Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Панков Ж. Оптические процессы в полупроводниках пер. с англ

.pdf
Скачиваний:
100
Добавлен:
27.10.2023
Размер:
20 Мб
Скачать

§ 1. Зависимость отражения от зонной структуры.

419

касающуюся этих максимумов и минимумов, основываясь на рас­ пределении состояний по энергиям: прямые переходы между пара­ болическими зонами, разделенными зазором E g, дают величину а (Е), пропорциональную Е g)1^. Вблизи этой критической точки типа Мо da (E)ldE пропорционально (Е Е 8 т. е. имеет корневую особенность при Eg. С другой стороны, для запрещенных переходов, когда а (Е) пропорционально (Е Eg)3/* и для непря­ мых переходов, когда а (Е) пропорционально (Е Е я)3, производ­ ная da (.й'Уіій'плавно стремится к нулю вблизи критической точки.

Ф и г. 18.2. Комбинированная плотность состоянии для четырех основных типов критических точек.

В случае экситонов комбинированная плотность состояний отлич­ на от нуля в узком интервале энергий, поэтому экситонам соот­ ветствуют большие значения da (E)/dE.

Следовательно, в спектре показателя преломления появляется структура каждый раз, когда da (E)ldE проходит через большой максимум или минимум. Спектр отражения воспроизводит струк­ туру спектра показателя преломления.

Структуру в спектре показателя преломления и, следовательно, отражения можно сделать более рельефной путем периодической модуляции параметра, влияющего на комбинированную плот­ ность состояний. При помощи синхронного детектирования можно выделить сигнал, связанный с зависящей от времени частью отра­ жения. Рассмотрим для примера эффект модуляции отражения электрическим полем.

Показатель преломления при некотором значении поля Швыра­

жается

формзыюй [101

 

 

 

п(Е ,

а { Е ', 0)

dE'

Да (Е ', %)

dE', (18.5)

8 ) - i = -f-J (£')2— £2

(Е')2—£2

о

где первый интеграл дает величину п (Е , 0) — 1, т. е. определяет п (Е) в отсутствие поля. Следовательно, изменение в п (Zs1), вызван­ ное приложенным полем, записывается в виде

Да (S', %)

dE'. '

(18.6)

Ап(Е, g) = 4 J (£')2— £2

о

420

Глава IS. Модуляция отражения

Зависимости действительной и мнимой частей диэлектрической проницаемости (s1 и е2 соответственно) от энергии фотона Е = Тки

Ф и г . 18.3. Сводка частотных зависимостей изменения диэлектрической проницаемости в электрическом поле для разных типов критических точек [И].

Форма линий Aet (со, Е) и Д е, ( со, Е) вычислена при условии: ЛѲ = 10 маВ, Eg = 0,8 эВ и В = 1. Здесь р = (йш — Eg)/hQ, А = — Ѳ1/ 2)/ш*.

изображены на фиг. 18.3 для нулевого поля и поля конечной вели­ чины. Нетрудно заметить изменение диэлектрической проницае­

§ 2. Методы модуляции отражения

421

мости, вызванное полем, для различных типов критических точек. Зависимости от энергии величин Ап и Да, даваемые формулой

(18.6),

подобны представленным на фиг. 18.3 зависимостям Дех

и А82

соответственно.

Вспомним, что в п. 2 § 3 гл. 2 мы рассматривали уширение дис­ кретного уровня за счет эффекта Келдыша — Франца. При уширении однородным полем зоны состояний вероятность нахождения частицы описывается функцией Эйри [12]. Функция Эйри харак­ теризуется экспоненциальным спадом, с одной стороны от края зоны, соответствующего нулевому полю, и осцилляциями с убы­ вающими амплитудой и периодом с другой стороны от этого края. Эти осцилляции видны на фиг. 18.3. Если, однако, электрическое поле не однородно, то интерпретация данных по отражению становится более трудной, как мы это увидим в п. 1 § 2 гл. 18.

Хотя в интеграл в формуле (18.6) вносят вклад переходы с лю­ быми энергиями, существенны только изменения а вблизи кри­ тических точек. Переходы с энергиями, много большими или много меньшими чем Е, вносят пренебрежимо малый вклад в значение интеграла в точке Е, поскольку этим энергиям соответствует очень

большая

абсолютная

величина знаменателя.

 

Используя

соотношение

Крамерса — Кронига

для расчета

относительного

изменения

отражения,

вызванного

изменениями

в п и а ,

получаем следующее выражение:

 

 

 

 

 

сТг Г Да ( ') dE'

 

 

 

 

 

 

~пJ (.ЕУ--Е2

2Ё-ВАа(Е),

(18.7)

где

 

 

о

 

 

 

 

 

 

. А =

 

п2 — к2 — 1

 

 

 

 

 

 

 

и

 

[(? ? ,+ 1 )2 +

7с2] [ ( и — l) 2 +

fc2]

 

 

 

 

 

8nie

 

 

 

 

 

В = -

[ ( W + l )2+

)2+

 

 

 

 

f t 2] [ ( 'Л — l

fc2] •

 

 

 

 

 

В германии [10] АR/R = 0,267Д?г + 0,0022Д7г. В GaAs [13] также И > В. Следовательно, AR/R гораздо сильнее зависит от Ап,

чем от Ак = %Аа/4п.

§2. МЕТОДЫ МОДУЛЯЦИИ ОТРАЖЕНИЯ

1.Электроотражение

Электрическое поле может' быть приложено вдоль поверхности полупроводника. Для этой цели между двумя электродами, напы­ ленными па переднюю поверхность, прикладывается переменное напряжение, так чтобы электрическое поле существовало в обла­ сти между параллельными краями электродов [14]. Если толщина

422

Глава 18. Модуляция отражения

материала мала по сравнению с расстоянием между электродами, то поле в кристалле приблизительно однородно. В этом случае данные, характеризующие отражение, можно сравнить с данными по пропусканию, полученными в тех же условиях. Отметим, что при такой конфигурации можно изменять направление поляри­

зации падающего излуче­ ния по отношению к на­ правлению модулирующе­ го электрического поля.

Обычно, однако, элек­ трическое поле направлено перпендикулярно поверх­ ности, т. е. почти парал­ лельно направлению рас­ пространения света. Напримёр, для того чтобы приложить к образцу пере­ менное электрическое по­ ле, можно использовать прозрачные электроды, от-

Ф и г. 18.4. Действительная и мнимая части индуцированных полем изменении диэлектриче­ ской функции германия в об­ ласти прямых междузоииых переходов для различных по­

лей.

Верхняя пара кривых соответст­ вует приближению однородного по­ ля. Величина поля дана и В/см; <Де,>, отложенная по левой оси ор­ динат, пропорциональна ДЯ/fi, а <Де2> st (лс/ш) <Да> (отложена по

кривой оси ординат [16]).

деленные от поверхности 10-микронным слоем майлара [15]. Про­ тивоположная сторона образца делается шероховатой, чтобы умень­ шить отражение от задней поверхности. Эта методика позволяет регистрировать весьма малые относительные изменения отражения

(ДД/Д « 5 -ІО-6).

При интерпретации данных по электроотражению следует про­ являть большую осторожность. Если поле приложено перпендику­ лярно поверхности, то оно неоднородно внутри полупроводника. Эта неоднородность сильно влияет на форму спектра за счет эффек­ тов усреднения и смешения действительной и мнимой частей диэлектрической функции [16]. На фиг. 18.4 показано сильное влияние неоднородности электрического поля на вид осциллирую­

§ 2. Методы модуляции отражения

423

щей части диэлектрической функции (две верхние кривые относятся к случаю однородного поля). Экспериментальное доказательство влияния неоднородного поля на спектр электроотражения подтвер­ дило необходимость учета неоднородности поля при интерпрета­ ции данных [17].

Поскольку при синхронном детектировании неизбежно проис­ ходит некоторое усреднение, то существенно, чтобы модуляция * электрического поля осуществлялась при помощи волн прямо­ угольной формы с изменением поля между двумя фиксированными

значениями,

так

чтобы

 

спектр, полученный при по­

 

мощи такой дифференци­

я- тип

альной методики, соответ­

ствовал

определенному

 

значению поля (желатель­

 

но однородного).

 

 

Электрическое поле мо­

 

жно приложить к поверхно­

 

сти более простым

спосо-

 

Ф и г. 18.5. Изменение

внут­

реннего электрического

поля

на различных поверхностях.

Величина электрического поля определяется наклоном краев зон.

 

р-т и п

Инверсионный

/

Обогащенный

слой .

слой

бом, а именно путем погружения полупроводника в элек­

тролит, например

слабый раствор

КС1

в воде [18].

Перемен­

ное напряжение

прикладывается

между

образцом и

платино­

вым электродом, погруженным в электролит. Излучение попадает на образец через окно в ячейке. Коротковолновая граница пропу­ скания воды составляет 1700 А; в длинноволновой области спектра можно, работать вплоть до длин волн 2,6 мкм в системе с тонким слоем водного раствора или с органическим растворителем, не со­ держащим радикалов ОН [191. Эта простая техника позволяет про­ изводить скалывание образца в электролите, не подвергая его воз­ действию воздуха. К образцу можно приложить механические напряжения для исследования влияния деформации на зонную структуру [20]. Применение электролитов ограничено, однако, областью температур выше 200 К.

Отметим, что поверхностный потенциал, а следовательно, и электрическое поле на поверхности и вблизи нее зависят от по­ верхностных состояний и природы адсорбированных примесей, как это показано на фиг. 18.5. Внешнее поле индуцирует поверхно­ стный заряд, который может усилить или ослабить изгиб зон или даже изменить полярность поверхностного поля. Поскольку изгиб

424 Глава IS. Модуляция отражения

зон вблизи поверхности полупроводников п- и p-типа может иметь разные знаки, то пики в дифференциальном спектре отражения могут иметь противоположные полярности в материалах с разным типом проводимости.

Идеальная ситуация, когда измерения производятся в услови­ ях плоских зон, может быть получена, если к полупроводнику приложить постоянное напряжение, подобранное таким образом, чтобы поверхностный потенциал был равен нулю. В том случае, если зоны вблизи поверхности «выпрямлены», сигнал электроотра­ жения проходит через минимум [11].

2. Оптическая модуляция отражения

Если зоны изогнуты, то величину поверхностного потенциала можно менять, создавая вблизи поверхности большую концентра­ цию носителей. Носители могут быть генерированы при оптиче­ ском возбуждении вторым модулированным пучком сильно погло­ щаемого света. Оптическая инжекция выпрямляет зону, уменьшая таким образом поверхностный потенциал. Следовательно, макси­ мальная величина модулированного сигнала зависит от первона­

чального изгиба

зон,

который в свою очередь сильно

зависит

от окружающей

среды.

Этот оптический метод [21, 22],

иногда

называемый «фотоотражением», обладает несколько меньшей чув­ ствительностью, чем электроотражеиие (минимальное значение AR/R Ä ; ІО-4); преимущество его состоит в том, что отпадает необходимость в применении электродов. При использовании этого метода возможно также независимое изменение температуры и состава окружающей среды.

Для того чтобы избежать искажений в спектре отражения за счет модулирующего света, первый пучок света (зондирующий) создается монохроматором, а отраженный пучок попадает в спек­ трометр; сканирование спектра обоими приборами производится синхронно. Таким образом, при настройке приборов на одну и ту же длину волны величина фона, связанная со вторым модулиро­ ванным пучком, уменьшается.

3, Катодоотражение

Отметим, что поскольку высокая концентрация электронно­ дырочных пар может создаваться при бомбардировке быстрыми электронами, то поверхностный потенциал можно модулировать также электронным пучком. Следовательно, электронную бомбар­ дировку можно также использовать для модуляции отражения полупроводника [23]; этот метод можно назвать «катодоотражением». Однако, как мы видели в § 3 гл. 11, возбуждение электрон­ ным пучком не является эффективным методом генерации элек­

$ 2. Методы модуляции отражения

425

тронно-дырочных пар. Поэтому может происходить локальный разогрев. Метод модуляции отражения электронным пучком имеет преимущества в случае широкозонных материалов, когда трудно осуществить оптическое возбуждение. Другим преимуществом применения электронного пучка является относительно большая гибкость системы, объединяющей элементы электронной и свето­ вой оптики, по сравнению с методикой, где одновременно исполь­ зуются две различные оптические системы, как это было в случае фотоотражения, рассмотренном в предыдущем пункте. Одним из ограничений метода катодоотражения является то, что образец должен обязательно находиться в вакууме.

4.- Пьезоотражение

В данном методе [13, 24] в кристалле создается переменное механическое напряжение; измерения проводятся в поляризован-

Ф и г. 18.6. Схема измерения пьезоотражения [24].

ном свете. Напряжение представляет собой тензор с различными компонентами вдоль разных кристаллографических направлений.

426 Глава IS. Модуляция отражения

Это дает возможность получить информацию о свойствах симмет­ рии кристалла в различных критических точках.

Ыа фиг. 18.6 изображен моиокристаллическин стержень крем­ ния, соединенный с кварцевым преобразователем. Стержень выре­ зан вдоль направления [НО], поскольку эта ось параллельна трем главным кристаллографическим плоскостям (111), (НО) и (100). Таким образом, можно исследовать относительное изменение отра­ жения от различных поверхностей.

Хотя в спектре электроотражешш проще получить резкую структуру, метод пьезоотражения приводит к результатам совер­ шенно иного типа. Пьезоотражеиие дает производную спектра отражения по энергии фотона; напряжение изменяет ширину запрещенной зоны без заметного изменения распределения состоя­ ний в зоиах. С другой стороны, электроотражение дает изменения в распределении плотности состояний, индуцированные полем (эффект Келдыша — Франца).

5. Термоотражение

Тонкий образец полупроводника обладает малой тепловой инер­ цией. Поэтому его температуру можно периодически модулировать с низкой частотой (-•—■100 Гц). Быстрый нагрев можно осуществить, пропуская через образец ток пли помещая тонкий кристалл на малопнерцпониый нагреватель [25, 26].

Край зоны смещается с температурой, вызывая изменение энергии критических точек. Однако, поскольку различные кри­ тические точки обладают разными температурными коэффициента­ ми, структура спектра отражения будет определяться как комби­ нированной плотностью состояний, так и различием в темпера­ турных коэффициентах в каждой критической точке.

В отличие от ранее рассмотренных способов модуляции отра­ жения, когда свойства полупроводника менялись вдоль определен­ ного направления (поля или механического напряжения), в мето­ де термоотражения изменения являются изотропными.6

6. Модуляция длины волны

'Модуляция длины волны представляет собой простейшую схе­ му модуляции. Ее можно осуществить либо путем колебания выходной щели монохроматора в поперечном направлении 127], либо путем колебания зеркала, стоящего перед щелью, что приво­ дит к тому же результату [28]. Однако методом модуляции длины волны можно получить только производную статического спектра отражения, тогда как при модуляции отражения модули­ руется некоторый внутренний параметр, например комбинирован-

§ 3. Некоторые результаты

427

ная плотность состояний. Можно думать поэтому, что использова­ ние нескольких схем модуляции при исследовании одного и того же образца даст взаимно дополняющие результаты.

§ 3. НЕКОТОРЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ

На фиг. 18.7 показан пример структуры, которую можно полу­ чить на германии методом электроотражения. Пик 0,798 эВ наблю­ дается при энергии, несколько меньшей чем ширина зоны для

Ф и г . 1817. Зависимость относительного изменения коэффициента отраже­ ния ДR /R от энергии фотона [29].

Отрицательный знак ДЯ/Я соответствует уменьшению коэффициента отражения, вызван­ ному положительной полуволной модулирующего переменного поля. Величина трех пиков, отмеченных звездочкой, в 10 раз превышает указанную на фигуре.

прямых переходов. Пик с гораздо меньшей интенсивностью при 1,09 эВ соответствует прямым переходам из отщепленной валент­ ной подзоны Ѵ3. Пики 2,109 и 2,322 эВ приписываются переходам в точке Л (направление (111 )) из подзон Fx и Ѵ3 соответствен­ но, расстояние между которыми в этой точке зоны Бриллюэна соста­ вляет 0,2 эВ. Считается, что структура между 3 и 4 эВ связана с квадруплетным переходом Г25— Г15. Специальное исследование показало, что первый пик электроотражения германия зависит от окружающей среды и постоянного напряжения, приложенного к образцу одновременно с модулирующим полем [29]. Отметим, что большинство ранних данных (полученных до 1969 г.), возмож­ но, нуждается в пересмотре с учетом неоднородности электриче­ ского поля. На фиг. 18.8 показано влияние окружающей среды на отражение CdS в области края собственного поглощения. В дан­

428

Глава 18. Модуляция отражения

ном

случае модуляция создавалась оптическим возбуждением

(фотоотражение); поверхностный потенциал изменялся между величиной, определяемой окружающей средой, и меньшей вели­ чиной, получаемой в результате образования фото-э.д.с. на поверх­ ностном барьере.

Символы, которыми отмечены различные особенности струк­ туры электроотражения GaAs, показанной на фиг. 18.9 [31],

Ф и г . 18.8. Зависимость отражения, модулированного светом, от энергии фотона для гексагонального CdS при комнатной температуре в различных газовых средах [30].

Направление распространения света параллельно с-оси.

позволяют сопоставить эту структуру с соответствующими пере­ ходами на зонной диаграмме (фиг. 18.10). Все эти пики смещаются при изменении температуры; их интенсивности находятся в той или иной нелинейной зависимости от амплитуды модулирующего поля [32]. Пик с наименьшей энергией 1,38 эВ (на 30 мэВ меньше, чем ширина запрещенной зоны при комнатной температуре) при­ писывается примесному уровню, вероятно, акцепторному. Пик 1,42 эВ соответствует прямым межзонным переходам. В области 1,77 эВ имеется очень похожий пик, соответствующий переходам из отщепленной валентной подзоны (Е 0 + Д0). Другая серия пиков наблюдается при Ег и Ег + Ах; эти пики соответствуют переходам Д зв — А1с из подзон ТД и У2 соответственно. Температурная зави-

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ