
- •2.4. Залежність напруженості поля і електростатичного потенціалу від віддалі в запірному шарі і від концентрації електронів в об`ємі напівпровідника
- •2.5. Зміна зонної схеми контакту напівпровідник-метал при накладенні постійного зовнішнього поля
- •2.6. Товщина запірного шару
- •2.3. Теорія випрямлення на контакті напівпровідник-метал
- •1.Фізичні процеси в затемненому р-n-переході
- •Розподіл густини об’ємного заряду та концентрації носіїв заряду в р-n-переході
- •1.2 Зонна схема рівноважного стану р-n переходу. Контактна різниця потенціалів в р-n-переході
- •1.3 Розподіл напруженості поля і електростатичного потенціалу в р-n-переході
- •1.4 Вольт-амперна характеристика тонкого р-n переходу
- •1.5 Генерація і рекомбінація носіїв в області об’ємного заряду
- •2.1 Фотовольтаїчний ефект в напівпровідниках з електронною неоднорідністю. Струм короткого замикання і напруга холостого ходу
- •2.2 Вах освітленого фотоелемента.
- •2.3 Вплив послідовного і шунтуючого опору на вольт-амперну характеристику сонячного елемента
- •1.9. Ефективність роботи фотоперетворювача
1.2 Зонна схема рівноважного стану р-n переходу. Контактна різниця потенціалів в р-n-переході
При відсутності зовнішньої напруги р-n-перехід знаходиться в рівновазі. Дифузійні струми основних носіїв заряду зрівноважуються дрейфовими струмами неосновних носіїв заряду, так, що повний струм через р-n-перехід рівний нулю.
На рис. 1.4, а приведена зонна схема для рівноважного стану р-n-переходу. Рівень Фермі являється спільним для всіх областей напівпровідника, дно зони провідності в дірковому напівпровіднику Еср займає найвище положення, що відповідає малій концентрації електронів, оскільки рівень Фермі розміщується далеко від Еср (нижче Еір).
Error: Reference source not found
Рис. 1.4 Зонна схема рівноважного стану несиметричного р-n-переходу (а) і зміна потенціалу в р-n переході (б)
Відмітимо,
що хід потенціалу протилежний зміщенню
зон, так що потенціал в електронній
частині напівпровідника найвищий, а в
дірковій найнижчий. При переході із n-
в р-область потенціал зменшується на
величину контактної різниці потенціалів
(рис. 1.4, б). Але і вигин зон може
характеризу-вати цю різницю потенціалів,
при чому він рівний:
.
(1.7)
Крім того,
(1.8)
;
(1.9)
.
(1.10)
Із співвідношень (1.9) і (1.10) знаходимо величини Еф - Еіn і Еір - Еф і підста-вляємо в (1.8). Звідси:
.
(1.11)
З останньої формули видно, що чим сильніше леговані обидві області напівпровідника (чим більші nn0 і рр0), тим більша контактна різниця потенціалів. Максимальне значення еVк в невироджених напівпровідниках можна визначити безпосередньо по діаграмі рис. 1.4, а, так що
;
(1.12)
тобто
рівна ширині забороненої області. В
звичайних ж умовах
.
На основі (1.11) можна отримати формули,
які будуть виражати рівноважні
концентрації неосновних носіїв заряду
через рівноважні концентрації основних
носіїв заряду в протилежних областях
і контактну різницю потенціалів:
;
(1.13)
.
(1.14)
Розглянемо тепер, як буде змінюватись зонна діаграма при накладанні на р-n-перехід зовнішньої напруги. Згадаємо, що „плюс” зовнішнього джерела опускає рівні енергії в зонній діаграмі, а „мінус” – піднімає. Крім того, при накладанні поля порушується рівновага і рівні Фермі замінюються на квазірівні. Полем в товщині напівпровідника нехтуємо, тобто вважаємо, що зони йдуть горизонтально. Це означає, що практично вся зовнішня напруга спадає на р-n-переході. На рис. 1.5 приведені зонні діаграми р-n-переходу в рівновазі (рис.1.5, а), при прямому (рис. 1.5, б) і зворотному (рис. 1.5, в) включенні.
Error: Reference source not found
Рис. 1.5 Зонна діаграма для рівноважного стану (а), при прямому (б) і зворотному (в) включенні симетричного р-n переходу
При
накладанні зовнішнього поля в прямому
напрямку вигин зон на р-n
переході зменшується і рівний
.
Тут φn
і φр
– зміна потенціалу в n-
і р-областях. Квазірівні Фермі для
основних носіїв заряду в n-області
(ЕФn)
і основних носіїв заряду в р-області
(ЕФр)
зміщуються один відносно одного на еV,
тобто:
.
Для тонкого р-n-переходу можна вважати квазірівень ЕФn незмінним по всій n-області, а також у всьому р-n-переході. Навпаки, квазірівень ЕФр можна вважати однаковим в р-області і у всьому р-n-переході. Як показують розрахунки, зміщення квазірівнів ЕФn і ЕФр в р-n-переході в порівнянні з їх положенням в n- і р-областях лежить в межах величини kT, так що цим зміщенням зазвичай нехтують. Пунктирними лініями умовно нанесені квазірівні Фермі для неосновних носіїв заряду в кожній із областей. На відстані від р-n-переходу вони співпадають з квазірівнями для основних носіїв заряду, тобто рівнями Фермі для кожної із областей.
При накладанні зовнішнього поля в зворотному напрямку (рис. 1.5, в) вигин зон на р-n переході збільшується і рівний е(Vк+Vзв) , де Vзв – частина
зовнішньої напруги, яка спадає на р-n-переході. Якщо вважати зворотну напругу від’ємною і позначити її через V, то вказаний вигин зон буде е(Vк – V) = (φn + φp)e. Квазірівні Фермі зміщуються так, що залишається справедливим (15), тільки обидві частини цього рівняння від’ємні.