Литература / Шишкин Г. Г. , Шишкин А. Г. Электроника 2009 (1)
.pdf572 |
Раздел 5. ПРИБОРЫ КВАНТОВОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ |
гию электромагнитного лазерного излучения с высоким КПД
(~ 10% ). К другим достоинствам химических лазеров можно от нести большие мощности излучения в непрерывном режиме
()' 10 кВт), высокое значение удельной энергии(~ 10 Дж/л), от
сутствие громоздких источников питания. Химические лазеры работают на колебательно-вращательных уровнях в спектраль ном диапазоне 3 ... 10 мкм.
19.6.3. Рентгеновские лазеры (Л < 100 нм).
Разработка этих лазеров обусловлена требованиями разви
тия нанотехнологий, особенно в области микроэлектроники,
применениями в оптической микроскопии, голографии, в перс
пективных системах противоракетной: обороны и т. д. Энергия :кванта излучения в рентгеновс:ких областях спе:ктра составляет дес.ят:ки и даже сотни эВ, что создает большие трудности при разработке подходящих активных сред с нужным спектром энергетичес:ких уровней. Кроме того, в рентгеновском диапазоне
возрастает роль спонтанных переходов, поскольку отношение
их вероятности к вероятности индуцированного излучения про
порцiюнально :кубу частоты АтпlВтп ~ ro3 , что затрудняет гене
рацию индуцированного излучения (см. п. 17.1).
В качестве активных сред в рентгеновских лазерах использу
ются плазменные среды с многократно ионизированными ато
мами. Энергетические состо.яни.я ионов по своей структуре ана
логичны энергетической структуре соответствующих атомов с той лишь разницей, что значения разности энергий уровней ионизированных атомов намного больше, чем дл.я нейтраль ных. Например, спектры разрешенных значений энергии вось
микратно ионизированного атома аргона Ar8 + или иона селена
Se24+ аналогичны спектру атома Ne, но значения разности энер
гий уровней у этих многократно ионизированных атомов Ar и Se больше, чем у Ne, в 50 и 500 раз соответственно.
Получение плазмы с та:кими много:кратно ионизированными (многозарядными) ионами возможно только в ·установках типа
тех, которые используются для термоядерного синтеза, поэтому
это ограничивает их применение в настоящее время. Однако в
силу важности отмеченных выше возможных применений, ра
боты по созданию этих лазеров в развитых странах проводятся
достаточно интенсивно. В настоящее врем.я уже получена ла
зерная генерация в режиме сверхкоротких импульсов на Se24+,
574Раздел 5. ПРИБОРЫ КВАНТОВОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ
6.Объяснить факторы, определяющие КПД газовых лазеров.
7.Особенности устройства и физические механизмы генерации эксимерных и химических лазеров. Применение и парамет
ры эксимерных лазеров.
8. Особенности устройства и физические механизмы генерации
рентгеновских лазеров и лазеров на свободных электронах.
Применение указанных типов лазеров и их параметры.
Глада 20 -1-------
ТВЕРДОТЕЛЬНЫЕ И ЖИДКОСТНЫЕ ЛАЗЕРЫ
20.1. Особенности активных сред
'
В твердотельных лазерах активным веществом является крис-
таллический или аморфный диэлектрик, в котором генерирую
щими центрами являются специально введенные активные ато
мы. По принципу действия к лазерам на твердом теле очень близ
ки жидкостные лазеры, в которых активным веществом служат
жидкие диэлектрики с растворенными в них примесями.
Структура энергетических уровней примесных атомов в ряде
растворов оказывается весьма близкой к той, которая наблюда
ется в твердых диэлектриках. В силу сказанного, процессы в
твердотельных и жидкостных лазерах имеют много общего и, сле довательно, оба типа лазеров целесообразно рассматривать вмес те. Концентрация активных атомов обычно составляет единицы
или доли процента от полного числа атомов в среде, т. е. актив
ное вещество в рассматриваемых типах лазеров представляет
собой раствор или аналогичную среду слабой концентрации, по
добную идеальному газу. Однако по сравнению с газовыми лазе
рами концентрация активных частиц в твердотельных и жид
костных лазерах все же намного больше, что позволяет в кон денсированных средах достигнуть большей плотности инверсии населенностей и большего удельного энергосъема. Существен ным недостатком таких лазеров, из-за особенностей активного вещества, является ограничение способов накачки практически
единственным, а именно облучением вещества светом (оптиче ская нак~~чка).
576Раздел 5. ПРИБОРЫ КВАНТОВОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ
3.Активное вещество должно обладать по возможности малы
ми оптическими потерями за счет рассеяния на неоднород
ност.ях на частоте генерации. Эти потери уменьшают доброт ность резонатора и, следовательно, КПД лазера.
Наиболее полно указанным требованиям удовлетворяют ак
тивные диэлектрики, представляющие собой твердые растворы
элементов с недос'троенными внутренними электронными обо лочками (парамагнитные ионы) в различных кристаллических и аморфных матрицах. Из-за хорошей экранировки недостроен ных внутренних электронных оболочек переходных элементов
периодической системы от внешнего пол.я валентными электро
нами при введении таких элементов в конденсированную среду
не происходит при взаимодействии с решеткой коренной пере стройки их энерrетического спектра. Однако активный парамаг нитный ион в диэлектрике (матрице) находится под воздействи
ем электростатического поля окружающих его частиц среды, в
результате чего изменяются энергетическая структура иона, а
также вероятности излучательных и безызлучательных перехо дов. Лазерные рабочие переходы осуществляются между уровня ми энергии активных ионов. Поэтому нахождение оптимальной матрицы являете.я важной задачей.
Сформулируем основные требования, которым должны удов летворять матрицы лазерных диэлектриков. Матрица должна
обладать:
хорошими оптическими свойствами - оптической однород
ность.ю, прозрачностью для лазерного излучения;
хорошим согласованием с активатором (активным вещест вом), чтобы можно было вводить заданный а.ктиватор в регу
лируемых количествах без нарушения ее механических и оп
тических свойств;
хорошей теплопроводностью, чтобы исключить термические
деформации и термооптические искажения;
высокой стойкостью по отношению к лазерному излучению
и мощному излучению накачки.
В настоящее время не создано материала, удовлетворяющего в
полной мере перечисленным требованиям. Наилучшими свойст
вами обладают: рубин (А1203 : Cr3+), алюмоиттриевый гранат, ак тивированный ионами неодима (У3А15012 : Nd3+, илиУАG: Nd3+),
578 |
Раздел 5. ПРИБОРЫ КВАНТОВОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ |
Максимум спектральной плотности потока излучения черно го тела, в соответствии с формулой Планка, при температуре ~ 3000 К приходится на ИК диапазон. Подобные источники мо гут быть использованы для возбуждения таких кристаллов, как
CaF2 : Dy2+ и YAG: Nd3+, имеющих полосы поглощения в ближ
ней ИК области. При увеличении эффективной температуры ис
точника согласно закону Вина максимум в спектре излучения
смещается в коротковолновую область. Расчеты и эксперимен ты показывают, что спектральный максимум на длине волны 560 нм наблюдается при температуре около 6500 К, а на длине
волны 410 нм - при 10 ООО К. "Указанные полосы характерны для спектра поглощения рубина, широко используемого в твер дотельных лазерах. Суммарное значение эффективности (КПД)
для двух указанных полос составляет в максимуме излучения
около 30%. Эффективные температуры излучения порядка 5000 ... 15 ООО К реализуются в газоразрядной плазме, в силу че
го газоразрядные лампы получили широкое распространение
среди источников накачки твердотельных лазеров.
Наиболее важными параметрами таких источвиков являют
ся КПД, спектральный состав излучения, предельно допусти мая мощность (энергия). КПД лазера 11л определяется как отно шение излучаемой энергии W л к потребляемой электрической
энергии We, т. е. 11л = Wл/We.
Как правило, для накачки твердотельных лазеров используют
ся импульсные газоразрядные лампы, заполненные ксеноном или
парами ртути, либо галогенные лампы накаливания, в которых лампа заполняется парами иода или фтора, либо смесью раз личных галогенов. Наиболее распространены лампы с модным циклом. Галогенные лампы в ос-
|
r,_ |
|
|
|
|
новном используются для накач |
|
|
|
|
|
|
|
||
OTIJ. ед. |
|
|
|
|
ки в непрерывном режиме. Гало |
||
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
гены восстанавливают накальную |
|
3 |
|
|
|
|
|
нить и предотвращают ее распы |
|
|
|
|
|
|
50атм |
ление. В процессе горения лампы |
|
2 |
|
|
|
|
при высокой температуре проис |
||
|
- |
"'\ |
|
/ |
|||
|
|
|
ходит распыление вольфрамовой |
||||
|
1 |
- |
300 атм |
||||
1 |
|
\ |
нити. В результате происходит |
||||
lJL |
\. |
|
r-.( |
||||
|
|
|
затемнение поверхности стеклян |
||||
|
....... .... |
'~- |
|||||
о |
ного баллона за счет оседания |
||||||
|
0,4 |
'- |
|
||||
0,3 |
0,5, |
|
0,6 Л, мкм распыленного вольфрама. Галоге- |
||||
|
|
|
Рис. 20.2 |
|
|
ны вступают в реакцию с парами |
|
580 |
Раздел 5. ПРИБОРЫ КВАНТОВОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ |
|
||
1 |
2 |
3 |
|
|
~а) |
2 |
1 |
||
2 |
4 |
|
г) |
||
1 |
||
|
||
3 |
|
б)
1
2
3
в) |
д) |
Рис. 20.5
ский отражатель, внутренние стенки которого покрыты зеркаль
ным слоем. Облучение активного кристалла происходит как пря
мым (от лампы) лучистым потоком, так и отраженным от по
верхности зеркального покрытия цилиндрического рефлектора.
Очевидно, что от эффективности выбранной системы накачки
в прямой зависимости находится КПД всего генератора в целом,
поэтому вопросам рационального конструирования их уделяется
большое внимание. Эффективность первой рассмотренной систе
мы относительно невысока, при этом большая часть излученной
энергии рассеивается вне образца. Для сравнительной оценки эф фективности различных систем накачки удобно пользоваться значением пороговой мощности или энерг~и возбуждения, при
которой возникает генерация в определенном активном образце.
В рассмотренной системе накачки пороговая энергия для ру бинового кристалла имеет порядок 1000 Дж. На один-два
порядка большей эффективностью обладают системы, в которых
используется фокусировка излучения на активном образце.
