Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Панков Ж. Оптические процессы в полупроводниках пер. с англ

.pdf
Скачиваний:
100
Добавлен:
27.10.2023
Размер:
20 Мб
Скачать

103âR/K

Ф и г. 18.9. Спектр электроотражения GaAs я-типа при комнатной темпе­ ратуре [31].

Постоянное напряжение равно .1,5 В; амплитуда переменного модулирующего напряження составляет 2,4 В.

430

Глава 18. Модуляция отражения

симость всех этпх пиков, показанная на фиг. 18.11, может быть сопоставлена с известной температурной зависимостью ширины запрещенной зоны, полученной из исследованпя поглощения. Помимо относительных температурных зависимостей энергий различных экстремумов, данные, приведенные иа фиг. 18.11, позво­ ляют получить величину спин-орбитального расщепления валент-

Ф и г. 18.11. Зависимость от температуры положения пиков электроотра­ жения.

Трп квадрата, соединенные штриховой пинией, указывают значения ширины запре­ щенной зоны, полученные из данных по поглощению [33]. Отрицательные температур­ ные коэффициенты даны справа в единицах 1 ■10—* эВ/К [32].

ной зоны в некоторых точках зоны Бриллюэна. Так, Д0 (в точке Г) = = 0,348 ± 0,002 эВ и Ax (в точке А) = 0,232 ± 0,002 эВ [32].

Основное различие между зонными структурами GaAs и GaP состоит в том, что в GaP минимум Гх зоны проводимости располо­ жен выше минимума Х І7 т. е. GaP представляет собой полупровод­ ник с непрямыми переходами. Поэтому GaAs и GaP обладают (несмотря на различные энергетические расстояния между зонами

§ 3. Некоторые результаты

431

в точках симметрии) очень сходными спектрами электроотражеипя, структуру которых можно идентифицировать с определенными переходами (фиг. 18.12).

Для того чтобы подтвердить идентификацию пиков, было иссле­ довано электроотражение сплавов GaAs^JP^. с различными х [31]. Это позволяет проследить за смещением различных пиков при переходе от зонной структуры GaAs к структуре GaP. Эксперимен­ ты показали, что при комнатной температуре ширина зоны для

Ф л г. 18.12. Спектр электроотражения GaP л-типа при комнатной темпе­ ратуре [31].

Постоянное напряжение равно 1,5 В; амплитуда модулирующего напряжения состав­ ляет 3 В.

прямых переходов Е 0 меняется с увеличением х не по линейно­ му закону, как предполагалось ранее, а описывается зависимо­ стью, содержащей квадратичный член. Таким образом, получаем (в электронвольтах)

Е0= 0,210 X2+ 1,091 ® + 1,441,

как это показано на фиг. 18.13. Сшга-орбитальное расщепление меняется от 0,33 эВ в GaAs до 0,10 эВ в GaP по линейному закону.

Хотя измерения при помощи модуляции отражения позволили получить значительное количество новых данных, их интерпрета­ ция осложнена многими трудностями, которые до сих пор полно­ стью не преодолены. Так, следует учитывать, в частности, экситон-

432

Глава 18. Модуляция отражения

ные эффекты [34, 35]. Электрическое поле смещает экситонные переходы в сторону меньших энергий (эффект Келдыша — Фран­ ца) и уменьшает их вклад (ионизация экситонов). Обычно считает­ ся, что зоны — параболические; если известен точиый закон дисперсии, то можно попытаться внести поправки. Далее, при изме­ рениях, в которых существенно значение поверхностного потен­ циала (фотоотражение и поперечное электроотражение), электри­ ческое поле в полупроводнике неоднородно. Трудно сказать,

Ф п г. 18.13. Изменение Е 0 н Е0 -- До (см. фнг.

18.10) в зависимости от

состава сплава GaAs,_a.Pr, полученное из данных по фотоотражеипю.

Крѵжкп

обозначают экспериментальные

точки.

Кривые

соответствуют

выражениям

=

0,210 ж2 4 - 1,091 ж + 1,441 эВ и

Е а + Д0

= 0,182

ж 2 + 0,884 ж +

1,776 эВ.

какой вклад вносят области с различными значениями поля. Кроме того, из-за нелинейности электрооптического эффекта зависимость от времени оптического сигнала ие воспроизводит таковую для модулирующего поля. Поскольку носители генери­ руются фотонами, обладающими энергиями, большими чем ширина запрещенной зоны, то релаксация энергии этих носителей проис­ ходит очень быстро; следовательно, в соответствии с соотноше­ нием неопределенностей энергия определяется с меньшей точ­ ностью (уширение за счет конечного времени жизни) [36].

ЛИТЕРАТУРА

1. Greenaway D. L ., НагЪеке G., Optical Properties and Band Structure of

Semiconductors, Pergamon, 1968.

2. Aspnes D. E., Handler P., Blossey D ■ G., Phys. Rev., 166, 921 (1968). '3. Cardona M ., в книге Solid State Physics, Suppl. 11, ed. F. Seitz, D. Turn-

bull, H. Ehrenreich, Academic Press,

1969.

4. Semiconductors and Semimetals, Vol.

8, Academic Press, 1971.

Литература

433

5.Kalian А ., Bouthillette L., Spitzer W. G., Bull. Am. Plays. Soc., 14, 326

(1969).

6.

Pankove J. I ., Annales de Phys., 6, 331 (1961).

7.

Filinski / ., Pliys. Rev., 107, 1193 (1957).

8.

Sosnowski L., Phys. Rev., 107, 1193 (1957).

9.

Birnbaum M ., Stocker T. L., Bull. Am. Phys. Soc., 9, 729 (1964).

10.

Seraphin B. 0., Bottka N., Phys. Rev.,139, A560 (1965).

11.

Hamakawa Y ., Handler P., Germane F . A . , Phys. Rev., 167, 709 (1968).

12.Ландау Л. Д ., Лифшиц E. M ., Квантовая механика, Фпзматгнз, 1963.

13.Engeier W. E., Fritzsche FI., Garfinkei M ., Tiemann J. / . , Phys. Rev.

Lett., 14, 1069 (1965).

14.Forman R. A ., Cardona M ., в книге II—VI Semiconducting Compounds, ed. D. G. Thomas, Benjamin, 1967, p. 100.

15.Seraphin B. O., Proc. Int. Coni, on Semiconductor Phys. (Paris), Dunod,

1964, p. 165.

16. Aspnes D. E., Frova A ., Solid State Comm., 7, 155 (1969).

17.Frova A ., Aspnes D. E., Phys. Rev., 182, 795 (1969).

18.Shaklee K. L., Poliak F. FI., Cardona M ., Phys. Rev. Lett., 15, 883 (1965).

19.Cardona M ., Poliak F. H., Shaklee K. L., Journ. Phys. Soc. Japan, 21,

Suppl., 89 (1966).

20.Poliak F. IF., Cardona M ., Shaklee K. L., Phys. Rev. Lett., 16, 942 (1966).

21.Wang E. Y ., Albers W. A ., Bleil С. E., в книге II—VI Semiconducting

Compounds, ed. D. G. Thomas, Benjamin, 1967, p. 136.

22. Nahory R. E.,

Shay J. L., Phys. Rev. Lett., 21, 1569 (1968).

23.

McCoy

J. IF.,

Wittry D. B., Appl. Phys. Lett., 13, 272 (1968).

24.

Gobeli

G.

W.,

Kane E. O., Phys. Rev. Lett., 15, 142 (1965).

25.

Batz B.,

Solid

State Comm., 4, 241 (1966).

26.Balzarotti A ., Grandolfo M ., Solid State Comm., 6, 815 (1968).

27.Balslev I ., Phys. Rev., 143, 636 (1966).

28.Braunstein R ., Schreiber P., Welkowsky M ., Solid State Comm., 6, 627

(1968).

29. Seraphin В. О., Hess R. B., Phys. Rev. Lett., 14, 138 (1965).

30.Wang E. Y ., Albers W. A ., Jr., Bleil С. E., в книге II—VI Semiconducting

Compounds, ed. D. G. Tliomas, Benjamin, 1967, p. 136.

31.Thompson A . G., Cardona M ., Shaklee K. L., Woolley J. C., Phys. Rev.,

146, 601 (1966).

32.

Seraphin B.

O.,

Journ. Appl. Phys., 37, 721 (1966).

33.

Sturge M .

D.,

Phys. Rev., 127, 768 (1962).

34.Dow J. D., Redfield D., Phys. Rev., B4, (1970).

35.Ralph H. I., Journ. Phys. C. (Proc. Phys. Soc.), 1, 378 (1968).

36.Landsberg P. T., Proc. Phys. Soc., A62, 806 (1949).

28—01085

П Р И Л О Ж Е Н И Я

I. ОБОЗНАЧЕНИЯ

 

 

 

 

 

 

 

а

Постоянная

решетки;

боровскнй

радиус

с

Скорость

света

в вакууме

 

D

Коэффициент диффузии

 

 

Е

Энергия

 

 

 

 

 

Ес, Еѵ

Энергии,

соответствующие краям

валентной

Eg

зоны и зоны проводимости

 

Ширина

запрещенной

зоны

начального

Et

Энергия

ионизации;

энергия

еа, Еd, Ех

состояния

 

 

 

Энергии связи акцептора, донора и экситоиа

EF

Уровень

Ферми

 

 

 

Ef

Энергия

конечного состояния

 

Ерп Epp

Квазиуровни Ферми для электронов и дырок

Ео

Энергия, требуемая для создания электронно-

E

дырочной пары

 

 

Энергия

фонона

 

 

 

JEp

Энергия

первичного электрона

 

Ет

Порог внешнего

фотоэффекта

 

Et

Энергия

уровня

захвата

 

Ш

Электрическое поле

 

 

F

Сила

 

 

 

 

 

 

1

Функция Ферми

 

 

 

g

Усиление

генерации

 

 

G

Скорость

 

 

h

Постоянная

Планка

 

 

n

Постоянная Дирака

 

 

i, I

Ток

 

 

 

 

 

 

h

Ток

насыщения

 

 

 

Isc

Ток

короткого замыкания

 

UJ

Плотность

тока

 

 

 

к

Постоянная

Больцмана; волновой вектор;

 

вектор квазиимпульса

 

к

Коэффициент экстинкции

 

К

Вектор квазиимпульса

 

 

1

Длина

 

 

 

 

 

L

Интенсивность света

 

 

Le

LH m

inf

К

n c n

n N

Nc, Nv

Na, Na; ND, Nd

Ni

Np

NT, Nt

P

Я

Q

r R

t

T

V

7

vD

voc

а

e

Ф

Ф д, Фb

Л

X

P

V

tt>

p

0' T

0

X

6

Приложения

 

435

Длина диффузии электронов

 

Длина

диффузии дырок

 

 

Масса свободного электрона

 

Эффективная масса электрона

 

Эффективная

масса дырки

 

Комплексный

показатель

преломления

Действительная

часть показателя

преломле­

ния

 

 

 

 

 

 

Концентрация

 

электронов

 

 

Концентрация

 

 

 

 

Плотность

состояний в зоне проводимости

и валентной

зоне

 

 

Концентрации

акцепторов

и доноров

Концентрация примесей

 

 

Плотность

фононов

 

 

Концентрация ловушек

 

 

Вероятность;

давление; мощность

 

Заряд электрона

 

 

Полный

заряд

 

 

 

Радиус

 

 

 

 

 

 

Коэффициент

отражения;

скорость

рекомби­

нации;

сопротивление

 

 

Время

 

 

 

 

 

 

Температура;

пропускание

 

Скорость

 

 

 

 

 

Напряжение;

объем

 

 

Э. д. с.

Дембера

 

 

Напряжение холостого хода

 

Коэффициент

поглощения

 

 

Диэлектрическая проницаемость

 

Работа

выхода

 

 

 

Высота

барьера

 

 

Эффективность

(коэффициент полезного дей­

ствия)

 

 

 

 

 

Теплоемкость

 

 

 

 

Подвижность

 

 

 

 

Частота

 

 

 

 

 

Угловая частота

 

 

Сопротивление;

плотность

состояний

Проводимость;

эффективное сечение захвата

Постоянная времени

 

 

Угол

 

 

 

 

 

 

Восприимчивость; энергия сродства к элек­ трону

Положение уровня Ферми по отношению к краю зоны

28*

И. СВОЙСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВ*

Ширина запрещен­

 

 

 

 

ной зоны

Tim абсолют­

 

 

 

 

 

ного мини­

О ' » *

 

 

Eg (OK),

Kg (300 К),

мума зоны

(300 К),

(

Э ) г - .

проводимости

 

аВ/бар

ЭВ

ЭВ

 

аВ/К

 

 

 

r

s i

1,166

1,11

 

 

 

IV

1

Ge

0,74

0,67

{

 

1

 

 

 

 

1

a-Sn

_0 2 * *

*

 

 

 

3,0

2 ,8 -

 

f

(6H)

3,2*

IV — IVSiC^

 

 

 

I ß

2,68

2,2

 

(

Se

1,95

1,74

V!

 

 

 

 

 

[Т е

0,334

0,32

 

r BP

 

2

 

AIP

2,5

2,43

 

AlAs

2,24

2,16

 

AlSb

1,6

1,6

 

GaN

3,6

3,5

III —V

{

 

2,4

2,25

 

GaP

 

GaAs

1,520

1,43

 

GaSb

0,81

0,69

 

InP

1,42

1,28

пепр.

100

- 2 ,3

—1,5

лепр.

111

- 3 ,7

5,0

пр. 000

 

5,0

непр.

 

- 3 ,3

 

пепр.

 

 

 

пр.

0001

—14

- 2 0

пр.

0001

- 0 ,3

—19

пепр.

 

 

 

непр.

100

- 3 ,5

 

пепр.

 

 

 

непр.

100

- 4

- 1 ,6

пр.

0000

—3,9

3,7

непр.

100

- 5 ,4

—1,7 1

пр.

000

- 5 ,0

11

пр.

000

- 4 ,1

12

пр.

000

- 4 ,6

4,6

InAs

0,43

0,36

пр. 000

—3,3

5

InSb

0,235

0,17

п р .000

—2,9

15

г

I

Эффективная масса

Показа­

Статическая

Постоян­

Подвижпость

 

 

 

 

 

 

 

 

тель пре­

диэлектри­

ная решет­

 

 

т *

 

m'h

ломления

ческая про­

ки а, Â

Ре .

Рл.

 

n

ницаемость e

 

 

 

 

 

 

см2/(В-с)

С М 2 / ( В - С )

ОТ; 0,98

 

0,52

3,44

11,7

5,43

1350

480

m-t 0,19

 

 

 

 

 

 

 

 

пц 1,58

 

0,3

4,00

16,3

5,66

3 900

1900

m;0,08

 

 

 

 

 

 

 

 

0,02

 

 

 

 

6,489

2 000

1000

 

 

 

2,69 Иc

10,2

а 3,0817

400

 

 

 

 

2,65 JL c

с 15,1123

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

4,359

 

 

 

 

0,12

5,56 Иc

8,5

 

1

 

 

 

3,72 _L c

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0,038 1

 

0,26 И

3,07 II c

5,0 (I с

 

1100

 

 

0,10 j_

2, 68 _L c

2,2 _L с

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2,6

6,9

4,538

 

 

0,13 **

 

 

3,0

9,8

5,462

80

 

0,5

m i 1,06

 

12

5,66

1 000

~ 100

m i

0,49

 

 

 

 

 

 

 

0,11

 

0,39

3,4

11

6,135

50

400

0,2

 

 

2,4

 

а 3,18

150

 

 

 

'

с 5,16

 

 

 

 

 

 

 

0,13

 

0 g ****

3,37

10

5,450

120

120

0,07

 

0,5

3,4

12

5,653

8 600

400

0,045

 

0,39

3,9

15

6,095

4 000

650

0,07

 

0,40

3,37

12,1

5,8687

4000

650

0,028

 

0,33

3,42

12,5

6,05S

30 000

240

0,0133

 

0,18

3,75

IS

6,4787

76 000

5000

 

(78 К)

 

 

 

 

 

 

 

Ширина запрещен­ ной зоны

 

Eg (0 К),

•Eg(300К)

 

ЬэВ

эВ

' ZnO

 

3,2

[ а

 

3,8

ZnS <

 

1

U

 

3,6

ZnSe

2,80

2,58

ZnTe

2,39

2,28

II-V I { CdS

2,58

2,53

CdSe

1,85

1,74

CdTe

1,60

1,50

HgS

 

2,5

HgSe

—0,24

-0 ,1 5

. HgTe

- 0 ,2 8

—0,15

 

 

0,14

'PbS

0,29

0,37

PbSe

0,15

0,26

IV -V I 1

 

 

Тип абсолют-

( 3 ) - "

 

гюго мини­

( & ) т ' 10°-

мума зоны

(300 К),

проводимости

эВ/ІС

эВ/бар

пр.

0000

- 9 ,5

0,6

пр.

0000

■ - 3 ,8

9

пр.

000

—5,3

5,7

пр.

000

- 7 , 2

6

пр.

000

- 5

6

пр.

0000

—5

3,3

пр.

0000

- 4 ,6

 

пр.

000

—4,1

1,5

пр.

000

 

 

пр.

000 .

+5, 6

 

пр. 111

+ 4

—7

пр.

111

+ 4

- 8

 

PbTe

0,19

0,29

пр.

111

+ 4

 

—9

 

. SnTe

0,3

0,18

пр.

111

 

 

 

,

*^Таблица составлена на основании данных, почерпнутых в основном

из слепѵю

^ c to rs , Pergamon,

1961; Solids Under

Pressure,

eds. W. plul and D M

V

a r s S S ?

P'

^ .c o n d u c to rs ,

Wiley,

1968; Shwnoya S.,

Luminescence

of Lattices of

ZOr l ’ * ese' he G''

:^a Ч-ice Constants,

Semiconductors and

Semimetals, Academic Press

rr

использован танже ряд последних работ., В том случае, когда значения одних и тех

из новейших работ. Многие параметры, зависящие от чистоты вещества, будут меняться

**

Зависит от политипа.

***

Расчетная величина.

**** Schwerdtfeger С. F., Sol. State Comm., 11, 779 (1972).

П р о д о л ж е н и е

Эффективная масса

Показа­

Статическая

Постоян­

Подвижность

 

 

 

 

тель пре­

диэлектри­

ная решет­

 

 

m h

ломления

ческая про­

ки а, к

Де,

Д/1-

п

ницаемость е

 

 

 

 

С М 2 Д В - С )

С М 2 / ( В - С )

0,32

0,28

0,39

0,17

0,15

0,20

0,13

0,11

0,045

0,029

0,1

пц 0,07 m-t 0,039

ПІ; 0,24 пц 0,02

0,27

>1 II

0,5j_

0,7 1 с

5 II с

2,5 N***

0,4 1

0,35

~ 0 , 3

0,1

пц 0 , 06 m t 0,03

mi о,з nit 0,02

2,2

7,9

а 3,2496

с 5,2065

 

 

2,4

8,3

а 3,814

с 6,257

 

 

2,4

8,3

5,406

2,89

8,1

5,667

3,56

9,7

6,101

2,5

8,9

а 4,136

с 6,713

 

 

 

10,6

а 4,299

 

с 7,010

 

 

2,75

10,9

6,477

 

25

6,085

3,7

20

6,42

3,7

170

5,936

 

250

6,124

3,8

412

6,460

 

 

6,328

180

100

 

 

7

210

 

500

 

600

 

5 500

 

22 000

100

(20 К)

 

550

600

1 020

930

1 620

750

щих источников; Benoit-ü-la-Gvillaume С. et al.. Selected Constants Relative to Semicon- McGraw-Hill, 1963, p. 226; Tavc J, Progress in Semiconductors, 9, 120 (1965)' Lon<> D

the

ZnS Type Luminescence of Organic Solids, ed. P. Goldberg,

Academic Press, 1966’

2,73

(1966).

*

же параметров, приведенные в различных работах, были неодинаковы, брались данные по мере усовершенствования технологии его получения.

III. НОМОГРАММА ТЕМПЕРАТУРНОЙ ЗАВИСИМОСТИ ПОЛОЖЕНИЯ УРОВНЯ ФЕРМИ В ВЫРОЖДЕННОМ ПОЛУПРОВОДНИКЕ С ПАРАБОЛИЧЕСКОЙ ЗОНОЙ 1)

Если в полупроводнике с простой параболической зоной, харак­ теризуемой эффективной массой т*, концентрация носителей при любой температуре равна п (см“3), то температурная зависимость уровня Ферми £, отсчитываемого от края зоны, определяется следующим соотношением:

СО

(IIT.l)

где Е — энергия носителя, отсчитываемая от дна параболической зоны; к и h — постоянные Больцмана и Планка соответственно. Уравнение (III.1) было решено при помощи ЭВМ для различных значений п, т* и Т. Для этого оио было записано в впде

п — а (m*)3/'2T3f~f (г|),

где

При помощи номограммы (фиг. III.1) можно графически опре­ делить любой из параметров п, тп* £ пли Т, если известны значения остальных трех. Например, если даны п и т*, то нужно провести прямую линию через точки иа соответствующих шкалах. Затем через точку пересечения этой прямой с осью X нужно провести прямую линию к заданному значению Т и найти величину р на левой шкале р. Перенося эту величину на правую шкалу р, проводим еще одну прямую линию в точку Т и определяем Если р отрица­ тельно, то £ находится за пределами параболической зоны (т. е. в запрещенной зоне).

В качестве примера на фиг. III.1 показано определение поло­

жения уровня Ферми I при Т =

80 К в GaAs ?г-типа (??г* = 0,07лг)

с концентрацией носителей п =

1 -ІО17 см-3. Проведя три прямые,

обозначенные цифрами 1, 2, 3, получаем | ^ 3 мэВ.

Разумеется, эта номограмма пригодна только для случая тем­ пературно-независимой концентрации носителей, и поэтому она не применима к температурной области, где может происходить

В Pankove J. I., Annavedder Е. К., Journ. Appl. Phys., 36, 3948 (1965).

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ