- •Введение
- •1. Физические основы работы приборов твердотельной электроники
- •1.1. Зонная структура полупроводников
- •1.2. Собственные и примесные полупроводники
- •1.3. Статистика электронов и дырок в полупроводниках. Концентрация носителей заряда и положение уровня Ферми
- •1.4. Концентрация электронов и дырок в собственном полупроводнике
- •1.5. Концентрация электронов и дырок в примесном полупроводнике
- •1.6. Определение положения уровня Ферми
- •1.7. Проводимость полупроводников
- •1.8. Токи в полупроводниках
- •1.9. Неравновесные носители. Генерация и рекомбинация носителей
- •1.10. Уравнение непрерывности
- •1.11. Электрические поля в кристаллах
- •2. Контактные явления
- •2.1. Разновидности электрических переходов и контактов
- •2.2. Электронно-дырочный переход
- •Равновесия
- •2.2.2. Контактная разность потенциалов
- •2.2.3. Ширина p-n-перехода
- •2.2.4. Прямое включение р-n-перехода
- •2.2.5. Уровень инжекции
- •2.2.6. Обратное включение р-n-перехода
- •2.2.7. Теоретическая вольт-амперная характеристика
- •2.2.8. Вольт-амперная характеристика реального
- •2.2.9. Вольт-амперная характеристика р-п-перехода в полулогарифмических координатах
- •2.2.10. Пробой р-п-перехода
- •2.2.11. Емкость p-n-перехода
- •2.2.12. Переходные процессы в p-n-переходах
- •2.2.13. Частотные свойства p-n-перехода
- •2.2.14. Эквивалентные схемы р-п-перехода
- •2.2.15. Влияние температуры на свойства
- •2.3. Разновидности электрических переходов
- •2.3.1. Гетеропереходы
- •2.3.2. Контакт полупроводников с одним типом электропроводности
- •2.3.3. Контакт металл – полупроводник. Барьер Шоттки
- •2.3.4. Омические контакты
- •2.3.5. Явления на поверхности полупроводников
- •3.2. Область пространственного заряда в равновесных условиях
- •3.3. Приповерхностная область пространственного заряда
- •3.4. Распределение плотности пространственного заряда, электрического поля и потенциала в идеальной
- •3.5. Вольт-фарадные характеристики идеальной
- •3.5.1. Емкость области пространственного заряда
- •3.5.2. Емкость мдп-структур
- •3.6. Компоненты заряда в реальном диоксиде кремния и их влияние на вфх мдп-структуры
- •3.7. Распределение плотности пространственного заряда, электрического поля и потенциала в реальной
- •3.8. Определение параметров мдп-структур на основе анализа c-V характеристик
- •4. Полупроводниковые диоды
- •4.1. Методы изготовления полупроводниковых диодов
- •4.2. Выпрямительные диоды
- •4.3. Варикапы
- •4.4. Стабилитроны
- •4.5. Туннельный и обращенный диоды
- •4.6. Высокочастотные и сверхвысокочастотные диоды
- •4.7. Импульсные диоды
- •5. Биполярные транзисторы
- •5.1. Структура и основные режимы работы
- •5.2. Схемы включения транзистора
- •5.3. Основные физические процессы в биполярных транзисторах
- •5.4. Модуляция сопротивления базы
- •5.5. Статические характеристики биполярных транзисторов
- •Как четырехполюсник
- •5.6. Эквивалентная схема биполярного транзистора
- •5.7. Дифференциальные параметры биполярных транзисторов в схеме с общей базой
- •5.8. Дифференциальные параметры биполярных транзисторов в схеме с общим эмиттером
- •5.9. Малосигнальные параметры биполярного транзистора
- •5.9.1. Система z-параметров
- •5.9.2. Система y-параметров
- •5.9.3. Система h-параметров
- •5.10. Частотные и импульсные свойства транзисторов
- •6. Тиристоры
- •6.1. Структура и принцип действия
- •6.2. Основные параметры тиристоров
- •6.3. Феноменологическое описание вах динистора
- •6.4. Способы включения и выключения тиристоров
- •7. Полевые транзисторы и приборы с зарядовой связью
- •7.1. Полевой транзистор с управляющим p-n-переходом
- •7.3. Эффект смещения подложки
- •7.4. Эквивалентная схема мдп‑транзистора
- •7.5. Подпороговые характеристики мдп-транзистора
- •7.6. Приборы с зарядовой связью
- •Заключение
- •Библиографический список
- •Оглавление
- •394026 Воронеж, Московский просп., 14
5.4. Модуляция сопротивления базы
Как известно, ширина р-п-перехода зависит от напряжения на нем. В активном режиме эмиттерный переход смещен в прямом направлении, его ширина мала и изменение этой ширины при изменении UЭБ незначительно. Коллекторный переход, смещенный в обратном направлении, имеет сравнительно большую ширину, и изменения ее при изменениях напряжения UКБ оказываются практически равными изменениям толщины базы.
Изменение ширины базы, под действием изменения напряжения смещения коллекторного перехода UКБ называется модуляцией ширины базы или эффектом Эрли (рис. 5.7).
Изменение ширины базы существенно влияет на физические процессы в базе.
Рис. 5.7. Эффект Эрли – эффект модуляции ширины базы биполярного транзистора
При постоянном токе эмиттера Jэ = const и соответственно постоянном градиенте концентрации инжектированных носителей с увеличением напряжения на коллекторе UКБ увеличивается ширина обедненной области lp-n коллекторного перехода, что вызывает уменьшение ширины квазинейтрального объема базы W. Это, в свою очередь, влечет за собой уменьшение концентрации инжектированных носителей рn(0) на границе эмиттерного перехода (так как градиент должен оставаться постоянным) (рис. 5.8). Поскольку концентрация инжектированных дырок на границе эмиттерного перехода рn(0) = p0·exp(UЭБ) определяется напряжением на эмиттере, то ее уменьшение возможно только при уменьшении напряжения UЭБ на эмиттере. Таким образом, если поставлено условие: Jэ = const, , то при увеличении коллекторного напряжения UКБ должно происходить уменьшение эмиттерного напряжения UЭБ.
Рис. 5.8. Влияние эффекта модуляции ширины базы БТ
на концентрацию неосновных носителей на границе
эмиттер – база
При постоянном напряжении на эмиттерном переходе UЭБ = const с увеличением UКБ, то есть при уменьшение ширины квазинейтрального объема базы W, концентрация дырок у эмиттерного перехода остается неизменной рn(0) = const. Тогда изменяется градиент концентрации инжектированных носителей , что эквивалентно изменению тока эмиттера Jэ, в данном случае он увеличивается.
Следовательно, если одна из входных величин (Jэ или UЭБ) задана, то вторая оказывается функцией коллекторного напряжения. Такое влияние называется внутренней обратной связью по напряжению.
Коэффициент обратной связи по напряжению в биполярном транзисторе в схеме с общей базой показывает, как изменится напряжение на эмиттерном переходе при единичном изменении напряжения на коллекторном переходе при условии, что ток эмиттера поддерживается постоянным .
5.5. Статические характеристики биполярных транзисторов
С точки зрения теории электрических цепей транзистор, имеющий три вывода, представляет собой трехполюсник. При включении трехполюсника один вывод является входным, другой – выходным, а третий вывод является общим. Поэтому трехполюсник можно представить как четырехполюсник (рис. 5.9), обозначив входной ток и входное напряжение индексом «1», а выходные ток и напряжение индексом «2». Одним семейством статических характеристик устанавливается связь между тремя из четырех величин. Одна из этих величин выбирается независимой переменной (аргументом), и величина ее откладывается по оси абсцисс. Вторая величина будет зависимой переменной (функцией), величина которой откладывается по оси ординат. Из оставшихся двух величин одну выбирают постоянной, другую оставляют свободной, т.е. не учитывают. Ряд кривых, полученных для различных постоянных значений третьей величины, называемой параметром, и будет представлять собой семейство статических вольт-амперных характеристик.
Рис. 5.9. Схема трехполюсника, включенного