Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Смирнов В.И. Теория конструкций контактов в электронной аппаратуре

.pdf
Скачиваний:
6
Добавлен:
23.10.2023
Размер:
6.82 Mб
Скачать

а

 

 

5

 

 

Рис. 3.18.

Термокомпрессня встык:

Рис. 3.19.

Термо­

а — образование

шарика;

б — сваривание;

компрессия

кли­

/ — водородное

пламя; 2 —шарик; 3 —

ном:

 

пуансон;

4 — проволочка:

5 —пленка;

 

/ — подложка; 2 —

 

 

6 — столик.

 

 

 

 

 

проволочка; 3 клип.

простоты позволяет применять вместо золотой проволоки алюминиевую.

Механические методы. Когда сварное соединение осу­

ществляется за счет затрачивания лишь

механической

энергии,

то говорят о механических

методах

сварки.

К ним

относятся

ультразвуковая и

холодная

сварки,

сварка

взрывом,

трением и вакуумным

схватыванием.

Из этих методов в технологии электрических и элек­

тронных контактов чаще

всего применяется

первый —

ультразвуковой

метод.

 

 

 

 

 

Сварка

ультразвуком.

В

настоящее

время

наиболее

широко

в

микроэлектронной

технологии

применяется

сварка

ультразвуком. Это обусловлено

тем, что данный

метод

позволяет

избежать

общего

нагрева,

который

иногда весьма нежелателен для полупроводниковых из­ делий, а также позволяет сваривать металлы с весьма широким диапазоном физико-химических свойств.

При ультразвуковой сварке активирующая энергия вводится в место соединения в форме механических ко­ лебаний ультразвуковой частоты. Тем не менее ультра­ звуковая сварка является по сути дела, процессом тер­

момеханическим, так как в месте

соединения не вся

энергия колебаний превращается

в деформационную,

а значительная ее часть расходуется на генерирование тепла.

Процесс образования сцепления при ультразвуковой сварке протекает следующим образом. Вынужденные колебания одного из свариваемых элементов относитель­ но другого вдоль поверхности раздела при воздействии

90

нормального сжимающего усилия, приводят к разруше­ нию поверхностей и образованию ограниченного коли­ чества контактных пятен с чисто металлическим контак­ том. Тепло, выделяемое за счет трения скольжения по­ верхностей и переменной пластической деформации всту­ пивших в контакт микровыступов, обусловливает до­ вольно интенсивный нагрев этих выступов, их дальней­ шую деформацию и вступление в контакт все новых не­ ровностей. Температура на контактных пятнах может достигать значений, достаточных для локального сплав­ ления или рекристаллизации приповерхностных кристал­ литов наповерхности раздела с образованием общих для свариваемых элементов зерен.

Важнейшие параметры процесса ультразвуковой свар­ ки, т. е. амплитуда колебаний, их частота и длительность воздействия, а также величина усилия нажатия опре­ деляют качество и свойства сварного соединения. Так, если амплитуда ультразвуковых колебаний после воз­ никновения сцепления вызовет в микровыступах механи­ ческие напряжения, превышающие предел упругости со­ ответствующего металла, то структура зон соединения заметно изменится по сравнению со структурой исходно­ го материала, а прочность соединения из-за усталости последнего будет ниже. Частоты колебаний, при кото­ рых удается получить такого рода соединения, колеб­

лются, вообще говоря, от 4

Гц до 120 кГц [40]. Однако

на верхнем

и нижнем концах этого диапазона качество

соединения

неприемлемо.

Пригодная с практической

точки зрения ультразвуковая сварка получается в диа­ пазоне частот колебаний от 25 до 75 кГц, в зависимости от соединяемых металлов и размеров изделия.

Длительность процесса также должна быть выбрана оптимальной. Слишком длительное воздействие ультра­ звука приводит к появлению в свариваемых проводниках микротрещин. Они становятся хрупкими или в них про­ исходят нежелательные фазовые изменения. Промышлен­ ные ультразвуковые установки позволяют регулировать время сварки от 0,1 до 6 с.

Необходимое механическое давление находится во взаимной связи с амплитудой и частотой ультразвуковых колебаний и его следует определять в зависимости от их значений. Вообще же говоря, при небольшом давлении отсутствует плотный контакт поверхностей и может не произойти разрушения окисной пленки и деформации

91

выступов. А слишком высокое давление может привести к усталости металла и непрочному соединению. Прак­

тически

величина давления колеблется в пределах

(0,5 . . .

5)Н.

На рис. 3.20 представлено схематическое изображе­ ние ультразвуковой сварочной установки. В патроне 1

жестко

закреплено свариваемое

изделие

2,

на

которое

 

 

 

 

с

заданным

усилием

N

 

 

 

 

опирается клин 3, изготов­

т .

 

 

 

ленный из твердого мате­

 

 

 

 

риала.

Ультразвуковые

 

 

 

 

колебания,

вырабатывае­

 

 

 

 

мые

магнитострикцион-

 

 

 

 

ным или электрострикци-

 

 

 

 

онным

преобразователем

 

 

 

 

5,

передаются

клину

че­

Рис. 3.20.

Схема

ультразвуковой

рез связующую деталь

4.

сварочной установки:

Устройство

жестко

закре­

/ — патрон;

2 свариваемые

проводни­

плено

на

неподвижной

ки; 3 — клин; 4— волновод;

5 пре­

образователь;

6—ось.

оси 6.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Применение ультразву­

 

 

 

 

ка

и термокомпрессии

не

исключают друг друга. Довольно часто простой клиннаконечник ультразвуковой сварочной установки заме­

няется термокомпрессионным

пуансоном с

капиллярной

подачей проволоки. Это позволяет произвести

сварку

при более легком

тепловом

и механическом

режиме,

 

 

 

 

 

 

Т а б л и ц а 3.2

Основные характеристики

методов создания

постоянных

 

 

контактов

 

 

 

Процесс контак­

Флюс

Давление

Темпера­

Чистста

Наэпр коктактируе-

поверхнос­

тирования

 

 

тура

ти

мых

материалов

 

 

 

 

 

 

 

Пайка

Нужен

Нет

Высокая

Чистая

Ограничен

Контактная

Нет

Высокое

Та

же

То же

То же

сварка

 

 

 

В

 

 

я

Термокомпрес­

То же

То же

 

Очень

 

сия

л

Низкое

Нет

.чистая

 

я

Ультразвуковая

То же

 

сварка

я

Нет

Высокая

 

 

Электронно-лу­

Неограниченный

чевая сварка

 

 

 

 

 

Лазерная сварка

 

Нет

Очень

R

Неограниченный

 

 

 

высокая

 

 

 

92

а также расширить совокупность материалов, сваривае­ мых термокомпрессиош-ю.

В заключение настоящей главы приведем таблицу, характеризующую особенности рассмотренных выше ме­ тодов создания постоянных электрических контактов (табл. 3.2).

4. Конструкции контактов в интегральных схемах

Любая интегральная схема выполняет лишь ограниченную функ­ цию. Поэтому законченное электронное устройство обычно содержит ряд интегральных схем, определенным образом соединенных между собой. В таком устройстве .можно различать два вида контактных соединений:

а) «внутренние» контактные соединения, находящиеся внутри корпуса интегральной схемы и осуществляющие электрическую связь между ее частями;

6} «внешние» контактные соединения, выполняемые при монтаже аппаратуры на интегральных схемах.

Одним из аспектов интеграции электронной аппаратуры яв­ ляется резкое уменьшение количества внешних соединений, выпол­ няемых при монтаже устройств, за счет осуществления этих соедине­ ний внутри .интегральных схем при их изготовлении. Внутренние контактные соединения выполняются более совершенными с точки зрения интегрально-групповой технологии и более надежными ме­ тодами. Удельный вес внутренних контактных соединений возрастает по мере повышения степени интеграции электронных и радиоэлек­ тронных устройств. С другой стороны, внешнее контактирование интегральных схем обычно выполняется стандартными методами пайки на печатных платах, описанных в гл. 3, и не является специ­ фичным для микроэлектроники. Поэтому в настоящей главе будут рассмотрены только вопросы внутреннего контактирования в ин­ тегральных схемах.

Конструкции

контактных

соединений

рассматриваются

здесь

применительно к

наиболее

распространенному типу

интегральных

схем — гибридным

схемам.

На

рис. 4.1

схематически

изображена

часть гибридной интегральной схемы. Рисунок построен без со­ блюдения масштаба для большей иллюстративности. К ножке кор­ пуса 1 с помощью специального клея прикреплена подложка 2 с на­ несенными пленочными элементами 3, межсоединениями и контакт­ ными площадками 4. Контактные соединениямежду компонентами пленочной схемы представляют собой пленочные контакты 5. Навес­

ной элемент 6",

например

полупроводниковый

кристалл,

прикреплен

к поверхности

подложки

и его контактные

площадки

7 соединены

с соответствующими контактными площадками подложки посред­ ством некоторого проводника 8, в данном случае — микропрово­ лочки. Оконечные контактные площадки подложки 9 соединены с вы­ водами схемы 10 при помощи проводников // . Интегральная схема помещена в корпус 12.

93

Рис. 4.1. Схематическое изображение интегральной схемы.

Очевидно, в этой схеме, как и во всех разновидностях гибридных интегральных схем, контактирование пленочных элементов подложки между собой осуществляется почти исключительно при помощи пле­

ночных

контактов.

 

 

Анализу и расчету

пленочного

контакта посвящены последую­

щие две

главы — 5 и 6.

Здесь же

будут рассмотрены конструкции

контактных узлов между навесными элементами и подложкой, а так­ же между подложкой а выводами корпуса.

4.1. Конструкции контактных узлов «подложка — навесной элемент»

Различные конструкции внутренних контактных соединений, применяемых в 'интегральных схемах на протяжении многих лет, как правило, разрабатывались применительно к отдельным схемам или технологическим условиям, что вызывало определенные трудности при их систематизации. Однако с известной степенью условности можно констатировать, что все конструкции контактных узлов, при­ меняемые для присоединения кристаллов или других навесных эле­ ментов к подложкам, являются вариациями двух основных направ­ лений монтажа — повернутого («флип— чип») и лицевого. Ниже приводится обзор наиболее распространенных конструкций контакт­ ных узлов при том и другом методе.

Заметим, что система контактных соединений, обеспечивающая электрическую (а иногда механическую и тепловую) связь навес­ ного элемента с подложкой, представляет собой совокупность оди­ наковых по конструкции узлов, каждый мз которых соединяет одну контактную площадку кристалла с соответствующей контактной пло­ щадкой подложки.

Повернутый монтаж. Повернутый монтаж обеспечивает непосред­ ственное электрическое и механическое соединение контактных пло­ щадок полупроводникового кристалла или навесного пассивного эле­ мента с соответствующими контактными площадками подложки, при котором навесной элемент оказывается обращенным «лицом» к под­ ложке. Очевидно, для осуществления такого контактирования необ­

ходимо,

чтобы совокупность контактных

площадок

на кристалле,

а также

на подложке, находилась в одной

плоскости.

Как правило,

94

не удается достичь нужной степени плоскостности и не все пары площадок вступают в надежный контакт. Кроме того, при харак­ терных для .микроэлектроники размерах не исключена вероятность закорачивания кристалла на металлизацию подложки. Поэтому со­ единение контактных площадок при повернутом монтаже выполняет­ ся с использованием некоторого промежуточного звена.

 

Л

 

)

 

 

 

Сг-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Аи.

 

-Sn

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

A\\\\\\\V\\\\\\\\\v'

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

-AMgf

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

4Pt,Pd

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Рис.

4.2.

Конструкция

контактного

узла

с

медным

ша­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

риком:

 

3 шарик;

4 флюс.

 

 

 

У подложка;

2 —навесной

элемент;

 

 

Рассмотрим

наиболее

распространенные

 

конструкции

контакт­

ных соединений при повернутом монтаже.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Конструкция

с

медным

шариком.

 

Широкое распространение

получила

конструкция

контактного

узла

с

медным

 

шариком

[42],

в

которой

соединения

 

контактных

 

 

 

 

 

 

 

 

 

площадок кристалла и подложки осу­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ществляются

пайкой,

а

необходимый

 

 

 

 

 

 

 

 

 

зазор

между

 

ними

обеспечивается

 

 

 

 

 

 

 

 

 

миниатюрными

медными

шариками

 

 

 

 

 

 

 

 

 

определенного

 

диаметра

 

(рис.

4.2).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

На

контактные площадки подложки 1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

и

полупроводникового

кристалла

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

наносится тонкий слой олова. При

 

 

 

 

 

 

 

 

 

помощи специального

флюса

4 к кон­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

тактным

площадкам

подложки

при­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

клеиваются

миниатюрные

шарики

3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

одинакового

 

размера,

изготовленные

 

 

 

 

 

 

 

 

 

из меди, покрытой никелем. После

 

 

 

 

 

 

 

 

 

совмещения навесного элемента с под­

Рис.

4.3.

Шариковый

кон­

ложкой система нагревается до тем­

 

 

 

 

такт:

 

 

пературы, необходимой для плавления

1 — подложка;

 

2,

3 изоля­

припоя

и осуществления

пайки.

 

 

ционные

слон;

4 кристалл;

 

Очевидно,

материалы

 

контактных

5

— металлизация

кристалла;

площадок

как

кристалла, так и

под­

6 — выступ;

7 — припой;

S —

 

 

контактная

площадка.

 

ложки

должны

обладать

 

хорошей

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

паяемостыо.

 

Наиболее

подходящи­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ми

с

этой

точки

зрения

являются

серебро

и

золото.

Эти

ме­

таллы, однако, обнаруживают весьма слабую адгезию к тем мате­ риалам, которые обычно используются для изготовления подложек и полупроводниковых навесных элементов (например, ситалл, стекло, кремний я двуокись кремния). Поэтому золотые и серебряные пленки следует осаждать на предварительно нанесенные подслои, обеспе­ чивающие лучшую адгезию. В качестве подслоя для золотых пленок

95

следует использовать хром или пла­ тину, а для серебряных — палладий. Толщина подслоя должна быть не­

большой — 50... 300 А.

Шариковые контакты. Более тех­ нологичной конструкцией контактного узла при повернутом монтаже явля­ ется конструкция с шариковыми кон­ тактами [42, 43]. На рис. 4.3 изобра­ жен вариант такой конструкции, пре­ дусматривающий соединение пайкой. В этом варианте на контактные пло­

щадки

5

кристалла

4

термовакуум-

н ы ы и

л и

Другим методом осаждают

1 сравнительно

высокие

выступы 6 (по­

рядка

единиц

или

десятков микрон)

из металла контактной площадки или в виде многослойной структуры. Та­ кие выступы условно называют шари­ ками. Затем на выступы наносят определенные порции оловянно-свин- цового припоя 7. Эти выступы приво­ дят в контакт с соответствующими контактными площадками 8 подлож­ ки / и нагревают до образования паяного соединения. Для выполнения надежного соединения необходимо, чтобы металлизация подложки и по­ следний слой шарика обладали хоро­ шей паяемостыо. Чаще всего их изго­ товляют из золота, электроосаждепного или нанесенного вакуумными ме­ тодами.

Рис. 4.4. Контакты с контро­

 

В

настоящее

время

повернутый

лируемой

деформацией:

 

монтаж

с шариковыми

контактами

а — нанесение

припоя; б — обра­

чаще выполняется

не

пайкой, а

свар­

зование

шарика; в — паЛка.

 

 

 

 

кой. В этом случае на шариковые кон­

 

 

 

 

такты не

наносится припой, а их сва­

 

 

 

 

ривают

с

контактными

площадками

 

 

 

 

подложки

термокомпрессионным

 

или

 

 

 

 

ультразвуковым методом.

При

свар­

 

 

 

 

ке

термокомпрессией

или

ультразву­

 

 

 

 

ком

материал более массивного

про­

 

 

 

 

водника,

в

данном

случае шарика,

 

 

 

 

должен

быть достаточно

пластичным.

Рис. 4.5.

Балочные выводы:

Поэтому

сварные

шариковые контак­

ты изготовляют из золота или алюми­

/ — подложка:

 

2 — изоляцион­

ния.

Иногда

шарики

осаждают

не

ный слой; 3 — кристалл; 4 ба­

на

кристалл,

а

на

подложку,

 

что

лочный

вывоа:

5 —контактная

позволяет

использовать активные

и

площадка

подложки.

пассивные

навесные

элементы

 

лю­

 

 

 

 

 

бого поставщика, не предусматривающего на своих изделиях таких контактов.

Шариковые контакты с контролируемой деформацией. Описан­ ным выше конструкциям контактных узлов с жесткими шариками

96

присущ следующий существенный недостаток. При наличии неко­ торого разброса в размерах шариков кристалл приходит в механи­ ческое равновесие, опираясь только на три из них. На остальных контактных площадках может не произойти контактирование с шариками либо могут образовываться ненадежные соединения

сними.

Вопределенной степени лишены этого недостатка шариковые контакты с контролируемой деформацией {44]. Схематическое изоб­ ражение конструкции таких контактов показано на рис. 4.4. Кон­ тактные площадки подложки и кристалла осаждают из металла, обладающего хорошей паяемостыо и иепокрывающегося пленками, например, золота или серебра. Контактные площадки / (рис. 4.4,а) ограничивают барьерами 2 из несмачиваемого припоем мате­ риала, например стекла. Термо­ вакуумным методом иа кон­ тактные площадки подложки наносят сравнительно толстый слой припоя 3. Подложку на­ гревают в печи или струей го­ рячего газа до температуры плавления припоя. Расплавлен­ ный припой стягивается с несмачиваемой поверхности барь­ еров (рис. 4.4,6), образуя на контактных площадках жидкие шарики 4. Когда кристалл 5 опускают на подложку 6, каж­ дый шарик из расплавленного

припоя

будет

деформироваться

Рис. 4.6. Изготовление

балочных

до

тех пор, пока

не установит­

выводов:

 

ся

равновесие

между его по­

а — до травления;

б— после травле­

верхностным натяжением

и дав­

ния; / — полупроводниковый кристалл:

лением

кристалла

(рис.

4.4,s).

2 — изоляционный

слой;

3—балочный

 

Балочные

выводы.

Балоч­

вывод.

 

 

 

 

 

ные выводы [45, 46] представля­ ют собой металлические сравнительно толстые (десятки микрон) плен­

ки, чаще всего из алюминия, золота или имеющие многослойную структуру, которые выступают за пределы полупроводникового кри­ сталла и привариваются к соответствующим контактным площадкам подложки (рис. 4.5). Балочные выводы 3 (рис. 4.6) термовакуумным испарением или электроосаждением наносятся на кристалл / не­ сколько большей площади, чем созданный в нем прибор (рис. 4.6,а). Затем лишний полупроводниковый материал снимается травлением, таким образом, чтобы выводы выступали за пределы кристалла на определенное расстояние (рис. 4.6,6), необходимое для приложения пуансона сварочной установки при присоединении выводов к кон­ тактным площадкам подложки.

По сравнению с описанными выше методами шарикового кон­

тактирования основной недостаток

метода

балочных выводов состоит

в том, что стоимость его заметно

выше.

Это связано с

большим

расходом полупроводникового материала

и драгоценного

металла

при изготовлении.

Дороговизна балочных выводов, однако, окупается

целым рядом

их

положительных качеств, речь о которых пойдет

в следующем

параграфе.

7 - 4 U

 

97

Применение балочных выводов позволяет изготавливать интег­ ральные схемы с так называемой воздушной изоляцией [45]. Состав­ ные части такой схемы сначала создаются методами полупроводни­ ковой технологии в едином кристалле. На поверхности этого кри­

сталла

в

одном

технологическом

цикле

осаждаются

достаточно

 

 

 

 

 

 

толстые

соединительные

полоски и

 

 

 

 

 

 

балочные

выводы. После стравли­

 

 

 

 

 

 

вания

полупроводникового

мате­

 

 

 

 

 

 

риала

в

интервалах

между

эле­

 

 

 

 

 

 

ментами

они остаются

связанными

 

 

 

 

 

 

электрически и механически

через

 

 

 

 

 

 

металлизацию,

и схему

монтируют

 

 

 

 

 

 

на

подложке

как

единое

целое

 

 

 

 

 

 

 

(рис. 4.7).

Такое

конструктивное

 

 

 

 

 

 

решение,

 

однако,

 

 

применяется

 

 

 

 

 

 

редко.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Выводная

рамочка.

Не

менее

 

 

 

 

 

 

распространенным

в

конструкциях

 

 

 

 

 

 

интегральных схем методом контак­

Рис. 4.7.

Диодная

мостовая

тирования

кристалла

с

подлож­

кой

при

повернутом

монтаже яв­

схема

в интегральном

исполне­

ляется

метод

выводных

рамочек.

нии с

балочными

выводами и

Применяются

рамочки

 

двух

ви­

воздушной

изоляцией.

дов—самоподдерживающиеся

[47],

 

 

 

 

 

 

изготовленные

штамповкой

или

 

 

 

 

 

 

травлением

тонкой

 

металлической

фольги

(чаще

всего из золоченого

ковара)

 

(рис. 4.8,а),

пленочные,

нанесенные

на

вспомогательную

 

прозрачную

гибкую

 

подложку

[48] (рис. 4.8,6). Материал вспомогательной подложки должен быть термически стойким, чтобы выдержать температуру приварки ра­ мочки к контактным площадкам кристалла. Вместе с тем подложка должна легко растворяться в каком-либо растворителе, который не

Рис. 4.8. Выводные рамочки:

а — фольговые; б— нанесенные на гибкую подложку.

влияет на другие материалы, входящие в конструкцию прибора. Внутренние концы выводов рамочки приваривают к контактным площадкам кристалла, затем обрезают рамочку или растворяют гибкую подложку и приваривают вторые концы к металлизации подложки (рис. 4.9). Преимуществом контактирования выводной рамочкой является возможность визуального контроля с помощью

98

обычной оптики на этапах совмещения, сварки и т. д. По

сравнению

с балочными выводами выводная рамочка имеет

тот

недостаток,

что требует в два раза больше сварных соединений.

 

 

Конструкцию контактного устройства между кристаллом и под­ ложкой, выполненную при помощи выводной рамочки, часто назы­ вают «паучковой» конструкцией.

Лицевой монтаж. При лицевом монтаже навесного элемента на подложке на электрическую контактную конструкцию, как правило, не возлагаются функции механического и теплового соединения. Последние осуществляются дополнительным креплением полупровод­

никового

кристалла

на

 

 

 

 

подложке,

теплоотводе

 

 

 

 

или

ножке

корпуса

при

 

 

 

 

помощи

различных

клея­

 

 

 

 

щих

 

композиций,

смол,

 

 

 

 

твердой пайки

эвтектиче­

 

 

 

 

скими

 

припоями

 

или

 

 

 

 

стеклянной

смесью и т. д.

 

 

 

 

Электрическое

же

соеди­

 

 

 

 

нение

кристалла

с

иод-

Рис. 4.9. Конструкция с выводной рамоч­

ложкой

за

редкими

ис­

кой при повернутом

монтаже.

 

ключениями

выполняется

 

 

 

 

после

механического

кре­

 

 

 

 

пления. Рассмотрим

наи­

 

 

 

 

более

характерные

кон­

 

 

 

 

струкции

контактных

уз­

 

 

 

 

лов

при

лицевом монта­

 

 

 

 

же. Контактный узел

при

 

 

 

 

лицевом

монтаже,

также

 

 

 

 

как

и

при

повернутом,

 

 

 

 

состоит

из

 

контактной

 

 

 

 

площадки кристалла, кон­

Рис. 4.10.

Проволочное

соединение:

тактной

площадки

 

под­

J — подложка;

2 — клей; 3— кристалл:

4 —

ложки

и

соединяющего

изоляционный

слой; 5 — металлизация;

6 —

их промежуточного звена.

проволочка;

7 — контактная

площадка

под­

 

Проволочная

 

кон­

 

ложки.

 

 

струкция.

 

Хронологиче­

 

 

 

 

ски первой и до настоя­ щего времени самой распространенной конструкцией контактного

узла при лицевом монтаже является конструкция, промежуточное

звено

которой

представляет собой

тонкую

проволочку,

приваренную

с одного

конца к контактной площадке

кристалла,

а

с другого —

к контактной

площадке

подложки

(рис.

4.10). В

зависимости

от

того,

из

каких

металлов

изготовлены контактные

 

площадки

на

кристалле и на подложке, 'Применяются проволочки из золота или алюминия, диаметром от 20 до 100 мкм {49]. Существенным недо­ статком проволочной конструкции является низкая производитель­ ность процесса контактирования. Автоматизировать операцию при­ варки проволочек не удается и для соединения кристалла с под­ ложкой необходимо вручную производить довольно большое число операций.

Нередко вместо проволочек круглого сечения в качестве проме­

жуточного звена используются миниатюрные ленты.

 

Рамочные

конструкции. Описанные выше

выводные

рамочки

используются

для присоединения кристаллов

к подложке

и при

7*

 

 

99

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ