- •Введение
- •1 Область применения титановых сплавов
- •2 Литейные свойства титановых сплавов
- •3 Плавильно-заливочное оборудование
- •4 Формовочные материалы для титанового литья
- •5 Стационарная заливка форм
- •6 Заливка форм под повышенном давлении
- •7 Литье под давлением
- •8 Центробежное литье
- •9 Изостатическое прессование
- •10 Изотермическая штамповка
- •11 Ротационное деформирование
- •12 Формообразование листовых деталей
- •13 Сверхпластическое формование листовых деталей
- •14 Качество титановых отливок
- •14.2 Качество поверхности отливок
- •14.3 Плотность отливок
- •14.4 Точность отливок
- •15 Контроль отливок и исправление дефектов
- •Конструкция лопаток и технические условия на их изготовление.
- •1.2 Особенности производства лопаток гтд
- •1.3 Анализ изготавливаемой конструкции на технологичность
- •1.3.1 Обоснование выбора материала конструкции и его характеристика.
- •1.3.2. Применение титановых сплавов для изготовления лопаток компрессора.
- •1.3.3 Технологические особенности штамповки лопаток.
- •1.3.4 Механическая обработка штампованных лопаток.
- •1.3.5 Финишно – упрочняющая обработка лопаток компрессора из титановых сплавов.
- •Классификация методов упрочнения
- •1.4 Разработка технологического процесса упрочнения на установке вита.
- •1.4.1 Физико-химические основы ионной имплантации
- •Менее длителен процесс легирования при высокой однородности распределения имплантированного вещества по поверхности;
- •1.4.2 Закономерности испарения и конденсации металлов в вакууме при нанесении покрытий.
- •Методы создания защитных покрытий в вакууме
- •1.5 Источники плазмы для вакуумной
- •1.5.1 Разряды, используемые в источниках плазмы
- •2.3.2 Устройство и принцип работы источника плазмы «пинк»
- •1.5.2 Обоснование выбора технологических режимов обработки
- •1.5.3 Описание технологического процесса и документирование.
- •2 Конструкторская часть.
- •2.1.1 Принцип работы и краткое описание установки «Вита»
- •2.1.2 Основные узлы вакуумной установки вита
- •2.1.3 Мероприятия по модернизации установки
- •2.1.4. Обоснование технологического задания на модернизацию вита.
- •2.1.5 Проектирование узла «Крышка водоохлаждаемая»
- •2.1.5.1 Расчет толщины крышки.
- •2.1.5.2 Кинематический расчет механизма вращения.
- •2.1.5.3 Проектирование узла «Вращатель»
- •2.1.6. Точностной расчет приспособления.
- •2.1.8 Расчет подшипников качения
- •Заключение
- •Список литературы
2.3.2 Устройство и принцип работы источника плазмы «пинк»
Плазменный источник (или плазмогенератор) с накаленным катодом («ПИНК») предназначен для генерации газовой плазмы, которая может использоваться для очистки и активации изделий, для ионной имплантации, а также для нанесения покрытий в режиме плазменного ассистирования.
В плазмогенераторе, конструкция которого представлена на рис. 2, используется комбинированный катод, состоящий из помещенных в продольное магнитное поле цилиндрической полости и расположенного в ней накаленного катода. Цилиндрическая катодная полость выполнена из нержавеющей стали и имеет диаметр 120 мм и длину 280 мм. Накаленный катод изготовлен в виде спирали из вольфрамовой проволоки диаметром 2 мм, закрепленной на медных водоохлаждаемых токовводах. При токе 180 А катод обеспечивает эмиссию до 10 А. Магнитная система обеспечивает стабилизацию разряда и некоторую фокусировку разрядной плазмы. Катодная полость закрепляется на водоохлаждаемом фланце, который изолирован от корпуса плазмогенератора с помощью изолирующей прокладки. Корпус плазмогенератора, находящийся под анодным потенциалом, установлен на заземленную вакуумную камеру.
Рис. 2. Схема источника газовой плазмы «ПИНК»
1 – вакуумная камера; 2 – полый катод; 3 – накальный катод;
4 – магнитная система; 5 – ИП накала; 6 – ИП разряда
Эмиттируемые накаленным катодом электроны движутся вдоль силовых линий магнитного поля в направлении анода, роль которого выполняют заземленные стенки вакуумной камеры. Так как напуск рабочего газа производится в катодную полость, то вблизи накаленного катода создается область повышенного давления. Наличие потока ускоренных электронов, траектории которых удлиняются за счет магнитного поля, и области с повышенной концентрацией молекул рабочего газа облегчают зажигание и горение несамостоятельного дугового разряда при низких давлениях. Разряд существует между катодом, которым являются как накаленная катодная нить, так и соединенная с ней катодная полость, и полым анодом с площадью, равной площади внутренней поверхности вакуумной камеры.
Плазмогенератор работает следующим образом. После подачи рабочего газа и установления в камере рабочего давления (~10-1 Па) включается накал катода и подается напряжение на разрядный промежуток. Происходит зажигание дуги низкого давления с накаленным катодом. Плазма, генерируемая таким разрядом, заполняет анодную полость, являясь рабочей средой для обработки поверхности помещенных в нее материалов и изделий. Использование накаленного катода позволяет за счет изменения его эмиссии контролировать ток разряда, реализуя режим несамостоятельного дугового разряда без катодного пятна
Основные технические характеристики источника плазмы «ПИНК»
ток разряда 10…250 А;
напряжение горения 30…60 В;
ток накала 100-170 А;
диапазон рабочих давлений 0,01…1 Па;
мощность, потребляемая накалом до 1,5 кВт;
мощность, потребляемая разрядом до 10 кВт;
срок службы накаленного катода не менее 20 часов.