Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Смирнов В.И. Теория конструкций контактов в электронной аппаратуре

.pdf
Скачиваний:
6
Добавлен:
23.10.2023
Размер:
6.82 Mб
Скачать

а) для туннельной проводимости

Ул = Уто 2 {А + В ехр [ - s0 - 1)

К Ф ]},

где

 

 

|/Т 0 =

3-108 C | / " f ,/s0) ехр [ - s0VW],

Ом- •ММ"

А ^ б ^ + б Т + Г"2 ; В = Г - 1 + Г - 2 ,

Г =

( д - ' ) ; «

(6.3)

 

г.-О

6-=1 —

 

 

 

 

Уто туннельная проводимость

однородного слоя тол­

щиной s0] Ф средняя

высота

потенциального

барьера

в

диэлектрическом слое, эВ; So, Si, D,

t — выражены

в

ангстремах;

 

 

 

 

 

б) для проводимости, обусловленной

термоэлектрон­

ной эмиссией Шоттки:

 

 

 

 

 

>/. = < / „ . +

[Г.ехр

-

Г . +

Г . ] } ; )

где

г/Ш о = 0,6963- Ю Т expf - 0,11605105 ФТ]; r i = a [ f l a + («-f-Yi)(7i-3-i')/2];

Г , = 1 + (1 - ч ) ( ч - З я ' ) / 2 ;

r j = 7 , * ( T , - 3 / i ' ) [ E i ( 7 , ) - E i ( V a ) ] ;

0,11605-105

7)= -

,, 1 а

 

 

 

(6.4)

Здесь уш0 — выраженная в

О м - 1 - м м - 2

проводимость

однородного слоя

толщиной

о

 

So, А; Ф высота потен­

циального барьера

на границе металл — диэлектрик, эВ;

е — относительная

диэлектрическая

проницаемость;

коэффициенты а и b имеют тот же смысл, что и в п. а. 150

Обсуждение. На рис. 6.2—6.4 приведены рассчитанные по выражениям (6.3) и (6.4) кривые зависимостей нор­ мализованных туннельной и шоттковской проводимостей:

Ут = Ут/Учо',

Уш=Уш/УшО

 

 

—~в=юооТ"'

от переменных D, а и t для случая

 

•~Д=500А

пленки из хрома, покрытой слоем

 

—я=100А

окисла

СггОз.

 

 

 

 

 

 

 

 

Высота

потенциального

барь­

 

 

 

ера на

границе

металл — диэлек­

 

 

 

трик равна разности между ра­

 

 

 

ботой

выхода

из

металла

(для

 

 

 

хрома

ф = 4,38

эВ)

и энергетиче­

Рис. 8.2.

Влияние шири­

ским уровнем дна

зоны

проводи­

ны границ зерен на вели­

мости окисла. Согласно [19] коли­

чину

нормализованной

чественное

согласование

расчета

туннельной

проводимо­

с экспериментально

измеряемыми

 

сти.

величинами получается, если при­

 

 

 

нять среднюю высоту потенциального барьера

при тун­

нельном просачивании равной

примерно

1 эВ._Кривые

рассчитаны

в предположении,

что ф = 4,38

эВ, Ф = 1 эВ,

6=9,2

[106], m* = m.

 

 

 

 

 

 

Из полученных зависимостей следует, что в пленоч­ ном контакте с не слишком мелкодисперсными пленками

ОQ

(100А</)<1000А) переходное сопротивление, обуслов­ ленное квазиметаллической проводимостью окисного

200

ш

 

 

 

Рис. 6.3.

Зависимость нормализо­

Рис. 6.4. Зависимость шотт-

ванной туннельной

проводимости

ковскон

проводимости от

рт размера зерен и глубины меж-

размера

зерен и глубины

кристаллитнрй

коррозии.

 

окисления.

151

слоя, оказывается наиболее чувствительным к размерам зерен. При помощи несложных преобразований выраже­ ний (6.3) и (6.4) можно убедиться, что зависимость Y(D) имеет параболический характер

У = / < 1 + Л у д + Я3 / £ > 2 ;

где Ки Кг, Кз — некоторые постоянные. Глубина окисле­ ния границ зерен и их ширина, которые отражают влия­

ние

разориентации кристаллитов,

заметно сказываются

на

величине проводимости лишь

при размерах зерен

о

в нижней пленке порядка 100А. В более крупнозернис­ тых пленках эффекты разориентации сглаживаются изза малого относительного объема межзеренных границ

впленке.

Всвязи с недостаточной изученностью закономер­ ностей межкристаллитной коррозии металлов нет воз­ можности достоверно определить характер зависимости параметров а и t от текстурованности пленки и разориентации зерен в ней. Однако, предполагая послед­ нюю полностью текстурованной и принимая дислока­ ционную теорию строения границ [88], представляется реальным утверждение, что при небольших разориентациях ширина границ t будет приблизительно пропор­ циональна углу разориентации. Глубина окисления ока­ жется сильно зависящей от этого угла в более упорядо­ ченных структурах.

6.4. Влияние границ зерен на составляющую переходного сопротивления, обусловленную сплавлением материалов пленок

Коэффициент диффузии DT какого-либо

материала

в искаженную решетку межзеренных границ

металла

обычно на несколько порядков (в 105 ... 107 раз) пре­ вышает коэффициент диффузии D; в неискаженную ре­ шетку того же металла. Отношение Dr/Di оказывается тем большим, чем ниже температура, при которой про­ текает диффузия, так что при невысоких температурах перенос диффузанта в глубь металла происходит исклю­ чительно вдоль границы кристаллитов.

В § 5.2 было показано, что переходное сопротивление пленочного контакта отчасти обусловлено сплавлением

!52

материалов контактных пленок, т. е. образованием обла­ стей твердых растворов и интерметаллических соедине­ ний, обладающих, как правило, более высоким удельным сопротивлением, чем исходные металлы. Существенное различие между коэффициентами диффузии в глубь

кристаллитов

и

вдоль гра­

 

 

 

ниц

между

ними

должно

/

"

 

обусловливать

 

зависимость

0

 

этой составляющей

переход­

 

— - V .

 

ного сопротивления

от пара­

 

 

 

 

 

метров структуры.

 

 

 

А'

 

Модель. Рассмотрим для

 

 

 

 

 

простоты

случай,

когда

 

г

 

только один из контактируе-

 

 

мых

металлов,

например

I

Рис.

6.5. Межкристаллитн ая

(рис. 6.5), может диффунди­

 

диффузия.

 

ровать в другой

( I I ) . Анало­

 

 

 

гично

описанным

ранее

моделям

предположим,

что

в данном

случае

границы

зерен в пленке I I также

пер­

пендикулярны

поверхности

раздела,

и что среда I

сво­

бодна от структурных дефектов, в том числе от границ зерен.

Анализ. Когда диффузия происходит преимуществен­ но вдоль границ зерен, концентрация С диффундирую­ щего элемента I в точке (х, z) пленки I I определяется выражением [107]

С (х, z) =

exp (— az) erfc [р + D/2)],

(6.5)

где

 

 

a = / 2 [ * ( D , / D J ) , / a ( i t D r ! / 0 , / 4 ] - 1 ;

 

 

P = [2 ( D r : ) 1 ' 2 ] - 1 ;

 

D — диаметр зерна;

х — время диффузии; t — ширина

границы.

 

 

На рис. 6.5 показано положение осей х и z, а также изоконцентрационный контур А, соответствующий тако­ му распределению дифф_узанта в плоскости xz. Среднее значение концентрации С (z) в сечении z, параллельном

поверхности

раздела,

находим,

усредняя

выражение

(6.5) по переменной х:

 

 

 

 

о

 

 

о

 

С(z) = —щ-

j" С(х,

z)dx =

-p-

j exp(-az) erfcрX

 

— D/2

 

—D/2

 

 

Х ( * +

Я/2)Ле =

Гехр(—az);

(6.6)

153

Г = erf с i

- 2?ехр(-р°074)-1]

V 2 J

$DVk

Подставляя C{z) в соответствующую функциональную зависимость удельного сопротивления от концентрации, можно получить выражение для среднего значения удельного сопротивления во всех точках с координа­ той z:

F(z) = P (C(z)).

Тогда сопротивление г д единицы площади диффузионно­ го слоя току, текущему через поверхность раздела, опре­ делится простым интегрированием:

: j'p(z)cfe,

(6.7)

где 5 — глубина диффузии в рассматриваемом контакт­ ном элементе, в качестве которой условно может быть принято такое расстояние от поверхности раздела, где С(0; s) =0,01;

т. е. на основании (6.5)

5 = 2 1

п 1 0 / а .

(6.8)

Если толщина пленки # < S

, то интегрирование

выпол­

няется до Н. Эффектами, связанными с границами, при этом будем пренебрегать.

Определим закономерности влияния границ зерен на составляющую переходного сопротивления, обусловлен­ ную сплавлением контактных пленок для частного слу­ чая металлической пары, образующей непрерывный ряд твердых растворов при невысокой температуре. Таковым является, например, случай диффузии меди в золото. За­ метим при этом, что характер полученной закономер­ ности не следует считать специфическим.

Экспериментальная зависимость р(С) для сплава Си—Аи [82] может быть достаточно точно описана пара­ болой

р:(С) =[15—52(С—0,5)2 ]• 10-е, о м • м.

Подставляя это выражение в (6.7) с учетом (6.8) и интегрируя, получаем зависимость сопротивления едини.

154

цы площади слоя от размеров зерен D и глубины диф­ фузии 5:

[ е х р ( _

a S ) - 1 ] [ ^ [exp ( _ «S) + 1 ] -

1 ] }Х

X

101 0 , Ом-мм2 .

(6.9)

Далее рассмотрим влияние разориентации зерен при сплавлении пленок на величину сопротивления гд . При­ веденная в [107] экспериментальная кривая зависимости глубины проникновения 5 диффузанта вдоль границ зе­ рен основного металла от угла разориентации у пока­ зывает, что для металлов с кубическими решетками за­ висимость 5 (у) может быть довольно точно аппрокси­ мирована параболой

S (у)/5 (я/4) =

1—ОДу/я—1/4]2

 

 

(6.10)

в интервале углов разориентации

от 20°

до 70°

и при

прочих равных условиях.

Подставляя

(6.10)

в

(6.9)

с учетом соотношения

(6.8), можно рассчитать

зависи­

мость отношения Гд(у)/гд (я/4)

от

угла

 

разориента­

ции у.

 

 

 

 

 

 

 

 

Обсуждение. На рис. 6.6 и 6.7 представлены рассчи­

танные по выражениям

(6.9) и (6.10) кривые зависимо­

стей от линейного размера зерен D и угла

разориента­

ции у отношения

Яд=г д 0 ,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где Го сопротивление

единицы

площади

слоя

 

толщи­

ной 5 из чистого золота. При расчете использовались

следующие

значения

постоянных: Di=DQ exp (—Q/RT);

£>о = 5,8-10-9 м2 -с-!;

Q = 103,5

кДж - (г - атом) - 1

(энергия

активации диффузии

меди в золото); Я = 8,314-103

Д ж Х

X К - 1

• кмоль - 1

(универсальная

газовая постоянная); Т=

= 300

К;

удельное

сопротивление золота рд.и=2х

ХЮ-^Ом-м. Таким

образом, £>,=0,6433-10~2 4

иъ-с~1.

Были

приняты

значения: Dr /£>i=105 ; t = 3 - 1 0 7

с; г = 2Х

X 1 0 - » m = 20A,

так

что

a = 0,27758 • i О7 м - 1 ;

р =

0,12Х

Х'Ю9 м-1 ;

5 = 0 , 1 6 6 - Ю - 5

м.

 

 

 

Кривые

на

рис. 6.6, 6.7 показывают, что изменение ли­

нейного размера зерен в диапазоне, обычно встречаю­ щемся на практике, вызывает изменение сопротивления области сплавления почти в три раза. Значительно ме-

155

 

 

 

 

2,85

=W0А

 

 

 

 

 

2,St

 

 

 

 

 

 

 

1,258

 

 

 

 

 

 

 

 

 

D=Z00OA

 

 

 

 

 

 

1,151

 

 

 

 

 

 

 

1,256

зо

to

f

ZOO tOO

WOO ZOOO WOO

!04J?,A

го

Рис. 6.6.

Зависимость

относи­

Рис.

67.

Зависи­

тельного

сопротивления

сплава

мость

относительного

от

размеров зерен.

сопротивления

сплава

 

 

 

 

от

разорнентацми

зе­

 

 

 

 

 

 

рен.

 

 

нее существенным оказывается влияние угла разорпен­ тации, причем степень этого влияния почти не зависит от размеров зерен.

6.5. Искривление линий тока в кристаллитах

Как уже отмечалось в § 5.2, одним из компонентов переходного сопротивления пленочного контакта являет­ ся сопротивление, вызванное искривлением линий тока, протекающего из одной пленки в другую. В случае до-

о

статочно тонких (менее 103 А) поликристаллических пле­ нок из-за неравномерности окисного слоя в «сэндвиче» должна изменяться вели­ чина этой составляющей переходного сопротивле­ ния в зависимости от глу­ бины окисления границ зерен и размеров послед­ них. Ниже рассматрива­ ется механизм этого яв­

ления.

Рис. 6.8. Стягивание тока в кри- Модель. Рассмотрим

сталлитах. модель, аналогичную опи-

156

санной в § 6.3, с той лишь разницей, что нижняя пленка предполагается состоящей из одного слоя пластинчатых шестигранных кристаллитов высотой Я (рис. 6.8). Плен­ ка I отделена от гипотетической, бесконечно проводящей однородной среды I I , тонким слоем толщиной So, про­ зрачным для электронов везде, кроме областей границ дерен, где его толщина st>sn. Предполагается, что окис­ ленная часть границ непрозрачна для тока, текущего вдоль пленки. Правомерность такого допущения обсуж­ дается в койне параграфа.

Анализ. Линии тока,

протекающего

из пленки I

в среду I I , а

следовательно, и эквипотенциальные по­

верхности

в

пленке I ,

подвергаются

искривлению

(рис. 6.8).

Сопротивление

стягивания R n ,

обусловленное

этим искривлением в одном кристаллите, может быть определено при помощи общего выражения [1]

 

До = р/4лС, Ом,

где р — удельное

объемное

сопротивление материала

пленки I , Ом-см;

С—емкость

(в см) конденсатора с об­

кладками, имеющими конфигурацию и размеры тех гра­ ней кристаллита,через которые ток входит и выходит из него. Эти грани обозначены цифрами / и 2 на рис. 6.9,а.

Рис. 6.9. К расчету емкости.

Остальным граням кристаллита соответствуют при этом непроницаемые для поля непроводящие стенки, окру­ жающие конденсатор.

Если D — диаметр круга, равновеликого шестигран­ ному основанию кристаллита, то сторона последнего / равняется

/ = D : 2 ^ 6 l 7 f > .

(6.11)

Без существенной погрешности емкость

конденсатора

(рис. 6.9,а) при выполнении условия 3/>s'=Si—s0 мож-

15?

но считать равной емкости прямолинейного конденса­ тора (рис. 6.9,6), в котором

1'=Ъ1;

1"=1УЗ,

 

так как лишь ничтожная

 

доля силовых линий замыкает­

ся на обкладке 2 на расстоянии, большем s' от края.

Из (108] емкость конденсатора

(рис. 6.9,6)

опреде­

ляется выражением

 

 

 

 

^ 1 п /

8

( t f - s , )

9-Ю1

см,

 

 

s > (1

 

+ ( я — s , ) v / " :

 

где е=10 9 /36 п Ф - м - 1 ; /'

выражена

в метрах.

Отсюда

с учетом (6.11) сопротивление стягивания в одном кри­ сталлите определяется как

 

0 5 - 1 0 - 3 Ш п

 

 

8 ( / / - * , )

 

Г-

 

s' (1+

Vl +

1,027

(H—SiY/D2)

 

 

 

 

 

где все величины

выражены в единицах системы СИ.

 

Далее найдем сопротивление гс единицы площади по­

верхности

раздела.

Аналогично

полю в конденсаторе,

,

 

'-

 

почти

полностью

сосредоточенному

г'

 

1

"

в

окрестностях

зазора,

сопротивле­

 

 

ние стягивания

кристаллита

также

1ч

ч

 

 

практически

полностью

сосредоточе­

 

 

но

в

полосе

шириной

порядка

s'

/

 

 

 

 

 

 

вдоль

входной

 

грани.

Вызванное

J

 

 

 

 

Л

 

 

 

этим

сопротивлением

падение

на­

 

 

 

пряжения в кристаллите ис

изменя­

Рис. 6.10.

Распреде

 

ется вдоль его поверхности по неко­

ление напряжения

 

торому

закону,

характер которого

стягивания

в

кри­

 

качественно

показан на

рис. 6.10 и

сталлите.

 

 

может

быть точно

найден из распре­

конденсаторе. Для

деления

поля

в

соответствующем

простоты

ис

заменяем

ступенчатым

напряжением

ий'\

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где / — плотность

тока

через

поверхность раздела. Если

это напряжение усреднить по всему кристаллиту диаме­

тром D, то его среднее значение

окажется равным

с 2it(D/2)aj

izD*

158

Тогда С учетом (6.11) среднее значение сопротивления стягивания на поверхности раздела будет равно

 

 

 

гс =

йс/У = 5,4419/?cs/2(1 — t/D)2,

Ом-мм2 . (6.12)

Обсуждение. На рис. 6.11 показана

зависимость г с о т

переменных D и а, рассчитанная по формуле (6.12) для

контакта, в котором нижняя

пленка изготовлена из хро-

ма

 

 

 

 

Ом-м) и имеет толщину

о

(р = 20-10- 8

500А.

Удельное сопротивление стягивания изменяется поч­

ти на три порядка

при изменении размеров зерен от 100

 

 

о

 

 

 

 

 

 

 

.до 103 А или глубины

межкристаллитной коррозии от 20

 

 

о

 

 

 

 

сопротивления от размеров зерен

до 120 А. Зависимость

тем

 

ближе

к

линейной,

 

 

•чем

больше

глубина

оки­

 

 

сления. Зависимость ж е

 

 

ют глубины коррозии прак­

 

 

тически

квадратична

и ее

 

 

влияние

наиболее

сильно

 

 

при

малых размерах

кри­

 

 

сталлитов.

 

 

 

 

 

 

В

отличие

от

описан­

 

 

ных

 

ранее

 

механизмов

 

 

влияния

 

 

параметров

 

 

структуры на

переходное

 

 

сопротивление

контакта

 

 

эффект

стягивания зави­

Рис. 6.11. Влияние размера зерен

сит

от

толщины

пленок.

и глубины

межкристаллитного

При

 

толщине

нижней

 

окисления на величину сопротив­

пленки H^$>D и s'

состав­

ления стягивания.

ляющая

переходного

со­

 

 

противления,

 

обусловлен­

 

 

ная

 

стягиванием,

стано­

 

 

вится

пренебрежимо

ма­

 

 

лой .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Продольная проводи­ мость окисленных границ. При расчете в настоящем

параграфе величины со­ противления стягивания, обусловленного неравно­

мерностью

окисления по-

s

т

. . . .

ВерХНОСТИ

пленки, посту-

Ь ] С 6 , 2

Гйтенциальные барьеры

лировалось, что окислен-

в окисленных

границах.

15Э

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ