Установка реактивной ионно-лучевой полировки поверхности "конус".

Пластина неподвижна. Возвратно-поступательное движение источника. Назначение: реактивная ионно-лучевая полировка поверхности пластин полупроводников и диэлектриков . Тип источника — щелевой сканирующий .

Технические характеристики:

Основные параметры источника:

1. Средняя энергия ионов 0,2 - 0,5 кэВ;

2. Ток ионного пучка 150 мА;

Основные параметры установки :

1. Режим работы - автоматический, шлюзовая загрузка-выгрузка, управление от ЭВМ ;

2. Размер пластин 150 мм;

3. Количество одновременно загружаемых пластин - 2 шт.;

Основные параметры установки :

1. Режим работы - автоматический, кроме загрузки / выгрузки, управление от ЭВМ;

2. Точность настройки резонатора ± 510^-6 f ном;

3. Диапазон перестройки - ± 210^-3 f ном;

4. Количество одновременно загружаемых резонаторов

- 96 шт.;

5. Производительность 100 шт/ч;

6. Средства откачки - турбомолекулярный насос;

7. Рабочее давление 1,310^-1 Па;

8. Предельное остаточное давление 610^-3 Па;

9. Потребляемая мощность 10 кВт;

10. Габаритные размеры 2300 х 1150 х 2300 мм;

11. Масса 1000 кг.

Назначение: проведение операций отжига, индивидуальной настройки частоты кварцевых ПАВ -резонаторов с диапазоном частот от 100 до 300 МГц с автоматическим контролем частоты, обезгаживания и холодной сварки основания и колпачка резонатора в едином вакуумном цикле. Тип источника "Радикал—1".

Технические характеристики:

Основные параметры источника :

1. Средняя энергия ионов 0,5 кэВ;

2. Ток ионного пучка (5 - 10)10^-3 А;

Основные параметры установки:

1. Режим работы - автоматический, кроме загрузки / выгрузки, управление от ЭВМ;

2. Точность настройки 510^-5 f ном;

3. Диапазон перестройки 510^-4 f ном;