8.3.2. Экспонирование оборотной стороны пластины

Назначение экспонирования. Экспонирование оборотной сто­роны пластины проводится с целью формирования основания фор­мы (см. рис. 8.3, а), на котором в дальнейшем формируются печа­тающие элементы. Основание ограничивает максимальную глубину пробельных элементов и, таким образом, определяет высоту рельефа печатной формы (рис. 8.14).

а б в

Рис. 8.14. Влияние продолжительности экспонирования оборотной стороны пластины на высоту рельефа формы: а — недостаточная;

б —оптимальная; в — избыточная

Высота рельефа рассчитывается как разница между толщиной печатной формы и толщиной ее основания. Экспонирование оборот­ной стороны служит также для повышения светочувствительности ФПС за счет связывания в объеме ФПК кислорода, являющегося ин­гибитором полимеризации. Это позволяет снизить длительность по­следующего основного экспонирования. Кроме того, это экспониро­вание способствует прочному закреплению мелких печатающих элементов на основании печатной формы. Процесс проводится УФ- излучением зоны А (с длиной волны 360-380 нм) через подложку пластины (см. рис. 8.3, а), при этом ФПС полимеризуется на глуби­ну, зависящую от величины экспозиции.

Факторы, влияющие на величину экспозиции. Величина экс­позиции зависит от толщины формной пластины и характера изобра­жения. Поскольку ее толщина связана с высотой (глубиной) рельефа печатной формы, следовательно, с толщиной ее основания, то экспо­нирование оборотной стороны толстослойных пластин должно быть более длительным, чем тонкослойных. Более длительным должно быть также экспонирование оборотной стороны при изготовлении пе­чатной формы, содержащей растровое изображение. Это связано с особенностями формирования растрового элемента на печатной фор­ме. На рис. 8.14 показано влияние продолжительности экспонирова­ния оборотной стороны на высоту рельефа формы. Слишком короткое экспонирование может привести к формированию тонкого основания (рис. 8.14, а) и, следовательно, к потере мелких печатающих элемен­тов на форме из-за наличия незаполимеризованного слоя между осно­ванием и образованным печатающим элементом (см. рис. 8.8, а). Из­

лишняя продолжительность процесса приводит, наоборот, к созданию слишком толстого основания (рис. 8.14, в) и не позволит создать не­обходимый рельеф печатной формы.

Рис. 8.15. Профиль однослойной контрольной пластины со ступенчатым экс­понированием оборотной стороны

^п.ф

h

1

/М

экс

f, сек

Рис. 8.16. Определение времени экспонирования оборотной стороны пластины

h_t

Метод определения времени экспонирования оборотной сто­роны пластины. Определение времени экспонирования проводится тестированием с использованием метода ступенчатого экспониро­вания. Отдельные участки пластины получают дозированную экс­позицию, задаваемую временем, причем каждый участок формной

пластины экспонируется от­дельно. Затем проводят ос­новное экспонирование пла­стины (со стороны ФПС), часть которой закрыта све­тонепроницаемым материа­лом. На экспонированной части пластины формирует­ся плашка и толщина этой части будет соответствовать толщине пе­чатной формы И_п ф. В дальнейшем проводится вымывание, более дли­тельное, чем обычно для данного типа пластин (это исключает влия­ние времени вымывания на определение времени экспонирования оборотной стороны пластины).

После сушки и охлаждения пластины на полученной печатной форме (рис. 8.15) измеряют толщины И\, ... Л/, соответствующие за­данным экспозициям, и толщину печатной формы Л_п.ф. Затем вы­числяют глубину рельефа на уча­стках формы, полученных при различном времени экспонирова­ния, и строят зависимость глуби­ны рельефа h от времени экспо­нирования оборотной стороны пластины (рис. 8.16). По этому графику с учетом требуемой глу­бины рельефа Ар (она зависит от толщины пластины и характера

изображения) определяют необходимое время экспонирования обо­ротной стороны пластины г_экс.