- •Содержание
- •Цель работы
- •Теоретические сведения
- •0Сновные трассировочные характеристики мпп:
- •0Сновные конструкционные характеристики мпп:
- •Основные электрические характеристики мпп:
- •Фольгированные диэлектрики.
- •Контроль препрегов
- •Пленочные фоторезисты
- •Создание рисунка проводников на слоях мпп.
- •Субтрактивная технология получения рисунка слоев мпп
- •Технология формирования проводящего рисунка слоев мпп методом пафос
- •Получение наружных слоев мпп
- •Система базирования
- •Прессование мпп.
- •Сверление отверстий.
- •Подготовка поверхности стенок отверстий.
- •Химическая металлизация.
- •Гальваническая металлизация.
- •Паяльная маска.
- •Горячее лужение.
- •Маркировка.
- •Электрический контроль мпп.
- •Автоматизация испытаний печатных плат.
- •Надежность мпп.
- •Описание лабораторного макета
- •Лабораторное задание Домашняя работа:
- •Работа в лаборатории:
- •Порядок выполнения работы
- •Методические указания.
- •Требования к отчету Отчет должен содержать:
- •Контрольные вопросы
- •Технологические операции изготовления слоев и пакетов мпп подготовка поверхности слоев и плат для спф
- •Получение рисунка схемы слоев и мпп из спф
- •Травление меди по спф
- •Удаление спф с заготовок
- •Получение адгезионного слоя
- •Комплектование слоев в пакет мпп перед прессованием
- •Финишная отмывка слоев и плат
- •Прессование многослойных плат
- •Сверление металлизируемых отверстий в печатной плате
- •Подготовка мпп к металлизации
- •Химическая и предварительная электрохимическая металлизация
- •Электрохимическое меднение до установленной толщины
- •Электрохимическое нанесение сплава олово-свинец
- •Подготовка поверхности под паяльную маску
- •Нанесение жидкой паяльной маски
- •Экспонирование паяльной маски
- •Проявление паяльной маски
- •Дубление паяльной маски
- •Маркировка
- •Рекомендации выбора технологического процесса.
- •Технологический маршрут изготовления слоев мпп субтрактивным негативным методом. (процесс 1)
- •Технологический маршрут изготовления мпп позитивным методом с металлорезистом олово-свинец (процесс 2)
- •Технологический маршрут изготовления слоев мпп полностью аддитивным методом («пафос») (процесс 3)
- •Литература
- •Приложение 1 Формат таблицы 1
- •Приложение 2 Форма таблицы 2
Технологические операции изготовления слоев и пакетов мпп подготовка поверхности слоев и плат для спф
Контроль поверхности слоев и МПП производится визуально. На слоях не должно быть заломов, заусенцев, рисок, смолы, деформированных базовых отверстий, на МПП не должно быть набросов рисок, вмятин. Торцы должны быть ровными и гладкими.
Подготовка поверхности слоев и плат под СПФ производится на пемзоструйной установке «Комби-Скраб». Заготовки из тонких фольгированных диэлектриков и слои обрабатываются на «спутниках». Обезжиривание и снятие окисной пленки.
Промывка. Обработка струями пемзовой суспензии. Промывка деионизованной водой. Сушка. Выходной контроль качества поверхности слоев, плат: поверхность слоев и плат должна быть розовой, без затеков, окисленных участков, равномерно матовой. Хранение плат и слоев, поступающих на участок допускается не более 10 дней, обработанных не более 1 час.
Получение рисунка схемы слоев и мпп из спф
Платы и слои должны быть розовые без окислов, затеков, набросов. Нанесение СПФ: Подогрев заготовки сушильная печь , 60-80°С. Нанести СПФ ламинатор HRL-650, 105+5°С. Все операции с СПФ и наслоенными заготовками проводить при неактиничном освещении - желтом или оранжевом. Слой СПФ должен быть сплошным без складок, пузырей, посторонних включений и отслоений.
Максимальное время межоперационного хранения 5 суток в темном месте.
Экспонирование: совместить РФШ с заготовкой, кнопки 5мм, по «0» отметкам в соответствии со структурой поместить в установку экспонирования ORCHMW-201B.
Время экспонирования подбирается согласно методике. При экспонировании должны обеспечиваться: равномерная освещенность заготовок, исключающая наличие воздуха между эмульсией фотошаблона и фоточувствительным слоем, температура заготовки не более 35°С. Удалить защитную лавсановую пленку.
Проявить рисунок схемы: установка проявления СПФ-ВЩ КМ-8.
Выборочно из каждой партии изделий замерить размеры элементов. Размер должен быть не более +20 мкм при негативном изображении и не менее -15 мкм для позитивного изображения.
Травление меди по спф
Визуально не допускается наличие жировых загрязнений.
Травление меди с заготовок со схемой рисунка, защищенной СПФ: установка травления «Кемкат-568» , 40+2°С. Камера травления - медь хлорная, по металлу 75 - 140 г/л. Промыть водопроводной водой. Рисунок должен быть четким, без рваных краев, вздутий, отслоений, разрывов, протравов. Допускаются отдельные неровности, не ухудшающие минимально допустимые размеры элементов.
Удаление спф с заготовок
Снять ретушь: вытяжной шкаф, ацетон, тампон ваты.
Удаление СПФ: установка снятия СПФ ГГМ1254001 - 1-я камера КОН 1,5%, 45-50°С, 2-я камера 45-50°С, 3-я камера - вода водопроводная 10-22°С, 4-я камера промывка 18-22°С. Камера сушки - воздух 40-50°С. Проверить полноту удаления.
Микроскоп МБС-2.
Получение адгезионного слоя
Химическое оксидирование, установка Блек Оксид: обезжиривание - кондиционер 811, изопропанол, серная кислота, 25-45°С. Промывка. Травление: калий надсернокислый, натрий кислый сернокислый, серная кислота, 25-45°С.
Промывка. Предоксидирование: натр едкий, 18-25°С. Оксидирование: калий надсернокислый, натр едкий, 60-65°С. Промывка горячая. Промывка деионизованной водой. Сушка 50-60°С. Покрытие должно быть сплошным. Цвет от темно-коричневого до черного. Допускаются участки с покрытием бронзового цвета.