Установка ионно химического травления урмз. 279.053
|
В этой установке подложкодержатель совершает вращательное движение. Назначение установки: реактивное ионно-лучевое и ионно - лучевое травление металлических, полупроводниковых и диэлектрических пленок в производстве ППП и ИС. Тип используемого источника - "Радикал-2".
Технические характеристики:
Основные параметры источника : 1. Средняя энергия ионов, кэВ - 0,1—0,2 2. Ток ионного пучка, А - 1,0—2,5
|
Основные параметры установки
1. Режим работы автоматический, кроме загрузки/выгрузки, управление технологическим процессом от программатора.
2. Размер пластин - φ 80 мм ;
3. Количество одновременно загружаемых пластин - 20 шт.
4. Производительность - 80 штук в час.
5. Неравномерность обработки (5-7) %
6. Средства откачки - диффузионный насос.
7. Рабочее давление 610-2 Па;
8. Предельное остаточное давление 1,310-4 Па;
9. Потребляемая мощность 10 кВА;
10. Габаритные размеры 1920 х 1905 х 1450,мм
11. Масса 1500 кг .
Установка реактивного ионно - лучевого
ТРАВЛЕНИЯ “КАШТАН”.
|
Положкодержатель совершает сложное вращательно-колебательное движение. В данной установке осуществляется контроль окончания процесса травления. Назначение: прецизионное ионно - лучевое травление пленок металлов и их сплавов, диэлектриков и полупроводников пучками ионов инертных и химически активных газов. Тип источника "Радикал-М-200".
Технические характеристики: Основные параметры источника : 1. Средняя энергия ионов 0,2 - 0,5 кэВ;
Основные параметры установки : |
1. Режим работы - автоматический, кроме загрузки/выгрузки; управление от ЭВМ;2. Размер пластин - 150 мм;
3. Количество одновременно загружаемых пластин - 1 шт.
4. Производительность - 3 шт/ч;
5. Неравномерность обработки - + (3-5) %;
6. Средства откачки - диффузионный насос;
7. Рабочее давление 710-2 - 410-1 Па;
8. Предельное остаточное давление 310-3 Па;
9. Потребляемая мощность - 12 кВА;
10. Габаритные размеры 1850 х 1500 х 1805, мм;
Масса 950 кг.
Автоматический модуль реактивного ионно-лучевого травления
|
Подложка и источник в этой установке находятся в неподвижном состоянии. Назначение: селективное реактивное ионно - лучевое травление металлизации и сплавов алюминий-медь, структур хром - медь - хром и SiO2. Тип источника "Радикал М - 250". Технические характеристики: Основные параметры источника: 1. Средняя энергия ионов 0,2 - 0,5 кэВ; 2. Ток ионного пучка 0,4 А; Основные параметры установки 1. Режим работы - автоматический, управление производится от ЭВМ; 2. Размер пластин 76 мм ; |
3. Количество одновременно загружаемых пластин1 шт ;
4. Производительность при травлении пленки SiO2 10 шт/ч , при травлении пленки пермаллоя 3 шт/ч ;
5. Неравномерность обработки ± 5%;
6. Средства откачки турбомолекулярный насос;
7. Рабочее давление 110-1 Па;
8. Предельное остаточное давление 110 -3Па;
9. Потребляемая мощность 10 кВА;
10. Габаритные размеры 3770 х 1610 х 3270 мм;
11. Масса 1750 кг.