- •1.Классический электронный газ. Теория проводимости Друде. Подвижность. Проводимость твёрдых тел.
- •Билет 2. Типы связи в твёрдых телах. Симметрия в кристаллах. Понятие кристаллической сингонии.
- •3. Статистика электронов и дырок. Функции распределения. Плотность квантовых состояний в зоне.
- •Плотность квантовых состояний
- •Функция распределения
- •Вопрос 4 .Уравнение Шредингера для электрона в кристалле. Эффективная масса.
- •5. Обратная решётка. Зоны Бриллюэна
- •6. Образование энергетических зон.
- •7. Квазичастицы в полупроводниках. Закон дисперсии. Понятие дырки. Квазиимпульс. Эффективная масса.
- •8. Квазичастицы в полупроводниках. Понятие дырки
- •9. Концентрация электронов и дырок в собственном полупроводнике
- •Определение положения уровня Ферми
- •10. Механизмы рассеяния электронов и дырок
- •11. Уравнения непр. И Пуассона. Генерация и рекомбинация.
- •Вопрос 12. Диффузионный и дрейфовый токи.
- •13. Эффект поля. Дебаевская длина экранирования.
- •14.Работа выхода в металлах и полупроводниках. Контактная разность потенциалов.
- •15. Полупроводниковые диоды.
- •17.Обеднённая область p-n-перехода. Зависимость её ширины от параметров.
- •18.Барьерная ёмкость p-n-перехода
- •19.Зонная диаграмма неравновесного p-n перехода. Квазиуровни Ферми.
- •20. Вах идеализированного диода.
- •21. Диффузионная емкость p-n перехода.
- •Вопрос 22
- •23. Пробой p-n-перехода
- •24. Биполярные транзисторы
- •25. Зонная диаграмма биполярного транзистора в схеме включения с об. Принцип действия.
- •26. Расчет вах биполярного транзистора. Граничные условия.
- •Вопрос 27
- •28. Процессы в биполярных транзисторах
- •29. Эквивалентная схема биполярного транзистора
- •30. Биполярный свч – транзистор и его характеристики.
- •31. Полевые транзисторы
- •32.Вольт-фарадная характеристика мдп транзистора.
- •33. Вах мдп-транзистора Характеристики мдп в области плавного канала
- •Характеристики мдп в области отсечки
- •34. Эффекты короткого и узкого канала в мдп-транзисторе.
21. Диффузионная емкость p-n перехода.
Полупроводниковый
диод является инерционным элементом
по отношению к быстрым изменениям тока
или напряжения, поскольку новое
распределение носителей устанавливается
не сразу. Внешнее напряжение меняет
ширину перехода, а, значит, и величину
пространственных зарядов в переходе.
При инжекции
меняются заряды в области базы. (инжекция:
при прохождении тока, вызванного сильным
эл-ким полем, т.е. когда скорость дрейфа
намного больше диффузионной скорости,
при Е>0 избыточные дырки в эл-ном п/п
затягиваются полем в область п/п и он
обогащается неосновными носителями в
большем кол-ве, чем при наличии только
диффузии в отсутствие внешнего эл-кого
поля) Следовательно, наряду с проводимостью
диод обладает емкостью, к-рую можно
считать подключенной параллельно p-n
переходу. Эту емкость разделяют на 2
составляющие: барьерную емкость,
отражающую перераспределение зарядов
в переходе, и диффузионную, отражающую
перераспределение зарядов в базе. Такое
разделение в общем весьма условно, но
удобно на практике. Соотношение обеих
емкостей различно при разных полярностях
смещения. При прямом смещении главную
роль играют заряды в базе и соответственно
диффузионная емкость. Диффузионная
емкость «заряжается» как инжектированными
дырками, так и электронами, компенсирующими
заряд инжектированных дырок. Т.к
избыточные заряды электронов и дырок
одинаковы, найдем заряд дырок, исходя
из распределения:
,S
– площадь перехода, L
– длина диффузии,
- длина п/п, p(x)
– распред. избыточных дырок. Подставляя
и
,
;
- тепловой ток,D
– коэфф. диффузии,
- время диффузии, получаем:
,
поделим на напряжение:
,
где
- сопротивление диода переменному току.
Диф-я емкость является функцией прямого
тока, она находится в прямой зависимости
от толщины базы, уменьшаясь с уменьшением
отношения
.
Если база толстая (>>L
и sech(
)
0)
получим:
,
.
Для тонкой базы (<L,
sech(
)
1-0,5
):
,
,
где
- среднее время диффузии или среднее
время пролета носителей через тонкую
базу при чисто диффузионном механизме
движения. Т.к в тонкой базе влияние
рекомбинации слабо и распред. дырок
почти линейно. диффузионный дырочный
ток оказывается практически постоянным.
Вопрос 22
Если
к p-n переходу приложить переменное
напряжение![]()
полная проводимость p-n перехода для малого переменного напряжения
,
здесь S-площадь p-n
перехода
-
плотность тока насыщения обратной
ветви;
?


Ток насыщения
У
идеализированного диода ВАХ выглядит
следующим образом
Т
окI0
называется тепловым током .Термин
«тепловой» отражает сильную температурную
зависимость тока I0 , а также тот факт,
что он равен нулю при абсолютном нуле
температуры. Другое название «тепловой
ток насыщения» связано с тем, что при
отрицательном напряжении
обратный ток идеализированного диода
будет равен –I0 и не зависит от напряжения.
Опыт показывает, что обратный ток диода
не остается постоянным, а более или
менее сильно растет с увеличением
обратного напряжения.
Температурная зависимость тока
,
здесь
содержит величины мало зависящие от
температуры,
коэффициент
в
зависимости от температурного диапазона
лежит в интервале 0,5-1,0,
-ширина
запрещенной зоны,
-
температурный потенциал
На
практике всегда известен тепловой ток
при некоторой ( обычно комнатной)
температуре
и требуется определить его значение
при другой температуре T.

преобразуем разность в показателе:
![]()
полагая, что абсолютная температура в рабочем диапазоне меняется не очень сильно
(т.е.
)
получим соотношение
![]()
где
;

иногда удобно представить формулу в следующем виде
,где
-температура
удвоения тока, то есть то приращения
температуры, при котором тепловой ток
удваивается
