Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Панков Ж. Оптические процессы в полупроводниках пер. с англ

.pdf
Скачиваний:
100
Добавлен:
27.10.2023
Размер:
20 Мб
Скачать

§ 5. Эффекты в лазерах, связанные с ловушками

409

при низких температурах пе было обнаружено длительных задер­ жек. При температуре ниже 100 К задержки были самое большее порядка нескольких наносекунд, однако при высоких температу­ рах можно получить задержки и в сотни наносекунд [11—13, 15]. Температура перехода Тt, выше которой можно наблюдать длитель­ ные задержки, коррелировала с перегибом на кривой температур­ ной зависимости порогового тока (фиг. 17.16) [14]. Температура перехода зависит от степени легирования кристалла и от термо­ обработки. При сопоставлении перегиба на кривой/т)1 (Т) с зависи­ мостью задержки от температуры установлено, что более крутой

изгиб на кривой / ТІ1 (Т) соответствует

более резкому переходу

от коротких задержек к длинным (фиг.

17.16).

Если ловушки работают как насыщающиеся поглотители, могут быть объяснены некоторые аспекты задержки возникновения лазерного излучения: резонатор имеет большие потери, когда ловушки пустые; когда они заполняются, потери становятся мень­ ше усиления, после чего возникает когерентное излучение [9]. Эти центры захвата могут заполняться или путем захвата электронов, инжектированных в зону проводимости, или путем захвата элек­ тронов, возбужденных из валентной зоны спонтанным излучением.

5. Модель двойного акцептора

Модель двойного акцептора с кулоновским барьером, препят­ ствующим захвату второго электрона, была предложена для объяс-

Нетпоглощения Поглощение

Нет поглощения

Тг, +е*Е Тг2 Тгг+е" Е Tij

Ф и г. 17.17. Схема эыергетпческпх уровней, ответственных за захват элек­ трона в состояниях Тгь Тг2 и Тг3 одного центра захвата [14].

неиия температурной зависимости задержки [9]. Однако эта модель может с успехом применяться, если двойной акцептор действует как насыщающийся поглотитель только тогда, когда нижний уровень заполнен [14].

Ыа фиг. 17.17 показаны три возможных состояния ловушек. В первом состоянии Тгх ловушка может захватывать электрон

410 Глава 17. Влияние ловушек на люминесценцию

на уровень Е 1 вблизи валентной зоны, после чего она переходит в состояние Тг2. Первое состояние Тгг находится в тепловом равно­ весии с валентной зоной, следовательно, вероятность его запол­ нения определяется положением квазиуровия Ферми E F для ды­ рок. Если EF выше, чем Ех, ловушка оказывается в состоянии Тг2. Это возможно в случае слабо легированного GaAs p-типа или в компенсированных образцах. В сильно легированном GaAs квази­ уровень Ферми находится в валентной зоне. Поэтому состояния Еj оказываются занятыми только при высоких температурах, и тогда ловушки находятся в состоянии насыщающегося поглоти­ теля Тго. Когда электрон возвращается с уровня Ех в валентную зону, ловушка переходит из состояния Тг2 в состояние Тгх за вре­ мя порядка 10-11с [20]. Из состояния Тг2 ловушка также может переходить в состояние Тг3 путем захвата электрона на уровень Ег- Уровень Ег может заполняться электроном из зоны проводи­ мости или при оптическом возбуждении из валентной зоны. Таким образом, в состоянии Тг2 ловушки создают большие потери на по­ глощение, и эти потери препятствуют возникновению лазерного излучения, пока в течение времени задержки не произойдет запол­ нение уровня Е2, достаточное для того, чтобы потери оказались меньшими, чем усиление. При низких температурах, если Ег находится выше квазиуровия Ферми Ер, ловушки остаются в со­ стоянии Тгг и не являются источниками потерь; следовательно, не наблюдается заметных временных задержек. Положение квази­ уровня Ферми в значительной степени зависит от распределения примесей в р — п-переходе и, следовательно, от особенностей изготовления диодов н последующей их термообработки.6

6.Внутренняя модуляция добротности

Внекоторых инжекционных лазерах в узкой области темпера­ тур и в ограниченном интервале токов наблюдалось возникновение короткого импульса излучения на конце импульса тока (фиг. 17.18)

[21].Длительность пика в излучении была порядка 300 пс (или менее). Интенсивность его не зависела от длительности импульса тока накачки. Длительность токового импульса можно было варьировать от 2 нс до нескольких микросекунд, не влияя на ин­ тенсивность или длительность пика. Эти характеристики не зависе­ ли также от частоты повторения импульсов, если эффекты нагрева были исключены. Только один параметр — амплитуда тока накач­

ки — влиял на интенсивность пика лазерного излучения при задан­ ной температуре; интенсивность пика увеличивалась с ростом тока.

Если возникновение пика излучения на конце импульса тока изобразить в координатах ток — температура (фиг. 17.19), то можно видеть, что внутренняя модуляция добротности происходит

I

С вет

к

 

Ток

— Г

Свет

------

Ток

Ш

 

Свет

 

 

Время

Ф и г. 17.18. Диаграмма, показывающая поведение лазера на GaAs с моду­ лированной добротностью [21].

Короткий световой импульс возникает на конце токового импульса, несмотря на увели­ чение длительности (II) или амплитуды (Ш) последнего.

-Температура, К

Фи г. 17.19. Характеристики типичного диода [21].

Показала область модулированной добротности (II) в зависимости от тока инжекции и температуры на теплоотводящем контакте. В этой области вынужденное излучение возникает только после окончания инжекциониого импульса в отличие от области нор­ мальной генерации (I), где генерация происходит во время токового импульса, и области спонтанного излучения (III), где не наблюдается генерации лазерного излучения. Темпе­

ратура перехода Г( около 140 К.

412 Глава 17. Влияние ловушек на люминесценцию

только в заштрихованной области II, расположенной выше темпе­ ратуры перехода, за которой наблюдаются длительные временное задержки генерации лазерного излучения. В области I лазерное излучение возникает во время возбуждения (с большой задерж­ кой, когда Т Ті). В области III можно получить только спон­ танное излучение.

Внутренняя модуляция добротности может быть интерпретиро­ вана с позиций модели двойного акцептора, той самой модели захвата, которая была использована для объяснения эффекта вре­ менной задержкп (оба эффекта наблюдаются на одних и тех же приборах). Эта модель требует, чтобы уровень Ег был опустошен к концу импульса тока, благодаря чему состояние Тг2 оказалось бы ликвидированным и, таким образом, появилась бы возмож­ ность генерации пика лазерного излучения.

§6, ТРИБОЛЮМИНЕСЦЕНЦПЯ

1.Люминесценция, возбуждаемая деформацией

Триболюминесцеицпя представляет собой испускание света в ответ на механическое возбуждение. Давление благодаря пьезо­ электрическому эффекту может создавать локальное электрическое

----

-

5

--------- 1

L

4

4,5

 

5,5

6

 

 

А.,

ГО'3 А

 

 

Ф и г . 17.20. Спектр триболюминесценции

(жирная линия) и фотолюминес­

ценции (тонкая

линия)

для

ZnS,

легированного

Ми [22].

поле. При локальном поле около 10е В/см, которое легко дости­ жимо, энергия деформации преобразуется в излучение. Пробой Зинера может приводить к генерации электронно-дырочных пар, которые будут затем рекомбинировать. Если часть этих носителей будет захвачена, то они примут участие в процессах излучения позже.

£ 6. Триболюминесценция

413

Были детально изучены триболюминесцентные свойства ZnS, легированного Мп [22]. В этом случае триболюминесценция гене­ рировалась с помощью ударов молоточка, приводимого в движение соленоидом, что позволило воспроизводимо управлять давлением. После ударного импульса люминесценция спадала с постоянной времени в интервале от 0,1 до 1 мс. Триболюминесценция, генери­ руемая путем трения между движущимися кусками ZnS, давала почти непрерывное излучение, спектр которого мог быть измерен.

Было установлено, что спектр триболюминесцеіщии тождествен спек­ тру фотолюминесценции (фиг. 17.20). Это свидетельствует о том, что при триболюмииесценции нро-

Ф и г. 17.21. Связь между триболюминесцеицией L и возбуждением Р в ZnS

123].

цессы излучательной рекомбинации подобны процессам рекомби­ нации свободных носителей.

В ударных экспериментах [22] интенсивность люминесценции растет с ростом давления до максимальной, величины и при даль­ нейшем увеличении давления уменьшается, как если бы начинался процесс гашения. Исследование временных характеристик ударной триболюмипесцеицпи показывает, что излучение возникает только с началом уменьшения давления (фиг. 17.21) [23]. Этот результат находится в согласии с приведенной выше гипотезой о том, что возникающее благодаря пьезоэлектрическому напряжению локаль­ ное поле генерирует электронно-дырочные пары, пространственно разделенные этим локальным полем. Когда же деформация умень­ шается, падает напряженность электрического поля и электроны и дырки могут диффундировать навстречу друг другу для после­ дующей рекомбинации.

2. Люминесценция, стимулируемая деформацией

Если ZnS при охлаждении подвергается механическому воздей­ ствию, такому, как дробление, носители могут переходить на глубокие ловушки, где они остаются замороженными в течение дли­ тельного времени. Если затем образец нагревается, носители осво­ бождаются из ловушек и имеет место испускание света. Этот процесс носит название «триботермолюминесценция».

К этому типу люминесценции мы будем также относить меха­ ническую активацию носителей из ловушек в случае, когда элек-

(

414

Глава 17. Влияние ловушек на люминесценцию

троицо-дырочные пары создаются посредством другого вида возбуждения, в частности с помощью света. Как показано на конфи­ гурационной диаграмме (фиг. 17.22), деформация приводит к сме­ щению носителя вдоль метастабильного состояния в область боль­ ших энергий, в результате становится возможным его освобожде­ ние для радиационного перехода. Кристаллы CclS, накачанные

при низкой температуре излучением с длиной вол­ ны, меньшей 6900 А, удер­ живали носители на ловуш­ ках в течение очень дли­ тельного времени. Если затем кристалл ударяли молоточком в направлении С-оси, наблюдалась вспыш­ ка зелено-голубого света

Ф и г. 17.22. Конфигурацион­ ная модель, поясняющая ипду- ♦ цирование люминесценции с по-

г мощью деформации.

[24, 25]. Повторяя удары, можно получить сотни вспышек после одной оптической накачки. В спектре излучения наблюдается четы­ ре или пять пиков, разделенных расстоянием, соответствующим энергии LO-фонона. Эти спектры очень похожи на спектры фотолю­ минесценции того же вещества, только с тем исключением, что в ударной люминесценции доминирует второй пик, а в фотолюми­ несценции — первый.

3. Люминесценция при изломе

Другая форма триболюминесценции наблюдается при разламы­ вании полупроводника. Если кристалл разламывать в темноте, то иногда можно видеть голубую вспышку. Предполагают, что это излучение обусловлено ' образованием поверхностных состояний на возникшей новой поверхности и перегруппировкой носителей на ней. По-видимому, первоначальное перераспределепие электро­ нов, имеющих значительную положительную энергию, по поверх­ ностным состояниям происходит с излучением (в противополож­ ность последующей поверхностной рекомбинации, которая являетсябезызлучательной).Триболюминесценции при разламывании была исследована в кремнии *). Для измерения спектра излучения

х) О. Parodi, частное сообщение, 1957; D. А . Jenny, частное сообще­

ние, 1957.

Литература

4 1 5

получали серию следующих с малым интервалом, вспышек при пес­ коструйной обработке кремниевых кристаллов. В результате этого процесса создавались с большой скоростью небольшие тре­ щины. Для получения стационарного источника света кристалл медленно вращался перед струей песка так, чтобы точка соударе­ ния всегда находилась в фокусе оптической системы. Спектр излу­ чения был очень широким, простирающимся в видимую область.

Весьма возможно, что свет, излучаемый при образовании тре­ щин, возбуждается деформациями, которые приводят к раскалы­ ванию кристалла. В этом случае поверхностные состояния не будут участвовать в процессах люминесценции. Возможно также, что люминесценция при раскалывании представляет собой не что иное, как свечение воздуха в дуге между заряженными свежесколотыми поверхностями.

>ЛИТЕРАТУРА

1.Bube R. II., Photoconductivity in Solids, Wiley, 1960. (Имеется перевод:

Бьюб Р., Фотопроводимость твердых тел, ИЛ, 1962.)

2.Leverenz II. W ., An Introduction to Luminescence of Solids, Wiley, 1950, p. 299.

3.

Curie D., Luminescence in Crystals, Wiley, 1963.

 

4.

Bube R. II., Phys. Rev., 80, 655 (1950).

100, 72 (1953).

 

5.

Klasens H. A .,

Journ. Electrochem. Soc.,

 

6.

Riehl N., Baur

G., Mader L., Thoma P., в книге И —VI Semiconducting

 

Compounds, ed. D. G. Thomas, Benjamin, 1967, p. 724.

 

7 .

Shionoya S., Kallmann II. P., Kramer B.,

P h y s . R e v . , 1 2 1 ,

1 6 0 7 ( 1 9 6 1 ) .

8.

Meijer G., Journ. Phys. Chem. Solids, 7, 153 (1958).

 

9.

Fenner G. E.,

Solid State Electr., 10, 753

(1967).

 

10.

Konnerlh K., Lanza C., Appl. Phys. Lett., 4, 120 (1964).

 

11.

Carlson R. O., Journ. Appl. Phys., 38, 661 (1967).

 

1 2 .

Dobson C. D., Franks J.,

Keeble F. S., I E E

E

J o u r n . Q u a n t u m E l e c t r . , 4 ,

 

1 5 1 ( 1 9 6 8 ) .

 

O., E l e c t r . L e t t . ,

 

 

 

1 3 .

Guekos G., Strutt M. J.

 

3 , 2 7 6 ( 1 9 6 7 ) .

 

14. Dynient J. C., Ripper J. E., IEEE Journ. Quantum Electr.. 4, 155 (1968).

15.

Konnerth K., IEEE Trans. Electr. Devices, 10, 506 (1965).

16.

Winogradolf N.

N.. Kessler II. K., Solid State Comm., 2,

119 (1964).

17.Pankove J. I., IEEE Journ. Quantum Electr., 4, 161 (1968); 4, 427 (1968).

18.Труды IX Международной конференции но фпзнке полупроводников

19.

(Москва, 1968), стр. 591, изд-во «Наука», 1969.

Pankove J. I., Bull. Am. Phys. Soc., 13, 1657 (1968).

20.

Ripper J. E., IEEE Journ. Quantum Electr., 5,

391 (1969).

21. Ripper J. E., Dyment J. C., Appl. Phys. Lett., 12, 365 (1968).

22.

Chudacek I., Czechoslovak Journ. Phys., 15, 359 (1965); 17, 34 (1967).

23.

Sadomka L., Czechoslovak Journ. Phys., 14, 800 (1964).

2 4 .

Warschauer D. M., Reynolds D.

C., J o u r n .

P h y s .

C h e m . S o l i d s , 1 3 , 2 5 1

 

(1 9 6 0 ) .

Phys. Rev.,

125,

516 (1962).

25. Litton C. W ., Reynolds D. C.,

\

МОДУЛЯЦИЯ ОТРАЖЕНИЯ Ц

Модуляция отражения представляет незначительный интерес при разработке полупроводниковых устройств, являясь в.то же время очень ценным методом исследования зонной структуры полупроводников [1—4]. Наиболее очевидное (хотя и довольно неэффективное) практическое применение модуляции отражения можно представить себе в виде устройства для управления интен­ сивностью отраженного излучения. Более важное практическое применение состоит в выяснении (перазрушающим методом [5]) влияния радиационных нарушений, когда при помощи измерения отражения определяется изменение концентрации носителей и их времени релаксации.

Будем отличать модуляцию света в приповерхностном слое (происходящую при hv > Eg) от модуляции света, отраженного от некой поверхности внутри кристалла, что может иметь место при h v < .E g . В последнем случае свет может пройти дважды (туда п обратно) через область, поглощение которой модулируется, так что, хотя отраженный пучок и оказывается промодулнроваиным, активным процессом является поглощение, а ие отражение. В качестве примера .можно привести модуляцию пучка света, отра­ женного от поверхности (/г-типа), под которой находится р п- переход. Если р — /г-переход включен в прямом направлении, то концентрация дырок перед ним возрастает, приводя к усилению. поглощения свободными носителями за счет переходов между валентными подзонами. Это поглощение обладает характерной спектральной .зависимостью, которая и наблюдается у модулиро­ ванного излучения, отраженного от р п -перехода. В германии в результате инжекции дырок интенсивность отраженного света (с длиной волны 9 мкм) уменьшалась на 80% [6].

В отличе от вышеупомянутой модуляции поглощения при энер­ гиях фотона, много меньших ширины запрещенной зоны, ранние исследования модуляции отражения были выполнены в области энергий, которые близки к ширине запрещенной зоны или немного меньше» ее [7]. Наблюдались небольшие изменения отражения

а) В советской литературе этот метод, как и аналогичные ому, относят к области «дифференциальной спектроскопии», включающей также методы модуляции поглощения света.— Прим. ред.

§ 1. Зависимость отражения от зонной структуры

. 417

(порядка 1% или менее), возникающие в результате

инжекции

в область вблизи отражающей внешней поверхности. Эта модуля­ ция отражения связывалась с изменением комплексного показате­ ля преломления за счет вклада свободных носителей в диэлектриче­ скую восприимчивость [8]. Поверхностный слой с диэлектрической проницаемостью, несколько отличающейся от диэлектриче­ ской проницаемости объема, действует как отражающий или про­ светляющий диэлектрический слой, показатель преломления и толщина которого модулируются инжектированными носителями. Интенсивный свет лазера с модулированной добротностью может создавать очень высокую концентрацию электронно-дырочных пар, приводя к появлению в полупроводнике отражения металлическо­ го типа [9].

В этой главе мы рассмотрим, каким образом периодические возмущения зонной структуры вблизи поверхности полупроводни­ ка влияют на отражение. Хотя в некоторых случаях в процессе модуляции зонная структура в объеме также может меняться, при измерениях отражения зондируется прежде всего поверхность. Отражение зависит от таких параметров, как давление, темпера­ тура и электрическое поле.

§1. ЗАВИСИМОСТЬ ОТРАЖЕНИЯ ОТ ЗОННОЙ СТРУКТУРЫ

Коэффициент отражения определяется следующей формулой:

ч (ц -1 )2+fc2

(18.1)

(и +1)2-|-/са ’

 

где и — действительная часть показателя преломления, а к — коэффициент экстинкции. В § 1 гл. 4 [формула (4.7)] мы нашли, что

CCL

Ji = 4яѵ ’ (18.2)

где а — коэффициент поглощения. В области энергий, которые близки к ширине запрещенной зоны или меньше ее, величина к обычно мала по сравнению с п — 1; поэтому величина R в основ­ ном зависит от п:

п —1

(18.3)

■/г+ І

 

В § 3 гл. 4 мы приводили соотношение Крамерса — Кронига для показателя преломления

п (в ) _1 _

ch р

f

а

(•g')

1

2 я 2 Г

J

( £

' ) 2 _ £ 2

27—01085

418

Глава 18. Модуляция отражения

где Р означает главное значение интеграла по Коши. Интегриро­ вание по частям дает

1

da (E’)

dE'.

(18.4)

(£')2_Д'2

dE'

I)

 

 

 

Когда логарифмический множитель велик, значение интеграла зависит в основном от производной. Далее, а (Е ') зависит от ком­ бинированной плотности состояний и возрастает для переходов

Обозначение

 

 

 

Тип крит и­

 

Е(кх)

Е(ку)

E (k z)

ческой

 

 

 

 

т очки

М0

\ J

KI

\ J

Минимум

М,

\J

\ J

^

Седло

М г

 

А А _ Седло

м з

A“-A"-A

Максимум

 

 

Ф и г . 18.1. Критические

точки,

для которых

VhE {к) — 0.

вблизи критических

точек.

Критические точки определяются

условием Ѵд ІЕС(к) Е ѵ (к)] =

0. Простейшие критические точ­

ки — точки, для которых

 

 

 

dEc (к)

_ dEv (к)

dk

~~

dk

~~и '

Имеется четыре типа критических точек, они показаны на фиг. 18.1, где изображена зависимость Е (к) вдоль каждого направления в трехмерном пространстве импульсов. На фиг. 18.2 приведены соответствующие зависимости комбинированной плотности состоя­ ний от энергии.

Поскольку а (Е') пропорционально комбинированной плот­ ности состояний, то величина da (E')ldE' в формуле (18.4) будет велика и положительна при энергиях, больших Е 0 и меньших Ег, или велика и отрицательна при энергиях, больших Е2 и меньших Е 3. Поэтому показатель преломления, определяемый формулой (18.4), будет проходить через максимум при Е 0 и Е1 и через мини­ мум при Е2 и Е 3. Мы можем получить дальнейшую информацию,

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ