Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Литература / Шишкин Г. Г. , Шишкин А. Г. Электроника 2009 (1)

.pdf
Скачиваний:
0
Добавлен:
05.06.2026
Размер:
30.97 Mб
Скачать

.502

Раздел 4. ПРИБОРЫ ОТОБРАЖЕНИЯ ИНФОРМАЦИИ

порядка одного эВ. С учетом этого на основании проведенных рас­ четов было показано, что максимальный КПД достигается при

ЛЕ3 = 1,35 эВ. На рис. 16.37 приведена зависимость Т\ = f(ЛЕ3)

для солнечного элемента, расположенного на Земле при Т =

=300 К и при освещении Солнцем, находящимся под углом 45°

кгоризонту. Если осуществить тысячекратную концентрацию

солнечного света с помощью оптических систем, то максималь­

ный кпд возрастет с 31до37%' что связано с увеличением ихх·

В реальных солнечных преобразователях максимальный КПД

заметно ниже идеализированного из-за влияния сопротивления

высокоомной базовой области, различных видов рекомбина­

ции, потерь на сопротивлении контактов и ряда других факто­

ров, которые будут рассмотрены ниже. Определяющее влияние

,на КПД рассматриваемых приборов оказывает квантовая эф­

фективность, или спектральный отклик, который представляет

собой чисдо генерируемых фотоэлектронов в полном токе при­ бора, приходящихся на один падающий фотон при облучении

монохроматическим светом с длиной волны Л. Этот параметр

связан с коэффициентом поглощения. В фотоэлементе, пред­

ставленном на рис. 16.33, при поглощении фотонов с низкими

энергиями основная доля носителей генерируется в базовой об­ ласти, поскольку коэффициент поглощения в Si мал. Если энер­ гия фотонов больше 2,5."3 эВ, то основная их доля поглощается

в лицевом слое. Скорость поверхностной рекомбинации на лице­

вой поверхности достаточно велика, и это приводит к значитель­

ному уменьшению фотоотклика. Для анализа электрической це­

пи, в которую включен фотоэлемент, весьма полезно знать его

эквивалентную схему, которая представлена на рис. 16.38. Гене­ ратор тока I Ф определяет генерацию неравновесных носителей за

счет облучения светом, диод VD моделирует идеализированный р-п-переход, БАХ которого описывается выражением (2.20); па­

раллельное сопротивление RY обусловлено токами у:гечки; после­ довательное сопротивление Rк определяется в основном сопротивлением высокоомной базовой области

и для солнечного элемента зависит от

глубины залегания перехода, концент­ рации примесей в п- и р-областях и

от конструкции лицевого омического

контакта (см. рис. 16.33). Теорети~ Рис. 16.38 ческий анализ эквивалентной схемы

Глава 16. Оптоэлектронные приборы

503

показывает, что даже такое малое шунтирующее сопротивле­

ние, как Ry = 100 Ом, практически не влияет на выходную мощ­

ность прибора. В действительности Ry много больше, поэтому его

влиянием тем более можно пренебречь.

Последовательное же сопротивление Rк даже при значениях < 1 Ом оказывает существенное влияние на выходную мощ­

ность. Так, при Rк = 5 Ом выходная мощность уменьшае'l'СЯ более чем на 30% по сравнению с оптимальной величиной при Rк =О.

Таким образом, при учете последовательного сопротивления Rк,

как и в обычном р-п-переходе (см. п. 2.3), ток, напряжение и

выходную мощность во внешней цепи можно определить соот­

ветствующими выражениями:

I = I 0 {ехр [q(U - IRк)/kT)] - 1} - IФ;

(16.16)

И= (kT /q) ln {[(J + JФ)/!0] + 1} + IRк; Р =

\IU\.

Для иллюстрации влияния сопротивления Rк на выходную

мощность можно привести следующий пример. Если при Rк = О выходная мощность Р = 1 Вт, то для Rк = 2 Ом, Р = 0,57 Вт, а

при Rк = 5 Ом выходная мощность, выделяемая во внешней це­ пи, равна лишь 0,27 Вт. Типичные значения Rк для. кремниевого солнечного элемента, изображенного на рис. 16.33, составляют 0,4...0, 7 Ом. На рис. 16.36, а (кривая 2) проиллюстрировано влия­ ние Rк на ВАХ, там же показан заштрихованный прямоуголь­

ник, площадь которого определяет максимальную мощность,

производимую фотоэлементом при Rк = 5 Ом, и незаштрихован­

ный прямоугольник - для максимальной мощности при Rк =О.

В реальных солнечных элементах, в отличие от идеализиро­

ванных, на величину прямого тока оказывает влияние рекомби­ нация. носителей в р-п-переходе, за счет чего КПД преобразо­

вания падает. Так, в кремниевых солнечных элемен'l'ах при

комнатной температуре рекомбинационный ток приводит к снижению эффективности преобразования. на 25%. Повышение температуры также уменьшает эффек'l'ивность преобразования. (КПД) В ОСНОВНОМ из-за уменьшения напряжения Uxx• въiзван­

НОГО увеличением обратного тока насыщения J 06P при высоких

температурах, как это следует из формулы (16.13).

Отдельный солнечный кремниевый элемент площадью 2 см2

имеет значения напряжения холостого хода Ихх = 0,5 ...0,6 В и

504

Раздел 4. ПРИБОРЫ ОТОБРАЖЕНИЯ ИНФОРМАЦИИ

тока короткого замыкания Iкз = 30... 60 мА. Большое количест­

во таких элементов, соединенных последовательно-параллель­

но и собранных в единую солнечную батарею, позволяет полу­ чить источник электрической энергии с существенно большими токами и напряжениями. На рис. 16.39 показана БАХ солнеч­ ной батареи, которая вырабатывает в наземных условиях при

Т = 300 К максимальную мощность - 11,5 Вт с КПД - 13%. Ба­

тарея освещает~я Солнцем, находящимся в зените. На этом же рисунке приведены и линии постоянной мощности (Р = const).

Выше были рассмотрены плоские кремниевые р~п-фотоэле­ менты. Существует достаточное разнообразие конструктивных решений приборов этого вида, в которых за счет тех или иных

структурных и конструктивных модификаций удается повы­

сить эффективность. Одной из таких модификаций является

элемент, устройство которого дано на рис. 16.34. Как уже отме­ чалось, этот прибор работает подобно биполярному транзистору

с изолированным п+-эмиттером. Неравновесные электронно-ды­ рочные пары, рожденные светом в п+-эмиттере (1) илйр-базе (2),

движутся (как в обычном транзисторе) к п+-коллектору и разде­ ляются коллекторным переходом. В п+-коллектор поступают электроны, а дырки остаются в р-базе, выводы которой (4) осу­ ществляются через р+-области. В этом фотоэлементе вблизи ты­ ловой (нижней на рис. 16.34) поверхности перед металлически­

ми омическими контактами созданы сильнолегированные по­

лупроводниковые р+-слои. Между двумя базовыми областями р+ и р возникает потенциальный барьер qr.pP, препятствующий

выходу электронов р-области.

!,мА

700

 

 

600

 

 

500

Р = 11 Вт, Т\

= 12,6 %

400

Р = 9 Вт, Т\ = 10,3 %

 

300

Р = 7 Вт, Т\ =

8 %

200

100

4 8 12 16 20

и, в

Рис. 16.39

 

Глава 16. Оптоэлектронные приборы

505

В результате резко снижается скорость поверхностной реком­ б.инации электронов вблизи тыловой поверхности, т. е. умень­ шаются потери фотоносителей, что вызывает увеличение спе:кт­ рального отклика, особенно для длинноволнового излучения. Плотность тока короткого замыкания возрастает, повышается и

напряжение холостого хода за счет роста тока короткого замы­

кщ1ия Jкз' уменьшения рекомбинационного тока тылового кон­

такта и из-за дополнительного потенциального барьера между

р- и р+-областями. Таким образом, наличие текстурированной

поверхности, уменьшающей потери на отражение, и высоколе­ гированных областей на тыловой поверхности позволяет полу­

чить КПД порядка 20% и более.

Рассмотрим теперь основные свойства других фотоэлемен­ тов, обладающих целым рядом достоинств. К таким приборам

можно отнести солнечные элементы с гетеропереходами, по­

верхностные и тонкопленочные солнечные элементы.

Гетеропереходы представляют собой переходы, которые обра­

зуются при контакте двух полупроводников с различной шири­

ной запрещенной зоны (см. п. 2. 7). Если у фотоэлемента верх­

ний слой, на который падает свет, сделать из полупроводника с

широкой запрещенной зоной ЛЕз1' а нижний- с узкой ЛЕ32, то

при облучении квантами света с энергией ЛЕ31 < hv < ЛЕ32 фото­

ны проходят через слой первого полупроводника и поглощают­

ся во втором. Первый слой с широкой запрещенной зоной ЛЕ32

играет роль оптического окна; остальные процессы аналогичны

процессам в солнечных элементах с р-п-гомопереходами. Ос­

новные преимущества солнечных элементов с гетероперехода­

ми перед приборами ср-п-гомопереходами следующие:

1) повышение спектрального отклика на коротких длинах

волн при условии, что hv < ЛЕ31 и фотоны поглощаются в

обедненном слое второго полупроводника;

2) возможность получения низкого последовательного со­

противления за счет сильного легирования верхнего слоя;

3) высокая радиационная стойкость при достаточно толстом

иширокозонном верхнем слое полупроводника.

Кдостоинствам солнечных элементов с барьерами Шоттки мож­

но отнести:

1)большой выходной ток и хороший спектральный отклик из-за близкого расположения обедненного слоя к поверх­ ности, что ослабляет негативное влияние малого времени жизни и высокой скорости поверхностной рекомбинации;

506Раздел 4. ПРИБОРЫ ОТОБРАЖЕНИЯ ИНФОРМАЦИИ

2)высокую радиационную стойкость;

3)отсутствие необходимости проведения высокотемператур­

ной диффузии, что позволяет использовать низкотемпера­

турную технологию, применяемую при изготовлении поли­

кристаллических тонкопленочных солнечных элементов.

При изготовлен:и;и солнечных элементов на барьерах Шоттки

слой металла должен быть настолько тонким (- 10-6 см), чтобы

основная доля света достигала полупроводника. В рассматривае­ мых приборах фототок, как правило, имеет три компоненты, ко­

торые связаны с поглощением: фотонов с энергией порядка энер­ гии барьера на границе металл-полупроводник; фотонов корот­

коволновой части оптического спектра в обедненной области

перехода; длинных волн в нейтральной области полупроводни­

ка, где генерируются электронно-дырочные пары, диффунди­

рующие в сторону обедненного слоя.

Первая :Компонента обычно составляет - 0,01 от полного тока

и, как правило, не учитывается. Таким образом, две основные компоненты спектрального отклика и фототока связаны с гене­

рацией носителей в обедненном слое и в объеме базовой области. Разделение носителей в обедненном слое происходит так же, как и в обычном р-п-переходе. Переход выполняется таким обра­

зом, чтобы сильное поле обедненного слоя выносило из него но­ сители за время, меньшее времени рекомбинации. Для увеличе­

ния фототока следует увеличивать коэффициент пропускания

структуры и диффузионную длину фотоносителей. Спектраль­

ный отклик элемента с' барьером Шоттки несколько меньше,

чем у элемента с р-п-переходом, из-за отражения и поглощения

света металлической пленкой. Однако последний вид потерь мо­ жет быть сведен к минимуму. Коэффициент пропускания света

золотыми пленками толщиной- 10-7 ••• 10-6 см при наличии про­

светляющего покрытия может достигать 90... 95%.

Расчеты показывают, что КПД идеализированного элемента,

не имеющего потерь на отражение и резистивных потерь, воз­

растает с увеличением высоты потенциального барьера на :кон­ такте металл-полупроводник. Его максимум достигается при энергии барьера, равной ширине запрещенной зоны и составля­ ет: - 25% для GaAs; - 22% для Si; менее 13% для Ge. Эти зна­

чения КПД близки к предельным КПД элементов нар-п·гомо­

переходах.

Для получения большой высоты потенциального барьера при

:контакте с полупроводником п-типа используют металлы с вы-

~'

t~·1

Глава 16. Оптоэлектронные приборы

507

f

1 .. - .. -------------------------------

iсокой работой выхода, а для полупроводниковр-типа -

метал-

1~ с низкой работой выхода.

f Солнечные элементы на МДП-структурах имеют между ме-

1~аллом и полупроводником тонкий(~ 10-5 см) слой диэлектри­

. ка. Преимущества этих элементов: повышенная эффективность

~при облучении коротковолновым светом из-за сильного поля в

1,µоверхностном слое, отсутствие кристаллических дефектов, 'возникающих при диффузии примесей во время создания эле­

. ментов ср-п-переходами. Такие элементы имеют КПД~ 18% в условиях облучения на Земле при освещении Солнцем, находя­ щимся в зените. При создании таких структур не надо прово­

дить высокотемпературную диффузию, их можно изготавли­

вать на полукристаллических и аморфных подложках. Поэтому солнечные элементы на МДП-структурах как источники энер­

гии наиболее выгодны с экономической точки зрения по сравне­

нию с другими типами СП.

· Тонкопленочные солнечные элементы выполняются из поли­

f':кристаллических или неупорядоченных полупроводниковых

~Пленок, нанесенных или выращенных на электрически актив­

l:·ных или пассивных подложках (керамика, металл, стекло, пла­

[ стмасса, кремний и т. д.). Они находят широкое применение

;из-за низкой стоимости, обусловленной простотой технологии и

дешевизной используемых материалов. Однако эти приборы имеют низкий КПД и деградацию характеристик во времени, обусловленные тем, что пока не удается изготовить высококаче-

:ственные пленки, слабо реагирующие с окружающей средой.

В последнее время в качестве одного из основных материалов

для изготовления тонкопленочных солнечных элементов испол:ь­

зуют аморфный кремний, который называется a-Si. Кристалли­ ческий и аморфный кремний сильно различаются. В отличие от кристаллического, аморфный кремний близок по своим свойст-

. вам к прямозонному полупровод-

 

 

 

 

 

нику с шириной запрещенной зоны

 

 

 

 

hv, эВ

~ 1,6 эВ, что хорошо видно из срав-

 

2,5

1,8

1,4

1,1

нения зависимостей коэффициен-

а, см-~

 

 

 

 

та поглощения от длины волны

 

 

 

 

 

для этих материалов (рис. 16.40).

 

 

 

 

 

Пленки o:-Si толщиной 1."3 мкм

 

 

 

 

 

обычно выращивают на стеклян­

 

 

 

 

 

liых подложках, покрытых слоем

102

~-~-~-~~-~

металла. На них бьmи созданы сол­

0,3 0,5

о, 7

0,9

л., мкм

нечные элементы с р-п-перехо-

Рис. 16.40

508

Раздел 4. ПРИБОРЫ ОТОБРАЖЕНИЯ ИНФОРМАЦИИ

дами и барьерами Шоттки. Для a-Si коэффициент поглощения

излучения в видимой части спектра составляет 104 ••• 105 см-1 ,

поэтому большинство фотоносителей генерируется на расстоя­

нии меньше одного мкм от поверхности, диффузионная длина

имеет тот же порядок величины, последовательное сопротивле­

ние велико (~ 104 Ом• см), КПД соответственно мал. Для эле­

мента с барьером Шоттки и прозрачным металлическим слоем

наилучmий КПД ~ 6% .

16.7. Электровакуумные фотоприемники

16.7.1. Фотоэлементы. Устройство. Принцип работы.

Элекrровакуумные фотоэлекrронные приборы - это приборы, ко­ торые преобразуют энергию электромагнитного излучения в

электрические сигналы. Принципы работы электровакуумных фотоэлектронных приборов основаны на использовании фото­ электронной эмиссии (см. п. 11.2). В этой главе рассматривают­

ся только основные свойства электровакуумных фотоэлектри­

ческих приборов, к которым относятся фотоэлементы и фото­

элекrронные умножители.

Фотоэлементом называют элекrровакуумный прнбор, исполь­ зующий при своей работе явление внешнего фотоэффекrа. Разли­

чают элекrровакуумные и газонаполненные фотоэлементы, которые

отличаются друг от друга степенью разреженности газа в рабо­

чем пространстве. В настоящее время наиболее широко приме­

няются электровакуумные фотоэлементы, :которые имеют два

электрода: фотокатод, служащий источником фотоэлекrронов, и

собирающий их анод. Анод изготавливают в виде плоской сет­ ки, кольца, диска и т. д. (рис. 16.41); конструктивно анод вы-

к

а)

б)

в)

Рис. 16.41

Глава 16. Оптоэлектронные приборы

509

полняется так, чтобы он не создавал больших потерь для света, :падающего на фотокатод.

Основными параметрами фотокатодов являются: интеграль­ ная и монохроматическая тоновая чувствительности, квантовый выход,

удельное (поверхностное) сопротивление на 1 см2 площади фоточув­

ствительного слоя, плотность тона термоэмиссии при комнатной темпе­ ратуре. По области рабочего спектра фотокатоды разделяются на фотокатоды, работающие в -УФ, видимой и ИК областях об­ лучения. При этом наибольшее применение находят фотокато­ ды на основе полупроводниковых материалов. Фотоэлементы

классифицируются на основе конструктивных признаков фото­

.катодов. В соответствии с этим все фотоэлементы можно раз­

бить на три группы (см. рис. 16.41):

1)фотоэлементы с массивным непрозрачным фотокатодом (:К), нане­ сенным на часть стеклянной колбы (баллона) (рис. 16.41, а

заштрихованная часть баллона); используются как прием­ ники постоянных или модулированных низкой частотой (f < 20 кГц) световых потоков в контрольно-измеритель­

ной аппаратуре, автоматике, аппаратуре звуковоспроизве­

дения;

2)фотоэлементы с массивным небольшим катодом, нанесенным или на дно баллона, или на специальную металлическую пластину (рис. 16.41, б); предназначены для приема сфоку­

сированного излучения малой интенсивности; для умень­

шения токов утечки служит охранное кольцо (О:К), а выво­

ды катода (:К) и анода (А) располагаются с противополож­

ных сторон баллона;

3)импульсные сильноточные элементы с фотокатодом на метал­

лической подложке (рис. 16.41, в) имеют малое продольное

сопротивление, малую инерционность(~ 10-3 с), линейную

энергетическую характеристику и большую эмиссионную

способность, достигающую 100 А при длительности импуль­

са до 10-9 с.

Фотоэлементы первой, второй и третьей групп имеют рабо­

чее напряжение менее 240 В, 100 В и 2 кВ соответственно. Для

уменьшения токов утечки в баллон часто вваривают специаль­

.ные охранные кольца О:К (см. рис. 16.41, б). При конструирова­

нии импульсных фотоэлементов стремятся уменьшить влияние

времени пролета фотоэлектронов между :Катодом и анодом, меж­

дуэлектродные емкости, сопротивления и индуктивности выво­

дов, поэтому выводы катодов делают короткими, а выводы анодов

510

Раздел 4. ПРИБОРЫ ОТОБРАЖЕНИЯ ИНФОРМАЦИИ

часто выполняют в виде кольца или применяют коаксиальные вы­

воды. Импульсные элементы, предназначенные для измерений

коротких световых вспышек, имеют междуэлектродную емкость

3 ... 4 пФ, а временное разрешение 't ~ 10-8 ••• 10-11 с.

16.7.2. Параметры и характеристики фотоэлементов.

Б качестве параметров фотоэлементов, как и для полупровод­ никовых фотоприемников, используются чувствительность, кван­ товый выход (квантовая эффективность), шумы, минимально регистрируемая мощность излучения (пороговый поток), обна­ ружительная способность, темновой ток, постоянная времени, сопротивление. Эксплуатационные и конструктивные парамет­ ры: максимально допустимая рассеиваемая мощность, нестабиль­

ность чувствительности и темнового тока во времени, темпера­

турный коэффициент чувствительности и др.

К основным характеристикам фотоэлементов относятся: спект­

ральные, вольт-амперные, энергетические, частотные, темпера­

турные.

Вольт-амперная харакrернстнка (ВАХ) IФ = f(Иа>· БАХ фотоэле­ ментов называют зависимость фототока IФ от напряжения анода Иа при неизменном световом потоке Ф = const. Типичная БАХ фо­ тоэлемента представлена на рис. 16.42. При малых значениях U 8

(участок I на рис. 16.42) в приборе реализуется режим объемного заряда (см. гл. 11), т. е. у поверхности катода за счет фотоэмиссии образуется область отрицательного объемного заряда и не все электроны попадают на анод (ток ограничен полем объемного от­

рицательного заряда и определяется законом трех вторых). По мере увеличения Иа все большее количество электронов из об­

ласти объемного заряда имеет

15

 

возможность уйти на анод, ток

Ф2 =0,25лм

растет, а плотность объемно­

12

 

 

го заряда уменьшается. Часть

 

 

9

 

электронов попадает на поверх­

Ф1

= 0,1 лм

ность баллона, вызывая вторич­

ную электронную эмиссию с ко­

 

 

эффициентом cr < 1.

 

 

Участок II на рис. 16.42 со­

 

 

ответствует режиму, при кото-

о 50 100 150

200 иа, в ром объемный заряд около ка-

Рис.16.42

тода отсутствует и все эмитиро-

Глава 16. Оптоэлектроннь1е приборы

511

ванные электроны попадают на анод (режим насыщения). iСогласно закону Столетова увеличение интенсивности светово­ ,;J'!О потока будет вызывать нарастание тока эмиссии и величина тока насыщения будет больше. Значение напрюкения, соответ­

ствующее началу участка насыщения, определяется конструк­

цией прибора и возрастает при увеличении интенсивности све­ тового потока из-за возрастания плотности объемного заряда у

поверхности фотокатода.

Энергетические (световые) характеристики 1Ф = /(Ф). Энергетиче­

скими (или световыми) характеристиками называются зависи­

мости фототока 1Ф от интенсивности светового потока Ф при не­ изменном анодном напряжении Ua. Эти характеристики линей­ ны в широком диапазоне изменения Ф (рис. 16.43), что определяется законом Столетова, согласно которому фототок JФ

пропорционален интенсивности светового потока. Отклонение от линейности при больших значениях Ф обусловлено влияни­ ем объемного заряда (поскольку иа = const) и утомлением фото­

катода, :которое связано с физико-химическими процессами,

происходящими в фотокатоде под действием ионной бомбарди-

. ровки и при взаимодействии с остаточными газами и т. д.

Величину утомления определяют как отношение

где S1н - начальная (при отсутствии утомления) токовая чувст­ ·.вительность; 8 1 - токовая чувствительность при наличии утом­ ления, когда наступает стабилизация параметров, связанных с

·ТОКОМ.

Относительное уменьшение токовой чувствительности до на­

. ступления стабилизации определяют при неизменных анодном

-~потенциале и световом потоке.

При Ф =О фототок IФ несколько отличается от нуля. Сущест­

. :аует темновой ток, обусловленный термоэлектронной эмиссией

,_,электронов с фотокатода при

 

комнатной температуре и то­

IФ, мкА

ками утечки (проводимости) по

150

· стеклу баллона.

100

При наличии нагрузки (со­

 

противления R) в цепи фото­

50

элемента световая характерис­

О 0,5 1,0 1,5 2,0 2,5 Ф, лм

тика также может существенно

 

отклоняться от линейной, осо-

Рис. 16.43