Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
ТЕХНОЛОГИЯ ФОРМНЫХ процесов.doc
Скачиваний:
3
Добавлен:
01.05.2025
Размер:
5.81 Mб
Скачать

6.3.2. Аналоговые тестовые шкалы и тест-объекты для контроля формного процесса

Тоновые (полутоновые) ступенчатые шкалы. Важной со­ставляющей формного процесса является его контроль на различ­ных стадиях, а также проверка готовых печатных форм. Для этих целей многие фирмы предлагают разнообразные тест-объекты и тестовые шкалы. Самыми простейшими шкалами являются тоно­вые (полутоновые) ступенчатые шкалы. Они содержат ряд тоновых полей (сегментов) в интервале оптических плотностей пропускания от 0,15 единиц оптической плотности, реже от 0,05 до 1,95-2 с ша­гом изменения оптической плотности ДD, обычно равным 0,15. Существуют несколько видов тоновых ступенчатых шкал, отли­чающихся количеством полей и значениями оптических плотно­стей. Принцип их действия рассмотрен в § 4.1.1.

Тоновые ступенчатые шкалы, например сенситометрические ступенчатые шкалы (СПШ-К), разработанные специалистами ВНИИ полиграфии, служат для определения режимов экспониро­

вания, а также оценки и сравнения светочувствительности форм­ных пластин. Правильность выбора продолжительности экспони­рования контролируется по номеру полностью проявленного поля шкалы. Число полностью проявленных полей регламентировано в зависимости от типа формных пластин, их репродукционно- графических и сенситометрических свойств.

Растровая шкала РШ-Ф (ВНИИ полиграфии) относится к шка­лам оперативного контроля формного процесса (рис. 6.6).

5

г* г* і* о Г 2" 3" 4

я

-4- Хл-

Рис. 6.6. Схема шкалы оперативного контроля РШ-Ф

Шкала состоит из 7 контрольных высоколиниатурных растровых полей, окруженных растровым фоном более низкой линиатуры (причем площади растровых элементов фона и полей шкалы одина­ковы). Шкала содержит два дополнительных поля с относительной площадью элементов 2,6 и 4,3%. Искажения элементов на растровых полях меняются от ±3,3% на полях Ґ и Г до ±6,6% и ±9% на полях 2~ и соответственно.

Применение контрольных шкал такого типа основано на том, что решетки с различной пространственной частотой по-разному преобра­зуются в процессе копирования. В результате, одна низкочастотная решетка сохраняет постоянство оптических плотностей, а решетка бо­лее высокочастотная в зависимости от экспозиции становится или бо­лее темной, или более светлой. Подбором экспозиции можно выров­нять результат, поэтому такую структуру используют для визуального контроля экспозиции с точки зрения точности воспроизведения рас­тровых элементов.

Если режимы изготовления печатной формы оптимальны, то по­ле 0 на растровом фоне будет визуально едва заметным. При нару­шении режимов экспонирования поле 0 на растровом фоне резко выделяется. Шкала РШ-Ф при совпадении по светлоте одного из контрольных полей (3+, 2+, Ґ, 0, 2~, с фоном позволяет полу­чить количественную оценку максимальных градационных искаже­ний. Поля контроля высоких светов (4,5) дают информацию о каче­стве копирования мелких растровых элементов. Степень искажений изображений с линиатурой 40, 50 и 60 лин/см находят по специаль­ной таблице, приложенной к шкале, по номеру поля, которое при ви­зуальном рассмотрении шкалы сливается с фоном.

Тест-объект UGRA Plate Control Wedge 1982 (UGRA-82). Это универсальный тест-объект для контроля формного процесса (рис. 6.7).

Рис. 6.7. Тест-объект UGRA-82

  • Фрагмент 1 - это ступенчатый тоновый клин.

  • Фрагмент 2 представлен штриховыми элементами (штрихами и просветами) различных размеров, выполненными в виде концентри­ческих окружностей. Этот фрагмент используется для определения размера минимально воспроизводимого штриха и последующей оцен­ки разрешающей способности (см. § 4.2.1). Ширина микроштрихов составляет 4-70 мкм, расстояние между штрихами 36-350 мкм, соот­ветственно, поэтому разрешающая способность при воспроизведении той или иной группы штрихов изменяется от 250 до 24 лин/см.

  • Фрагмент 3 — это растровая шкала, состоящая из 10-ти полей с линиатурой растрирования 60 лин/см с шагом S01", равным 10%.

Этот фрагмент служит для построения градационной характеристи­ки печатной формы в координатах = /(5°™), где — отно­сительная площадь растровых точек на полях фрагмента 3 шкалы UGRA- 82.

  • Фрагмент 4 содержит четыре области с микроштрихами, распо­ложенными горизонтально, вертикально и под углами 45 и 90°. Этот фрагмент необходим для оценки двоения и скольжения в печатном процессе.

  • Фрагмент 5 содержит по шесть полей в области высоких светов с S0,5-5% и в области глубоких теней с 5°™ 95-99,5%. Он слу­жит для оценки воспроизведения мелких растровых точек, а также позволяет определить интервал воспроизводимых градаций.

Тест-объект FOGRA Kontakt-Kontrollstreifen (.FOGRA KKS). На тест-объекте FOGRA KKS (рис. 6.8) размещены три кольцевых кон­трольных элемента одинакового диаметра (25 мм), состоящие из тонких линий одинаковой ширины, пронумерованных от центра к периферии.

Рис. 6.8. Схема тест-объекта FOGRA KKS: а — общий вид; б — вид в разрезе;

1-3 — контрольные элементы

Центральный фрагмент в форме круга на всех трех контрольных элементах выступает над плоскостью шкалы, вызывая намеренное нарушение плотного контакта (рис. 6.8, б), причем центральный фрагмент первого элемента возвышается на 75±5мкм, второго — на 150±5мкм, а третьего — на 225±5мкм.

Копирование тест-объекта FOGRA KKS на формные пластины позволяет оценить систему вакуумирования копировального станка и определить необходимую продолжительность создания вакуума, оценивая размер пятна вокруг центрального фрагмента. Величина пятна измеряется количеством линий на контрольных элементах, не воспроизведенных на копии. Допустимым является пятно на копии второго элемента, охватывающее область линий от 1 до 14-19, и третьего - до 20-25 линий.

Растровый тест-объект RK-01 KALLE представляет собой объединенные в одном тест-объекте две растровые шкалы с линиа- турами 60 и 120 лин/см, каждая из которых содержит по 12 полей с различной S0TH от 5 до 100% (с переменным шагом 5 и 10%). Он

служит для оценки воспроизведения растровых изображений с раз-

М v ґу от н

личнои линиатурои путем измерения опф и построения градацион­ных характеристик в координатах 5потфн = Д5тотн), где 5Т0ТН - относи­тельная площадь растровых элементов на тест-объекте.