- •Введение
- •1. Подготовка образцов к измерению
- •1.1. Методы создания образцов заданной геометрии
- •1.2. Контакты к образцам и требования к ним
- •1.3. Методы изготовления контактов
- •1.4. Проверка омических свойств контактов
- •2.2. Четырехзондовый метод измерения удельного сопротивления
- •2.2.1. Электрическая схема и методика измерения удельного сопротивления четырехзондовым методом
- •2.2.2. Поправочные коэффициенты четырехзондового метода измерения удельного сопротивления
- •2.2.3. Применение четырхзондового метода при измерении удельного сопротивления тонких слоев и тонких пластин
- •2.3. Двухзондовый метод измерения удельного сопротивления
- •2.4. Однозондовый метод измерения удельного сопротивления
- •2.5. Измерение удельного сопротивления пластин произвольной формы (метод Ван дер Пау)
- •2.6. Измерение удельного сопротивления эпитаксиальных пленок
- •2.7. Метод контроля удельного сопротивления измерением сопротивления растекания в точечном контакте
- •2.8. Бесконтактные методы измерения удельного сопротивления
- •2.8.1. Бесконтактные емкостные методы измерения удельного сопротивления
- •2.8.2. Бесконтактные индуктивные методы измерения удельного сопротивления
- •3. Гальваномагнитные методы измерения параметров полупроводников
- •3.1. Эффект Холла. Возможности исследования параметров полупроводников с помощью эффекта Холла
- •3.2. Побочные поперечные эффекты, сопутствующие эффекту Холла
- •3.3. Методы измерения эффекта Холла
- •3.3.1. Метод постоянного тока и постоянного магнитного поля
- •3.3.2. Одночастотные методы
- •3.3.3. Двухчастотные методы
- •6 ‑ Образец; 7 – амперметр
- •3.4. Образцы для измерения эффекта Холла
- •3.5. Измерение эффекта Холла методом Ван дер Пау
- •4. Оптические методы измерения параметров полупроводников
- •4.1. Типы оптического поглощения
- •4.2. Аппаратура для исследования оптических свойств полупроводников
- •4.2.1. Характеристики оптических приборов
- •4.2.2. Источники излучения
- •4.2.3. Приемники излучения
- •4.2.4. Особенности основных типов спектральных приборов
- •4.3. Общие сведения о молекулярных спектрах
- •4.4. Оптический метод определения концентрации примеси из спектров поглощения
- •4.5. Образцы для измерений и определение их коэффициента поглощения
- •5. Методы исследования электрофизических параметров эпитаксиальных пленок
- •5.1. Метод окрашивания шлифов
- •5.2. Интерференционный метод измерения толщины пленок
- •На сильнолегированной подложке
- •5.3. Эллипсометрия. Эллипсометрический метод измерения толщины пленок
- •Света от чистой поверхности полупроводника (а) и от полупроводника с эпитаксиальным слоем (б)
- •5.4. Определение толщины пленки по дефектам упаковки
- •6. Измерение параметров неравновесных носителей заряда
- •6.1. Параметры неравновесных носителей заряда
- •6.2. Методы измерения дрейфовой подвижности
- •6.3. Методы измерения времени жизни
- •6.3.1. Измерение времени жизни по фотоэлектромагнитному эффекту
- •6.3.2. Измерения времени жизни методом модуляции проводимости в точечном контакте
- •5 ‑ Осциллограф
- •7. Методы контроля структуры материалов твердотельной электроники
- •7.1. Методы электронной микроскопии
- •7.1.1. Растровая электронная микроскопия
- •В кремний от их энергии
- •7.1.2. Просвечивающая электронная микроскопия
- •7.2. Методы рентгеновской спектроскопии
- •7.2.1. Методы рентгеновской топографии
- •7.2.2. Рентгеновский микроанализ
- •7.3. Методы электронной и ионной спектроскопии
- •7.3.1. Электронная спектроскопия для химического анализа (эсха)
- •Электрона в веществе от его энергии
- •7.3.2. Электронная оже-спектроскопия
- •7.3.3. Вторичная ионная масс-спектроскопия (вимс)
- •Заключение
- •Библиографический список
- •Оглавление
- •394026 Воронеж, Московский просп., 14
6. Измерение параметров неравновесных носителей заряда
6.1. Параметры неравновесных носителей заряда
Параметры неравновесных носителей заряда не только характеризуют электрофизические свойства полупроводника, но и во многом определяют его возможности при изготовлении полупроводниковых приборов, в частности, от них зависят коэффициенты усиления транзисторов, обратные токи в p-n-переходах, частотные свойства, быстродействие и другие свойства приборных структур.
В полупроводниках свободные носители заряда, возникающие в результате тепловой генерации и находящиеся в термодинамическом равновесии с кристаллической решеткой, называются равновесными.
При воздействии на полупроводник света, рентгеновского и гамма-излучений, быстрых заряженных и нейтральных частиц (электронов, протонов, нейтронов), а также при инжекции носителей заряда из одной области полупроводника в другую возникают неравновесные носители заряда. Если обозначить п0 и р0 - концентрации термодинамически равновесных носителей, а п и р - концентрации неравновесных носителей, тогда п = п - п0, р = р - р0 – избыточные концентрации электронов и дырок, то есть та часть общей концентрации электронов п или дырок р, которая составляет избыток над термодинамически равновесной концентрацией носителей п0 и р0.
К параметрам неравновесных носителей заряда относятся их дрейфовая подвижность, коэффициент диффузии, диффузионная длина, скорость поверхностной рекомбинации и время жизни. Во многих случаях параметры неравновесных носителей заряда характеризуют неосновные носители заряда, то есть электроны в полупроводнике р - типа и дырки в полупроводнике п - типа.
Распределение неравновесных носителей заряда в полупроводниковом образце, его изменение в пространстве и времени описываются системой уравнений непрерывности с начальными и граничными условиями на поверхности, в которые входят все перечисленные параметры. Методы определения этих параметров основаны на решении соответствующих уравнений непрерывности.
Уравнения для плотностей токов неравновесных электронов и дырок при наличии диффузионного и дрейфового потоков имеют вид
(6.1)
Уравнения непрерывности
(6.2)
Из (6.2) следует, что скорость изменения концентрации носителей определяется процессами рекомбинации и временем жизни, а также процессами, связанными с диффузией и дрейфом (второе слагаемое) и скоростью генерации неравновесных носителей и . Уравнения (6.2) решаются при начальных и граничных условиях, которые определяются применением тех или иных методов измерения параметров неравновесных носителей.
Неравновесные носители в полупроводнике можно создать разными способами, наиболее распространенными из которых являются световая генерация и инжекция через p-n-переход.
При монополярной световой генерации образуются избыточные носители заряда одного знака, приводящие к нарушению нейтральности и к появлению объемного заряда и электрического поля в пределах длины экранирования. Носители тока не могут смещаться на большие расстояния из-за электростатических сил притяжения к неподвижным ионам с зарядами противоположного знака. Время жизни неравновесных носителей заряда в этом случае определяется максвелловским временем релаксации.
Иные условия имеют место при биполярной световой генерации, например, при собственном поглощении света, когда образуются равные количества неравновесных носителей заряда обоих знаков. В этом случае диффузия носителей одного знака из-за стремления к нейтральности приводит к движению свободных носителей противоположного знака и может распространяться на значительные расстояния, определяемые временем жизни свободных носителей и их подвижностью и не связанные с дебаевской длиной экранирования. Во внешнем электрическом поле неосновные носители будут дрейфовать как заряженные частицы, не создавая при этом объемного заряда из-за быстрого перераспределения основных носителей заряда.
Генерация неравновесных носителей заряда может быть осуществлена также инжекцией их с выпрямляющего контакта, включенного в прямом направлении. На использовании инжекции неосновных носителей заряда выпрямляющим контактом основан прямой метод измерения их дрейфовой подвижности во внешнем электрическом поле.