно,
.
Полный ток p-n-перехода является суммой всех четырех компонент тока p-n-перехода:
Рис. 2.12. Токи в несимметричном p-n-nереходе
при прямом смещении
. (2.32)
Выражение в скобках имеет физический смысл обратного тока p‑n-перехода. Действительно, при отрицательных напряжениях VG < 0 ток дрейфовый и обусловлен неосновными носителями. Все эти носители уходят из цилиндра длиной Ln со скоростью Ln/p. Тогда для дрейфовой компоненты тока получаем:
.
Нетрудно видеть, что это соотношение эквивалентно полученному ранее при анализе уравнения непрерывности.
Если требуется реализовать условие односторонней инжекции (например, только инжекции дырок), то из соотношения (2.32) следует, что нужно выбрать малое значение концентрации неосновных носителей np0 в p-области. Отсюда следует, что полупроводник p‑типа должен быть сильно легирован по сравнению с полупроводником n-типа: NA >> ND. В этом случае в токе p-n-перехода будет доминировать дырочная компонента (рис. 2.12).
Таким образом, ВАХ p-n-перехода имеет вид:
. (2.33)
Плотность тока насыщения Js равна:
. (2.34)
ВАХ p-n-перехода, описываемая соотношением (2.33), приведена на рис. 2.13.
Рис. 2.13. Вольт-амперная характеристика идеального
p-n-перехода
Как следует из соотношения (2.33) и рис. 2.13, вольт-амперная характеристика идеального p-n-перехода имеет ярко выраженный несимметричный вид. В области прямых напряжений ток p-n-перехода диффузионный и экспоненциально возрастает с ростом приложенного напряжения. В области отрицательных напряжений ток p-n-перехода – дрейфовый и не зависит от приложенного напряжения.